公开(公告)号：JP2005293854A

公开(公告)日：2005-10-20

申请号：JP2004102452

申请日：2004-03-31

Applicant: Daiken Kagaku Kogyo Kk ,  Kurita Seisakusho:Kk ,  Hiroshi Takigawa ,  大研化学工業株式会社 ,  株式会社栗田製作所 ,  浩史 滝川

Inventor： TAKIGAWA HIROSHI ,  NISHIMURA YOSHIMI ,  HARADA AKIO

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/304 ,  H05H1/30 ,  H05H1/36

CPC classification number: H05H1/36 ,  H05H1/48

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a power supply circuit for plasma generation, and a plasma generator capable of smoothly obtaining a plenty of generated plasma without having the device larger-sized, as well as a plasma treatment device capable of putting a plenty of treated objects under plasma treatment at low cost and a target item having target quality passing the plasma treatment, with the use of such a plasma generator. SOLUTION: An LC series circuit serially connecting a capacitor C and a coil L is provided between one of the outputs of an alternate high-voltage generating circuit generating alternate high voltage to be impressed between each electrode for discharge generation consisting of two or more first electrodes and one or more second electrodes and the above first electrodes. When discharge is generated at one of the electrode pairs, voltage fall is restrained by the coil even if discharge of the capacitor is progressed, and discharge by the other electrode pair is induced without being intervened, so that a plenty of plasma can be smoothly generated with a common use of the alternate high-voltage generating circuit. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：为了实现等离子体产生的电源电路以及能够平滑地获得大量产生的等离子体而不使装置尺寸更大的等离子体发生器，以及能够放置等离子体处理装置 通过使用这种等离子体发生器，以低成本等离子体处理的大量处理对象和具有通过等离子体处理的目标质量的目标物品。 解决方案：串联连接电容器C和线圈L的LC串联电路设置在产生交替高压的交替高压产生电路的输出之间，以在每个用于放电产生的电极之间施加电压，由两个或 更多的第一电极和一个或多个第二电极和上述第一电极。 当在一个电极对上产生放电时，即使电容器的放电进行，线圈也抑制了电压下降，并且由于其它电极对的放电而被引入而不被介入，从而可以平稳地产生大量的等离子体 通常使用交替的高压发生电路。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP2005285520A

公开(公告)日：2005-10-13

申请号：JP2004097172

申请日：2004-03-29

Applicant: Daiken Kagaku Kogyo Kk ,  Kurita Seisakusho:Kk ,  Hiroshi Takigawa ,  大研化学工業株式会社 ,  株式会社栗田製作所 ,  浩史 滝川

Inventor： TAKIGAWA HIROSHI ,  NISHIMURA YOSHIMI ,  HARADA AKIO

IPC: H05H1/30 ,  B01J19/08 ,  H01J37/32 ,  H05H1/24 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32009 ,  H01J37/32541 ,  H05H1/48 ,  H05H2001/488

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma-generating electrode capable of stably and surely generating discharge between opposing electrodes and continuously generating plasma with ease, and to provide a plasma generator and a plasma treatment device. SOLUTION: On the plasma-generating electrode 4 for generating plasma between electrodes 4a, 4b, sharp protrusions 4g facing each other are formed at least on one electrode 4a of the electrode A so as to generate a discharge between the protrusion 4g and the electrode 4b at another side, and to generate a plasma. The sharp protrusions 4g may be formed in any shape. If only any fluid is made to flow from a flow feeder 7, required air plasma or liquid plasma can be generated. If a matter to be treated is treated with the plasma, a plasma device such as a film-forming device, a processing device, and a powder treatment device can be constituted. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Abstract translation: 解决的问题：提供能够稳定且可靠地在相对电极之间产生放电并且容易地连续产生等离子体的等离子体产生电极，并且提供等离子体发生器和等离子体处理装置。 解决方案：在用于在电极4a，4b之间产生等离子体的等离子体产生电极4上，在电极A的至少一个电极4a上形成彼此面对的尖锐突起4g，以便在突起4g和 电极4b在另一侧，并产生等离子体。 尖锐的突起4g可以形成为任何形状。 如果只有任何流体从流动进料器7流出，则可以产生所需的空气等离子体或液体等离子体。 如果用等离子体处理待处理的物体，则可以构成诸如成膜装置，加工装置和粉末处理装置之类的等离子体装置。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP2004323973A

公开(公告)日：2004-11-18

申请号：JP2004112718

申请日：2004-04-07

Applicant: Kurita Seisakusho:Kk ,  株式会社栗田製作所

Inventor： NISHIMURA YOSHIMI ,  YATSUKA MITSUYASU

IPC: C23C16/27

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To thickly and uniformly deposit a DLC (Diamond Like Carbon) film on the surface of a base material such as a low melting point alloy, copper, brass or the like with high adhesion while suppressing the increase of the temperature rise in the base material itself.
SOLUTION: A high frequency power source 11 for plasma generation and a power source 12 for high voltage pulse generation are connected to a superimposition apparatus 9. Further, the superimposition apparatus 9 is connected to a base material 1 in a chamber 2 via a common feed through 8, a high frequency pulse is applied to the base material 1 from a high frequency power source 11 for plasma generation, and a negative high voltage pulse is applied to the base material 1 from the power source 12 for high voltage pulse generation in the plasma or afterglow plasma.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

公开(公告)号：JP2017216164A

公开(公告)日：2017-12-07

申请号：JP2016109536

申请日：2016-05-31

Applicant: 株式会社栗田製作所

Inventor： 西村 芳実

IPC: H05H1/24

Abstract: 【課題】プラズマを効率的に発生させ、プラズマ処理の高性能化を実現し得るプラズマ発生方法およびプラズマ発生装置を提供することである。 【解決手段】 プラズマ発生部1には、導線58、59先端間に還流部60が配置されている。導線58、59先端間を流下した流体が、湾曲面76に当接して跳ね返って空間68内に戻る還流が生じる。流体が一方向に流れ落ちるだけでは、導線58、59先端間を一度通過するだけであるためプラズマ処理効果が非効率になるおそれがある。流体が還流部60の還流作用を受けて、導線58、59先端間付近で乱流化して、複数回、高電圧高周波パルスの印加を受けて高電圧放電を繰り返してプラズマ発生が効率的に行われる。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP2017174586A

公开(公告)日：2017-09-28

申请号：JP2016058223

申请日：2016-03-23

Applicant: 株式会社栗田製作所

Inventor： 杉原 雅彦

IPC: H05H1/46

CPC classification number: H05H1/46

Abstract: 【課題】種々の処理仕様に応じたプラズマ処理を一つのチャンバー内で行うことができるプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供することである。 【解決手段】 少なくともRF出力および/または高電圧パルスの印加態様を含むプラズマ処理条件が設定可能になっている。チャンバー1内への処理ガスを導入した後、チャンバー1内に設置されたワークWと導通接続された導体6を介してRF電源2のRF出力と高電圧発生装置3の高電圧パルスとが、設定処理条件に応じて重畳してワークWに印加される。所望の印加態様を記憶、設定することにより、種々の処理仕様に応じたプラズマ処理が実行制御される。 【選択図】図3

公开(公告)号：JP2016081676A

公开(公告)日：2016-05-16

申请号：JP2014210918

申请日：2014-10-15

Applicant: 株式会社栗田製作所

Inventor： 西村 芳実

IPC: C02F1/48 ,  H05H1/24

Abstract: 【課題】水質改善等において安価且つ簡易にプラズマ処理を行うことのできる流体中プラズマ発生方法及び流体中プラズマ発生装置を提供する。 【解決手段】循環ポンプ装置の駆動によって循環流路における流水の循環が行われる。ノズル装置19を中空部材20に挿着した状態において、給水管11から給水された水は貫通穴31を経てオリフィス部32に導入され、オリフィス部32のオリフィス33より中空部材20の縮径部21側に噴出される。流水が中空部材20を流通し、電極12、13間に高周波高電圧パルスが印加されることにより、流水中の気泡に対してプラズマ放電が発生する。 【選択図】図2

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够以低成本，容易地进行水质改性等进行等离子体处理的流体内等离子体产生方法以及流体内等离子体产生装置。解决方案：流动水循环循环 通过驱动循环泵装置。 在将喷嘴装置19安装在中空部件20中的状态下，从供水管11供给的水经由通孔31被导入孔部32，并从孔部32的孔33喷射到 在空心构件20中的直径减小部21的侧面。流动水通过中空构件20循环，并且在电极12和13之间施加高频高压脉冲，从而相对于流动中的气泡产生等离子体放电 水。图2

公开(公告)号：JP2013211204A

公开(公告)日：2013-10-10

申请号：JP2012081750

申请日：2012-03-30

Applicant: Osaka City Univ ,  公立大学法人大阪市立大学 ,  Nagoya Univ ,  国立大学法人名古屋大学 ,  Kurita Seisakusho:Kk ,  株式会社栗田製作所

Inventor： SHIRAFUJI RITSU ,  TAKAI OSAMU ,  SAITO NAGAHIRO ,  NISHIMURA YOSHIMI ,  HORIBE HIROSHI ,  SUGIHARA MASAHIKO ,  KAKITANI SHINICHI ,  ARAKI MANABU

IPC: H05H1/24 ,  C02F1/48

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a submerged plasma generating method, a submerged plasma generating device, a processed liquid purifying device, and an ion containing liquid creating device which highly efficiently create submerged plasma.SOLUTION: A porous dielectric 2 having numerous continuous holes 24 is provided. A mixed liquid containing a liquid or an operation gas is supplied from a conductivity introduction part 14 to the continuous holes 24 of the porous dielectric 2, and a voltage is applied to the porous dielectric 2 to generate electric discharge within the numerous continuous holes 24. Thus, plasma generates within the numerous continuous holes 24 to create liquid derived plasma and/or operation gas derived plasma.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种浸没式等离子体生成方法，浸没式等离子体产生装置，处理液净化装置和高效地产生浸没式等离子体的含离子的液体产生装置。解决方案：具有多个连续孔24的多孔电介质2 被提供。 将含有液体或操作气体的混合液体从导电性导入部14供给到多孔质电介质2的连续孔24，向多孔质电介质2施加电压，在多个连续孔24内产生放电。 因此，等离子体在多个连续孔24内产生以产生液体衍生的等离子体和/或操作气体衍生的等离子体。

公开(公告)号：JP2012101140A

公开(公告)日：2012-05-31

申请号：JP2010249018

申请日：2010-11-05

Applicant: Kurita Seisakusho:Kk ,  Nagoya Univ ,  国立大学法人名古屋大学 ,  株式会社栗田製作所

Inventor： NISHIMURA YOSHIMI ,  HISHIDA SHIGEJI ,  TOYAMA MITSUHIRO ,  TAKAI OSAMU ,  SAITO NAGAHIRO ,  HIEDA JUNKO ,  TERAJIMA CHIAKI

IPC: B01F1/00 ,  C01B31/02

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a powder solubilization method in which surface modification treatment of slightly soluble powder such as a CNM is accelerated, and thereby which can perform a lot of surface modification treatment by low cost, and to provide a powder solubilization apparatus which can perform powder solubilization treatment based on the powder solubilization method.SOLUTION: A termination part 5 of a stirring member 4 is made a counter electrode of an electrode 14 in liquid, and a synthetic voltage V of a high voltage high frequency pulse generator 17 is impressed between both electrodes. A CNT at a vicinity of a water surface 32 or a CNT 11 which floats on a water surface 32 serves as a powder electrode by impression of the synthetic voltage V, and makes a plasma discharge 27 in liquid generate with the electrode 14 in liquid. A circumference of the electrode 14 in liquid reaches a boiling status by the plasma discharge 27 in liquid, an active water steam 28 containing radicals such as Hand OHarises. The floating CNT powder is made hydrophilic in such that a hydration layer is formed at a CNT circumference by contacting with the active water steam 28 and the plasma in liquid.

Abstract translation: 待解决的问题：提供一种粉末溶解方法，其中加速了诸如CNM的微溶性粉末的表面改性处理，从而可以以低成本进行大量的表面改性处理，并提供粉末 溶解装置，其可以基于粉末溶解法进行粉末溶解处理。 解决方案：将搅拌构件4的终端部分5制成液体中的电极14的对电极，并且在两个电极之间施加高压高频脉冲发生器17的合成电压V. 漂浮在水面32上的水面32或CNT11附近的CNT通过合成电压V的印象而成为粉末电极，并且使液体中的电极14产生液体中的等离子体放电27。 液体中的电极14的周边通过液体中的等离子体放电27达到沸腾状态，包含自由基的活性水蒸汽28，例如H + 和OH - 出现。 漂浮的CNT粉末被制成亲水性，使得通过与活性水蒸汽28和液体中的等离子体接触在CNT周边形成水合层。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4344640B2

公开(公告)日：2009-10-14

申请号：JP2004102737

申请日：2004-03-31

Applicant: 日新電機株式会社 ,  株式会社栗田製作所

Inventor： 隆司 三上 ,  潔 緒方 ,  芳実 西村 ,  亨 雨宮

IPC: C23C14/32

公开(公告)号：JP2006277953A

公开(公告)日：2006-10-12

申请号：JP2005090160

申请日：2005-03-25

Applicant: Kurita Seisakusho:Kk ,  Sumitomo Osaka Cement Co Ltd ,  Toyohashi Univ Of Technology ,  住友大阪セメント株式会社 ,  国立大学法人豊橋技術科学大学 ,  株式会社栗田製作所

Inventor： TAKIGAWA HIROSHI ,  SHIKI HAJIME ,  MOTOKI JUNPEI ,  OTSUKA TAKASHI ,  KINOSHITA NOBORU ,  NISHIMURA YOSHIMI

IPC: H05H1/34 ,  B01J19/08 ,  H01L21/304

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma treatment device and a treatment method for preventing damages by plasma on conductive/semi-conductive treated surface or a conductive/semi-conductive treated thin film by efficiently applying a plasma treatment on the surface or the thin film in an atmospheric pressure. SOLUTION: The plasma formation device 2 is composed of a plasma generation part 4 with a gliding arc electrode pair 18 with a distance between the electrodes becoming larger toward a working gas moving direction and an emission port 20 emitting plasma to the plasma generation part 4, with a tip of the electrode pair 18 located inside the emission port 20. The working gas 14 above or near an atmospheric pressure is to be supplied between the electrodes by a working gas supply means and arc 4a generated between the electrodes at impression of voltage produces gliding arc moving toward a wider opening of the electrodes to form plasma. The plasma formation device 2 radiates this plasma from the emission port 20. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种等离子体处理装置和处理方法，用于通过在表面上有效地施加等离子体处理来防止导电/半导电处理表面或导电/半导体处理的薄膜上的等离子体的损伤 或大气压下的薄膜。 解决方案：等离子体形成装置2由等离子体产生部分4组成，等离子体产生部分4具有滑动弧电极对18，电极之间的距离朝向工作气体移动方向变大，并且发射端口20将等离子体发射到等离子体产生 部分4，电极对18的尖端位于排放口20内部。大气压力以上或接近大气压力的工作气体14将通过工作气体供应装置在电极之间供应，并且在印模之间在电极之间产生电弧4a 的电压产生滑动弧朝向电极的较宽开口移动以形成等离子体。 等离子体形成装置2从排放口20辐射该等离子体。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT