公开(公告)号：JP2021063830A

公开(公告)日：2021-04-22

申请号：JP2021001267

申请日：2021-01-07

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： ブラウン・デビッド・エル. ,  チュアン・ユン−ホ

IPC: G01N21/956

Abstract: 【課題】駆動、処理、および照明面における困難を軽減しつつ、より小型のTDIデバイスを用いた、TDIに基づいた検査システムを提供する。 【解決手段】モジュラーアレイ400は、複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュール410を含み得る。各TDIセンサーモジュールは、TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路とを有する。局所回路は、TDIセンサーと関連付けられたクロックを制御し得る。ライトパイプを用いて、複数のTDIセンサーモジュールに照明源を分配する。複数のTDIセンサーモジュールは、同一検査領域または異なる検査領域を取り込むように配置され得る。モジュールの間隔は、1回の通過で検査領域の100%を網羅する処理範囲に対応できるように設定することもできるし、あるいは、処理範囲全体を網羅するのに2回以上の通過が必要となる部分的処理範囲に対応できるように設定することもできる。 【選択図】図4

公开(公告)号：JP6787867B2

公开(公告)日：2020-11-18

申请号：JP2017201457

申请日：2017-10-18

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： チェン・ルー ,  カークウッド・ジェイソン ,  マハデバン・モハン ,  スミス・ジェームス・エー. ,  ガオ・リシェン ,  ファン・ジュンチン ,  ルオ・タオ ,  ワリングフォード・リチャード

IPC: G01N21/956

公开(公告)号：JP2020017969A

公开(公告)日：2020-01-30

申请号：JP2019162730

申请日：2019-09-06

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： ブラウン・デビッド・エル. ,  チュアン・ユン−ホ

IPC: G01N21/956 ,  H01L27/146 ,  H04N5/372 ,  H04N5/335 ,  H04N5/232 ,  H04N5/225

Abstract: 【課題】小型の時間遅延積分(TDI)デバイスを用いた検査システムとする。 【解決手段】ウェーハ/マスク/レチクルの表面を検査するための検査システムは、複数の時間遅延積分(TDI)センサーモジュール410を含む。各TDIセンサーモジュールは、TDIセンサーと、TDIセンサーの駆動および処理を行うための複数の局所回路とを有する。局所回路は、TDIセンサーと関連付けられたクロックを制御する。ライトパイプを用いて、複数のTDIセンサーモジュールに照明源を分配する。複数のTDIセンサーモジュールは、同一検査領域又は異なる検査領域を取り込むように配置される。複数のTDIセンサーモジュールは、同一又は異なる積分段に対して設けられる。モジュールの間隔は、1回の通過で検査領域の100%を網羅する処理範囲に設定するか、又は、処理範囲全体を網羅するのに2回以上の通過が必要となる部分的処理範囲に設定する。 【選択図】図4

公开(公告)号：JP6326465B2

公开(公告)日：2018-05-16

申请号：JP2016175204

申请日：2016-09-08

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： フーケ・クリストフ ,  サイディン・ザイン ,  エーデルスタイン・セルジオ ,  ナンジャングド・サビサ ,  ヘス・カール

IPC: G03F1/84 ,  H01L21/02 ,  H01L21/66 ,  G03F7/20

CPC classification number: G06T7/0006 ,  G01N21/956 ,  G03F7/705 ,  G06F17/5081 ,  G06T2207/10061 ,  G06T2207/30148 ,  H01L22/12 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

公开(公告)号：JP5945294B2

公开(公告)日：2016-07-05

申请号：JP2014098674

申请日：2014-05-12

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： アデル・マイケル ,  ギノブカー・マーク ,  ミーハー・ウォルター・ディーン

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70633

公开(公告)号：JP2016066093A

公开(公告)日：2016-04-28

申请号：JP2015240051

申请日：2015-12-09

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： アデル・マイケル・イー. ,  マナッセン・アムノン ,  カンデル・ダニエル

IPC: G03F1/42 ,  G01B11/00 ,  G06F17/50 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70683 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70633 ,  H01L22/12

Abstract: 【課題】リソグラフィーの計測ターゲットについて、効率的に最適化する方法を提供する。 【解決手段】積層および外形情報102、ターゲット設計の自由度104、交渉プロセス変化データ106、装置パラメータ109を用い、光学シミュレータ108に与えられ、1または複数の光学的特徴を生成するために入力を用いてモデル化される。計測ターゲット設計に関する情報の一部が修正され、信号のモデル化および計測アルゴリズムが、1または複数の測定の精度および正確さを最適化するために、最適化ループ104で繰り返される。精度および正確さが最適化された後に計測ターゲット設計が、表示または格納される。 【選択図】図2

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于光刻计量目标的有效优化的方法。解决方案：堆叠和轮廓信息102，目标设计自由度104和标称过程变化​​数据106使用装置参数提供给光学模拟器108 如图109所示，使用输入来执行建模以产生一个或多个光学特性。 修改了与计量目标设计有关的部分信息，并且通过优化回路104重复信号建模和计量学算法，以优化一个或多个测量的精度和精度。 测量目标设计在精度和精度优化后显示或存储。选择图：图2

公开(公告)号：JP5878213B2

公开(公告)日：2016-03-08

申请号：JP2014164393

申请日：2014-08-12

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： バスカー・クリス ,  マコード・マーク ,  バタチャリヤ・サントーシュ ,  リン・アルディス ,  ワリンフォード・リチャード ,  アルテンドーファー・ヒューバート ,  マーヤー・カイス

IPC: G01N21/956

CPC classification number: G03F7/7065 ,  G01N21/93 ,  G01N21/95607 ,  G03F1/84 ,  G06T7/001 ,  G06T2207/30148

公开(公告)号：JP2015180953A

公开(公告)日：2015-10-15

申请号：JP2015105955

申请日：2015-05-26

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： イジクソン・パベル ,  アデル・マイケル・イー. ,  カンデル・ダニエル

IPC: H01L21/822 ,  H01L27/04 ,  H01L21/66 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70641 ,  G05B19/41845 ,  G05B2219/32187 ,  G05B2219/36307 ,  H01L22/20 ,  Y02P90/16 ,  Y02P90/22

Abstract: 【課題】テスト基板を測定して解析するこの方法は、パラメータと計測された特性との間の相関にかかる不所望な交絡に悩まされることがあり、この交絡はパラメータと特性との間の相関の精度を減少させる傾向がある。交絡の原因を究明して計上する技術を提供する。 【解決手段】特徴付けすべきプロセスを選択し、特徴付けすべきプロセスのパラメータを選択し、テストマトリクスで使用するパラメータの値を決定し、テストマトリクスの偏心度を特定し、基板上のセル内に作成すべきテスト構造を選択し、プロセスを通じて、偏心テストマトリクスにより決定されるような、パラメータの値を、各セルに用いて基板を処理し、セル内のテスト構造の特性を計測し、パラメータと特性との間の相関を展開することにより、プロセスを特徴付ける。 【選択図】図3

Abstract translation: 要解决的问题：为了解决测量和分析测试基板的方法的问题，有时会受到参数和测量属性之间的相关性的不期望的混淆，这种混杂倾向于降低参数和性质之间的相关性的精度; 并提供确定和计算混淆来源的技术。解决方案：通过选择过程来表征，选择过程的参数来表征，确定在测试矩阵中使用的参数的值来表征过程的方法， 指定测试矩阵的偏心率，选择要在基板上的单元格中创建的测试结构，通过在每个单元格中使用由偏心测试矩阵确定的参数值来处理基板，测量测试结构的属性 在细胞中，并开发参数和属性之间的相关性。

公开(公告)号：JP5744120B2

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：JP2013156941

申请日：2013-07-29

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： ウォン・ショウ−ウェイ ,  カーク・グレゴリー・エル. ,  ジョン・ファン・ジェイ. ,  シェーファー・デイビッド ,  ハディーマ・ラッセル

IPC: G02B13/18 ,  G02B17/08

CPC classification number: G02B17/0808 ,  G02B17/0652 ,  G02B17/084 ,  G02B21/04

公开(公告)号：JP2015111714A

公开(公告)日：2015-06-18

申请号：JP2015015084

申请日：2015-01-29

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーション ,  KLA−TENCOR CORPORATION

Inventor： ジウノ・マレク ,  バレケット・ノア

IPC: H01L21/027 ,  G01B21/00 ,  H02K41/025 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70775 ,  F16C32/044 ,  G01N21/9501 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70816 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/68771

Abstract: 【課題】スループット短くするためのステージ構造を提供する。 【解決手段】基板プロセス装置100は、支持構造108と、第1及び第2のステージ102、104を含む可動式ステージを備える。可動式ステージは、第1のステージ及び/又は第1のステージの端部に隣接する第2のステージに取り付けられた1つ以上のマグレブユニットを有する。第1のステージは1つ以上の基板101を保持し、第2のステージに対して略固定された第1の軸に対して移動する。第2のステージは、支持構造に対して第2の軸に沿って平行移動する。第1のモータは、ある角速度で回転ステージを維持してもよく及び/又は第1の角速度から第2の角速度へ、ステージを加速又は減速してもよい。第2のモータは静止状態から第1の角速度へステージを加速してもよく及び/又はゼロではない角速度からステージを減速してもよい。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供用于降低生产量的阶段结构。解决方案：基板处理装置100包括：支撑结构108; 以及包括第一和第二平台102,104的可移动平台。可移动平台具有一个和多个磁悬浮单元，其附接到与第一平台的端部相邻的第一平台和/或第二平台。 它的第一阶段保持一个和多个基板101并相对于基本上固定到第二阶段的第一轴线移动。 第二阶段沿着第二轴与支撑结构平行移动。 基板处理装置包括第一马达，其可以将转台保持在一定的角速度和/或使载物台从第一角速度加速或减速至第二角速度; 以及第二电动机，其可以将平台从静止状态加速到第一角速度并且/或使舞台从非零的角速度减速。