公开(公告)号：TWI564981B

公开(公告)日：2017-01-01

申请号：TW101111400

申请日：2012-03-30

Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 ,  RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 宋昕 ,  SONG, XIN ,  拉布瓦 里歐納 ,  LABUA, LEONARD ,  普里辛斯基 麥可 ,  PLISINSKI, MICHAEL

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67288

公开(公告)号：TWI507692B

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：TW100114066

申请日：2011-04-22

Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 ,  RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 剛德森 蓋瑞 ,  GUNDERSON, GARY MARK ,  歐斯塔德 葛瑞格 ,  OLMSTEAD, GREG

IPC: G01R1/073 ,  G01R31/28

CPC classification number: G01R1/04 ,  G01R31/2891

公开(公告)号：TW201439532A

公开(公告)日：2014-10-16

申请号：TW103103917

申请日：2014-02-06

Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 ,  RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC. ,  科羅拉多大學董事會 ,  THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF COLORADO

Inventor： 莫瑞 陶德 ,  MURRAY, TODD ,  米亨戴爾 曼珠沙 ,  MEHENDALE, MANJUSHA ,  柯迪洋斯基 麥可 ,  KOTELYANSKII, MICHAEL ,  梅爾 羅賓 ,  MAIR, ROBIN ,  摩肯漢 布利亞 ,  MUKUNDHAN, PRIYA

IPC: G01N29/04 ,  H01L21/66 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L22/20 ,  G01N21/00 ,  G01N21/1702 ,  G01N21/41 ,  G01N21/9501 ,  G01N29/04 ,  G01N29/2418 ,  G01N2021/8461 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2291/011 ,  G01N2291/028 ,  G01N2291/0423 ,  G01N2291/0426 ,  H01L21/0231 ,  H01L21/78 ,  H01L22/00 ,  H01L22/10 ,  H01L22/12

Abstract: 此處揭示識別形成於一基體內之一結構的一或多個特性之系統及方法。於該基體內感應表面聲波及本體聲波，及行進通過一關注結構，於該處感測聲波。該波內編碼有關該結構的一或多個特性之資訊。該編碼資訊係經評估以決定該關注特性。

Abstract in simplified Chinese: 此处揭示识别形成于一基体内之一结构的一或多个特性之系统及方法。于该基体内感应表面声波及本体声波，及行进通过一关注结构，于该处传感声波。该波内编码有关该结构的一或多个特性之信息。该编码信息系经评估以决定该关注特性。

公开(公告)号：TWI449894B

公开(公告)日：2014-08-21

申请号：TW097106935

申请日：2008-02-29

Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 ,  RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 達羅阿利亞達 ,  ALLIATA, DARIO ,  葛雷塔士 ,  TAS, GURAY ,  詹納佳拉利奧 ,  CLERICO, JANA ,  西安拉里 ,  LEARY, SEAN. P. ,  布利亞母崑潭 ,  MUKUNDHAN, PRIYA ,  戴忠寧 ,  DAI, ZHONGNING

IPC: G01N21/17 ,  H01L21/66 ,  H01L21/304

CPC classification number: G01N21/1717 ,  G01N21/95684 ,  G01N29/2418 ,  G01N2021/1725 ,  G01N2021/8416 ,  G01N2021/95638

公开(公告)号：TW201429124A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：TW102136033

申请日：2013-10-04

Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 ,  RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 多納赫 傑 ,  DONAHER, J. CASEY ,  辛普森 克雷格 ,  SIMPSON, CRAIG ,  杜佛特 彼德 ,  DUFAULT, PETER JOHN GERARD

IPC: H02K41/02 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70758 ,  H02K41/02 ,  H02K41/031 ,  H02K2201/18

Abstract: 一種平面馬達系統包含一平台(platen)，其具有一第一平面馬達構件、及一階台(stage)，其具有一第二平面馬達構件。該階台可沿著一第一基軸(cardinal axis)或一第二基軸移動。該平面馬達系統更包含一驅動系統。當該驅動系統在一第一驅動組態中被充能(energized)時，該驅動系統施加一第一力及一第二力。該第一力及該第二力並不平行於任何基軸。該第一力及該第二力的一向量總和平行於該第一基軸。當該驅動系統在一第二驅動組態中被充能時，該驅動系統施加一第三力及一第四力。該第三力及該第四力並不平行於任何基軸。該第三力及該第四力的一向量總和平行於該第二基軸。

Abstract in simplified Chinese: 一种平面马达系统包含一平台(platen)，其具有一第一平面马达构件、及一阶台(stage)，其具有一第二平面马达构件。该阶台可沿着一第一基轴(cardinal axis)或一第二基轴移动。该平面马达系统更包含一驱动系统。当该驱动系统在一第一驱动组态中被充能(energized)时，该驱动系统施加一第一力及一第二力。该第一力及该第二力并不平行于任何基轴。该第一力及该第二力的一矢量总和平行于该第一基轴。当该驱动系统在一第二驱动组态中被充能时，该驱动系统施加一第三力及一第四力。该第三力及该第四力并不平行于任何基轴。该第三力及该第四力的一矢量总和平行于该第二基轴。

公开(公告)号：TWI585360B

公开(公告)日：2017-06-01

申请号：TW101149308

申请日：2012-12-22

Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 ,  RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 歐瑞 丹尼斯 ,  OHREN, DENNIS L. ,  沃吉斯 克里斯多夫 ,  VOGES, CHRISTOPHER J. ,  羅特林 安德魯 ,  ROTERING, ANDREW E.

IPC: G01B11/00 ,  G01C5/00 ,  G01N21/88

CPC classification number: G02B7/28 ,  G01B11/00 ,  G01B11/026 ,  G01B11/0608 ,  G01N21/84 ,  G01N21/9501 ,  G01N2201/127 ,  H04N5/23212

公开(公告)号：TWI521624B

公开(公告)日：2016-02-11

申请号：TW099104791

申请日：2010-02-12

Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 ,  RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 伯拉克 史考特 ,  BALAK, SCOTT A. ,  孫剛 ,  SUN, GANG

IPC: H01L21/66 ,  G01N21/21

CPC classification number: G01J4/04 ,  G01N21/21 ,  G01N21/9501

公开(公告)号：TWI494557B

公开(公告)日：2015-08-01

申请号：TW099134579

申请日：2010-10-11

Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 ,  RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 柯根 麥可 ,  COLGAN, MICHAEL ,  庫泰楊斯基 麥可J ,  KOTELYANSKII, MICHAEL J. ,  摩拉斯 克里斯多福J ,  MORATH, CHRISTOPHER J. ,  馬里斯 漢弗瑞 ,  MARIS, HUMPHREY

IPC: G01N21/17 ,  G01N29/24 ,  G01N21/00

CPC classification number: G01N29/2418 ,  B82Y20/00 ,  B82Y35/00 ,  G01N29/041 ,  G01N29/12 ,  G01N2291/0423 ,  G01Q60/22

公开(公告)号：TW201520541A

公开(公告)日：2015-06-01

申请号：TW104105024

申请日：2010-11-16

Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 ,  RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 周威 ,  ZHOU, WEI

IPC: G01N21/88 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/9505

Abstract: 描述一種用以獲得檢查資訊的方法及設備。將標準CCD或CMOS相機用來獲得近紅外線區域的影像。移除所獲得影像之背景及雜訊分量且增加信雜比以提供適用於檢查的資訊。

Abstract in simplified Chinese: 描述一种用以获得检查信息的方法及设备。将标准CCD或CMOS相机用来获得近红外线区域的影像。移除所获得影像之背景及噪声分量且增加信杂比以提供适用于检查的信息。

公开(公告)号：TW201430503A

公开(公告)日：2014-08-01

申请号：TW102136032

申请日：2013-10-04

Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 ,  RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 道格那 史蒂芬 ,  GARDNER, STEVEN D. ,  多納赫 傑 ,  DONAHER, J. CASEY

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/707

Abstract: 裝置保護基材之光阻劑塗佈表面的周邊區域之一部分免於曝光。該裝置包含可移動、或可移動並旋轉的葉片，及一在操作上可耦接至該葉片之驅動總成。回應於藉由該驅動總成所產生之至少一第一驅動力量，該葉片平移、旋轉、或平移且旋轉，使得該葉片被設置在該周邊區域的一部分上方。回應於藉由該驅動總成所產生之至少一第二驅動力量，該葉片平移、旋轉、或旋轉且平移，使得該葉片不被設置在該周邊區域的一部分上方。於步進及重複之光刻系統中，該葉片覆蓋該周邊區域的一部分，且該基材之鄰近部分被曝露於光線。

Abstract in simplified Chinese: 设备保护基材之光阻剂涂布表面的周边区域之一部分免于曝光。该设备包含可移动、或可移动并旋转的叶片，及一在操作上可耦接至该叶片之驱动总成。回应于借由该驱动总成所产生之至少一第一驱动力量，该叶片平移、旋转、或平移且旋转，使得该叶片被设置在该周边区域的一部分上方。回应于借由该驱动总成所产生之至少一第二驱动力量，该叶片平移、旋转、或旋转且平移，使得该叶片不被设置在该周边区域的一部分上方。于步进及重复之光刻系统中，该叶片覆盖该周边区域的一部分，且该基材之邻近部分被曝露于光线。