用于在基板上形成层的设备和在基板上形成层的方法

    公开(公告)号:CN109554691A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201811088265.6

    申请日:2018-09-18

    Abstract: 公开了一种用于形成层的设备和一种在基板上形成层的方法。所述设备包括:转移腔室,在所述转移腔室中转移基板;沉积腔室,所述沉积腔室设置在所述转移腔室的一侧处,并且对所述基板执行沉积工艺,由此在所述基板上形成所述层;以及至少一个脱氢腔室,所述脱氢腔室设置在所述转移腔室的另一侧处,并且对所述基板上的所述层执行脱氢工艺,以减小所述层中的氢浓度。因此,在不从所述设备卸载所述基板的情况下,在所述设备中执行脱氢工艺。

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