TFT阵列基板及其制造方法
    24.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104102059A

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201410131136.6

    申请日:2014-04-02

    CPC classification number: H01L27/124

    Abstract: 针对在平坦化绝缘膜上方配置有共通电极及像素电极这种构造的液晶显示装置,防止接触孔中的连接不良和电阻增大。TFT阵列基板具有使用感光性有机树脂材料形成的有机绝缘膜(10)。在有机绝缘膜上方形成共通电极(12)及引出配线(11),在共通电极的上方隔着层间绝缘膜(15)而形成有像素电极(16)。像素电极经由形成在层间绝缘膜中的接触孔(35)而与引出配线连接。引出配线(11)及共通电极(12)分别通过形成在有机绝缘膜中的接触孔(31、32)而与漏极电极(8)及共通配线(3)连接。在形成在有机绝缘膜中的接触孔(31、32)内,在共通电极(12)及引出配线(11)的上方设置有金属覆盖膜(13、14)。

    半透过型液晶显示装置
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101089710A

    公开(公告)日:2007-12-19

    申请号:CN200710110027.6

    申请日:2007-06-12

    Abstract: 本发明的目的在于得到一种可防止显示特性的退化的半透过型液晶显示装置。本发明的半透过型液晶显示装置是一种由TFT阵列基板和具有对置电极(28)的对置基板夹持液晶层(29)的显示装置。TFT阵列基板具备:栅极布线(2)、源极布线(10)和TFT。还具有:覆盖栅极布线(2)、源极布线(10)和TFT并至少在一部分上具有凹凸形状(16)的第1层间绝缘膜(15)。还在第1层间绝缘膜(15)的凹凸形状(16)上具备:反射膜(17)和以覆盖反射膜(17)的方式形成的第2层间绝缘膜(19)。而且,设置有像素电极(23),该像素电极(23)形成在第2层间绝缘膜(19)的配置有反射膜(17)的区域上,并与TFT进行电连接。

    反射率测定装置、反射率测定方法及显示面板的制造方法

    公开(公告)号:CN101017254A

    公开(公告)日:2007-08-15

    申请号:CN200610153180.2

    申请日:2006-12-11

    Abstract: 得到能够高效测定基板面内的反射特性和散射特性的反射率测定装置。本发明的一个方式所涉及的反射率测定装置(100),包括:对作为被测定物的基板(101)进行载置的载物台(102);对载置于载物台(102)的基板(101)照射照明光的第一照明光源(103)和第二照明光源(105);和具备受光元件的第一检测器(104)和第二检测器(106),所述受光元件接收从该第一照明光源(103)和第二照明光源(105)照射的照明光中被基板(101)反射的反射光;第一照明光源(103)以任意的角度对基板(101)照射光,第二照明光源(105)以环状对基板(101)照射光。

    薄膜晶体管基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN108027541B

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN201680052503.0

    申请日:2016-09-08

    Abstract: 本发明涉及TFT基板,像素具有:栅极电极,其选择性地配置在基板之上;栅极绝缘膜,其将栅极电极覆盖;半导体沟道层,其选择性地配置在栅极绝缘膜之上;保护绝缘膜,其配置在半导体沟道层之上;第1层间绝缘膜,其设置在基板之上;源极电极及漏极电极,它们经过将第1层间绝缘膜及保护绝缘膜贯通的接触孔,相互分离地与半导体沟道层接触;以及像素电极,其是从漏极电极延伸出的,在俯视观察时,以至少与沟道区域重叠的方式在保护绝缘膜之上配置有第1遮光膜,在俯视观察时,以与半导体沟道层及所1遮光膜重叠的方式在源极电极之上及漏极电极之上配置有第2遮光膜。

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