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公开(公告)号：CN111868297B
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN201980017252.6
申请日：2019-02-28
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C16/455 , B05D3/02
Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置，能够不使成膜品质、成膜速度降低地在基板上成膜出薄膜，且实现成膜处理的生产率的提高。本发明中，在加热室(H1)的加热空间(91)内执行通过输送机(33)使基板(10)沿着基板移动方向(D1)移动的第一加热处理。然后，执行通过输送机(13)使基板(10)沿着搬运方向(D3)移动的第一搬运处理。此时，通过薄膜形成喷嘴(11H，11L)向基板(10)喷射原料雾(MT)。接着，执行基于输送机(43)的第二加热处理。然后，执行基于输送机(23)的第二搬运处理。此时，通过薄膜形成喷嘴(12H，12L)向基板(10)喷射原料雾(MT)。
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公开(公告)号：CN112135923A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201880093561.7
申请日：2018-06-08
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
Inventor： 织田容征
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够不降低成膜品质、成膜速度地、以低成本在基板上形成薄膜的成膜装置。实施方式1的成膜装置(11)，红外光照射器(2、4)及薄膜形成喷嘴(1)相互分离地配置，以使在加热室(80)内进行的加热处理和在成膜室(90)内进行的雾喷射处理彼此不受影响。实施方式1的成膜装置(11)在加热室(80)内执行基于红外光照射器(2、4)的红外光照射的加热处理后，在成膜室(90)内执行基于薄膜形成喷嘴(1)的雾喷射处理。
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公开(公告)号：CN111868298A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980017491.1
申请日：2019-02-28
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C16/455 , B05B13/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置，能够不使成膜品质、成膜速度降低地在基板上成膜出薄膜，并且实现成膜处理的生产率的提高。本发明中，沿着基板搬运路径用圆周(M1)配置加热室(H10)及成膜室(F10)。加热室(H10)及成膜室(F10)相互相邻地配置。通过基板搬运装置(8)，沿着基板搬运路径用圆周(M1)，以基板旋转方向(R1)为移动方向同时搬运多个基板(10)。在加热室(H10)内由红外光照射器(2，4)执行了基板(10)的加热处理之后，在成膜室(F10)内由薄膜形成喷嘴(1L，1H)执行对于基板(10)的雾喷射处理而在多个基板(10)的表面上及背面上分别成膜出薄膜。
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公开(公告)号：CN107073487B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201480082369.X
申请日：2014-10-01
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
Abstract: 本发明提供一种具有能够防止发生堵塞的喷雾用的喷嘴的成膜装置。本发明所涉及的成膜装置具备喷射原料溶液的喷雾头部(100)。喷雾头部(100)具有原料溶液喷射用喷嘴部(N1)和喷出雾化后的原料溶液的原料溶液喷出部(7)，原料溶液喷射用喷嘴部(N1)具有：空洞部(2、3)；以及原料溶液排出部(5)，其在与该空洞部(2、3)的底面分离的位置处穿设于该空洞部(2、3)内的侧面，且与原料溶液喷出部(7)连接。
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公开(公告)号：CN108699681A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082399.X
申请日：2016-04-26
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C14/50 , C23C16/02 , C23C16/44 , H01L21/677
Abstract: 本发明的目的在于提供一种将装置成本抑制到最小限度、并且抑制在成膜对象的基板产生翘曲或裂纹的现象的成膜装置。然后，本发明中，进行向基板装载台(3)的基板投入动作(M5)的吸附抓持器(4A)以及进行从基板装载台(3)的基板取出动作(M6)的吸附抓持器(4B)具有加热机构(42A以及42B)。因此，即使在由各吸附抓持器(4A以及4B)实现的基板(10)的抓持状态下，也能够进行通过加热机构(42A以及42B)对基板(10)进行加热的第一以及第二预加热处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107683346A
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201580080986.0
申请日：2015-06-18
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社 , 国立大学法人京都大学 , 高知县公立大学法人
IPC: C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/44 , H01L21/31 , H01L21/316
Abstract: 本发明的目的在于提供一种提高生产效率且得到高品质的金属氧化膜的金属氧化膜的成膜方法。并且，本发明的成膜方法实施以下的处理。在溶液容器(15)内，使含有金属元素即铝的原料溶液(14)雾化而得到原料溶液雾(M1)。在独立于溶液容器(15)的溶液容器(25)内，使含有氧化铝形成用的反应助剂的反应辅助溶液(24)雾化而得到助剂雾(M2)。并且，经由路径(L1)和(L2)向设置于反应容器(11)内的喷嘴(12)供给原料溶液雾(M1)和助剂雾(M2)。然后，在喷嘴(12)内使原料溶液雾(M1)和助剂雾(M2)混合而得到混合雾(M3)，向处于加热状态的P型硅基板(4)的背面上供给混合雾(M3)。
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公开(公告)号：CN104220375A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201280071921.6
申请日：2012-03-28
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
CPC classification number: C23C18/1216 , C23C18/1291 , H01B1/08
Abstract: 本发明提供一种能以低成本制作低电阻的金属氧化膜的金属氧化膜的制造方法。因此，在涉及本发明的金属氧化膜的制造方法中，用含有烷基金属的溶液(7)对在非真空下配置的基板(1)喷雾。进一步，在该溶液(7)的喷雾时，对基板(1)喷雾含有由无机化合物构成的掺杂剂的掺杂剂溶液(5)。
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公开(公告)号：CN102482777B
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN200980161287.3
申请日：2009-09-02
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社 , 国立大学法人京都大学
IPC: C23C18/12 , B05D3/02 , H01L21/288
CPC classification number: C23C18/1216 , C23C18/1258 , C23C18/1291 , H01G9/2031 , H01L29/7869 , H01L31/1884 , Y02E10/50
Abstract: 本发明的目的是提供一种可以使形成的金属氧化膜维持在低电阻且进一步提高生产效率的金属氧化膜的成膜方法。本发明的金属氧化膜的成膜方法中，具备下述的各工序。首先，将含有金属元素和乙二胺(4a)的溶液(4)雾化。另一方面，加热基板(2)。然后，向通过上述加热工序而成为加热状态的基板(2)的第一主面上供给在上述工序中经雾化的溶液(4)。
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公开(公告)号：CN118647462A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202280088450.3
申请日：2022-12-20
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: B05B17/06
Abstract: 本公开的目的在于提供一种能够响应性良好且准确地求出原料溶液雾的雾供给量的超声波雾化装置。本公开的超声波雾化装置(101)不与包括雾输出用配管(1t)的雾化容器(1)接触，而在雾化容器(1)的上方具有非接触型雾供给配管(20)。在非接触型雾供给配管(20)的连结用配管部(23)与雾输出用配管(1t)的上部区域(A1t)之间设置配管重叠空间(SP12)。在配管重叠空间(SP12)内与雾输出用配管(1t)及非接触型雾供给配管(20)分别不接触地设置泄漏防止气体供给管(25)。泄漏防止气体供给管(25)从设置在上部的气体输出口(28)输出雾泄漏防止用气体(G2)。
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公开(公告)号：CN113412162A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202080010905.0
申请日：2020-01-17
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: B05B17/06
Abstract: 本发明的目的在于提供一种实现了耐久性的提高的超声波雾化装置。而且，在本发明的超声波雾化装置(101)中，分隔杯(12)以及四个超声波振子(2)以满足“四个反射波(W2)不被四个超声波振子(2)中的任一个接收”这一反射波避免条件的方式设置。具体而言，分隔杯(12)的底面(BP1)被设定为设定曲率(K1)比以往的设定曲率(K6)大。而且，四个超声波振子(2)各自的距水槽(10)的底面的中心点(C10)的距离(D1)被设定为比以往的距离(D6)长。
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