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公开(公告)号：CN116829912A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202180083155.4
申请日：2021-11-26
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: G01F1/74
Abstract: 本公开的目的是提供一种能够精度良好地求出原料雾的流量的雾流量测量装置。并且，在本公开的雾流量测量装置，由上游配管(7)、大径透明配管(31)及下游配管(8)的组合构成外部排出用配管。大径透明配管(31)内的雾流通区域的一部分为雾摄像用摄像机的摄像对象区域。大径透明配管(31)的内径(D31)设定为比上游配管(7)的内径(D7)及下游配管(8)的内径(D8)大的值。即，大径透明配管(31)、上游配管(7)及下游配管(8)具有{D31>D7＝D8}的关于内径的大小关系。
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公开(公告)号：CN112135924B
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN201880093587.1
申请日：2018-06-08
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
Inventor： 织田容征
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够不降低成膜品质、成膜速度地、以低成本在基板上形成薄膜的成膜装置。而且，在本发明中，红外光照射器(2)配置于下部容器(62)内的从传送带(53)分离的位置。红外光照射器(2)从多个红外光灯(22)朝向上方照射红外光，执行对载置于带(52)的上表面的多个基板(10)的加热处理。在成膜室(6A)内，通过同时执行基于红外光照射器(2)的红外光照射的加热处理和基于薄膜形成喷嘴(1)的雾喷射处理，从而在载置于带(52)的上表面的基板(10)上形成薄膜。
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公开(公告)号：CN112135923B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN201880093561.7
申请日：2018-06-08
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
Inventor： 织田容征
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够不降低成膜品质、成膜速度地、以低成本在基板上形成薄膜的成膜装置。实施方式1的成膜装置(11)，红外光照射器(2、4)及薄膜形成喷嘴(1)相互分离地配置，以使在加热室(80)内进行的加热处理和在成膜室(90)内进行的雾喷射处理彼此不受影响。实施方式1的成膜装置(11)在加热室(80)内执行基于红外光照射器(2、4)的红外光照射的加热处理后，在成膜室(90)内执行基于薄膜形成喷嘴(1)的雾喷射处理。
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公开(公告)号：CN108138320B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201580083959.9
申请日：2015-10-19
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C16/44
Abstract: 本发明的目的在于提供具有简单地去除附着的反应生成物的构造的成膜装置。并且，本发明的成膜装置具备能够相对于喷雾头部(100)的底面拆除地设置的底板(21)。底板(21)在向喷雾头部(100)的底面安装时与原料溶液喷出口(15)、反应材料喷出口(16、17)以及惰性气体喷出口(192～194)对应的区域具有原料溶液用开口部(35)、反应材料用开口部(36、37)以及惰性气体用开口部(392～394)。
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公开(公告)号：CN107360730B
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201580075408.8
申请日：2015-03-09
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: H01L31/0216 , H01L31/068 , H01L31/18
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够低制造成本、不对基板造成损伤且高生产效率地成膜膜质良好的钝化膜的太阳能电池的制造方法。而且，在本发明中，制作P型硅基板(4)，将包含铝的溶液雾化，在非真空下将雾化后的溶液对P型硅基板(4)的背面进行喷雾，由此将由氧化铝膜构成的背面钝化膜(5)成膜在P型硅基板(4)的背面上。此后，执行对P型硅基板(4)以及背面钝化膜(5)的界面照射紫外光(21)的光照射处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108138319A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201580083958.4
申请日：2015-10-19
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C16/44
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够防止产生堵塞的、具有喷雾头部的构造的成膜装置。而且，本发明的成膜装置中的喷雾头部(100)在原料溶液喷射用喷嘴部(N1)、反应材料喷射用喷嘴部(N3)之间设有非活性气体喷射部(82)，在原料溶液喷射用喷嘴部(N1)、反应材料喷射用喷嘴部(N2)之间设有非活性气体喷射部(83)。因此，非活性气体喷出口(192)设于原料溶液喷出口(15)与反应材料喷出口(17)之间，非活性气体喷出口(193)设于原料溶液喷出口(15)与反应材料喷出口(16)之间。
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公开(公告)号：CN106062971B
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201480076630.5
申请日：2014-05-22
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: H01L31/0256 , H01L31/18
CPC classification number: H01L31/1884 , H01L31/022483 , Y02E10/50
Abstract: 本发明涉及一种配置于光吸收层与透明导电膜之间的、用于太阳能电池的缓冲层的成膜方法。具体来说，该缓冲层的成膜方法是使包含锌和铝作为上述缓冲层的金属原料的溶液(4)雾化。然后，对在大气压下配设的基板(2)进行加热。然后，向加热中的基板喷雾经雾化的溶液。
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公开(公告)号：CN105451891A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201380078729.4
申请日：2013-08-08
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: B05B17/06
CPC classification number: B05B17/06 , B05B17/0615
Abstract: 本发明的雾化装置(100)具有：收容溶液(15)的容器(1)；和将溶液(15)雾化的雾化器(2)。并且，在容器(1)内配设有内部空洞构造体(3)。并且，在雾化装置(100)中，向气体供给空间(1H)供给搬运气体。而且，形成有将内部空洞构造体(3)的空洞(3H)与气体供给空间(1H)连接的连接部(5)。
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公开(公告)号：CN104105817A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201280069377.1
申请日：2012-10-24
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
IPC: C23C18/12
CPC classification number: H01B13/003 , C01G9/02 , C23C18/1216 , C23C18/14 , H01B1/08 , H01B13/0016
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够以低成本制作膜特性(低电阻)良好的金属氧化膜的金属氧化膜的制造方法。并且，在本发明中，具备：(A)通过将含锌溶液(5)雾化，并将该雾化后的溶液(5)在非真空下对基板(1)进行喷雾，从而在基板(1)上使金属氧化膜(10)成膜的工序；和(B)通过对金属氧化膜(10)照射紫外线(13)，从而使金属氧化膜(10)的电阻降低的工序。此外，工序(B)具有：(B－1)根据金属氧化膜(10)的膜厚确定将要照射的紫外线(13)的波长的工序、和(B－2)向金属氧化膜(10)照射具有工序(B－1)中确定的波长的紫外线(13)的工序。
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公开(公告)号：CN103648974A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201180072244.5
申请日：2011-09-13
Applicant: 东芝三菱电机产业系统株式会社
CPC classification number: B05D3/0453 , B05C5/00 , B05D3/0466 , C23C16/18 , C23C16/40 , C23C16/4486 , C23C16/452
Abstract: 本发明提供一种氧化膜成膜方法，所述氧化膜成膜方法能够不受大气变动的影响地一直正常地形成氧化膜，在金属氧化膜的情况下能够形成低电阻的膜，并且成膜效率好。而且，在本发明中，在大气中，对基板（100）雾状喷出含有烷基化合物的原料溶液。然后，对雾状的原料溶液供给对烷基化合物具有氧化作用的氧化剂。通过以上的处理，在本发明中，在基板上形成氧化膜。
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