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公开(公告)号:CN103857629A
公开(公告)日:2014-06-11
申请号:CN201280049627.5
申请日:2012-10-01
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: B01D61/022 , B01D61/025 , B01D61/58 , B01D63/14 , B01D63/16 , B01D65/02 , B01D2313/10 , B01D2315/02 , B01D2321/10 , B01D2321/16 , B01D2321/18 , B01D2321/2075 , C02F1/36 , C02F1/441 , C02F2103/08 , C02F2303/16 , Y02A20/131
Abstract: 本发明公开一种水处理单元(3)和水处理装置,该水处理单元能够用于使用反渗透膜执行水处理的水处理装置。该水处理单元包括:壳体(30);分离膜(31),其安装在壳体(30)中且弯曲成褶皱状;加强部件,其安装在分离膜(31)上且具有加强分离膜的功能;旋转机构(42),其使分离膜(31)旋转;以及清洁装置(41),其能够清洁分离膜(31)。该分离膜具有多个岛状部分和多个纤维状部分,多个纤维状部分从岛状部分延伸且具有比岛状部分的宽度小的宽度,并且在膜表面上,纤维状部分的面积设定为大于岛状部分的面积。水处理装置包括:第一水处理单元,其能够执行对被处理水的预处理且具有上述构造;以及第二水处理单元,其能够对被处理水执行主处理。
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公开(公告)号:CN103379950A
公开(公告)日:2013-10-30
申请号:CN201280007040.8
申请日:2012-07-23
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: C02F1/00 , B01D29/21 , B01D29/54 , B01D29/6446 , B01D2201/583 , B63J4/002 , C02F1/004 , C02F2103/008
Abstract: 一种压载水处理装置,包括:过滤器,其以筒状方式形成以围住轴线;壳体,其包括布置成围住过滤器的外筒部;旋转机构,其使过滤器围绕轴线旋转;未处理水喷嘴,其将未处理水喷射至过滤器周围区域,该过滤器周围区域由过滤器的外周面和外筒部限定;洗净水喷嘴,其朝过滤器的外周面喷射洗净水;已过滤水通道,已通过过滤器的已过滤水从过滤器内部区域经由已过滤水通道流到壳体的外部;以及排出通道,未通过过滤器的排出水从过滤器周围区域经由排出通道排出至壳体的外部。
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公开(公告)号:CN102471103A
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN201080034741.1
申请日:2010-08-02
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C02F1/44 , B01D29/01 , B01D29/11 , B01D29/50 , B01D29/66 , B01D61/04 , B01D61/08 , B01D61/18 , B01D61/58 , B01D71/36
CPC classification number: C02F1/441 , B01D61/00 , B01D61/025 , B01D61/145 , B01D61/147 , B01D61/58 , B01D65/02 , B01D69/02 , B01D71/34 , B01D71/36 , B01D2321/04 , B01D2321/2058 , B01D2321/2075 , B01D2325/02 , B01D2325/38 , C02F1/444 , C02F2103/06 , C02F2103/08 , C02F2301/08 , C02F2303/24 , Y02A20/131
Abstract: 本发明提供了一种水处理装置,该装置包括:第一膜过滤装置,其中采用平均孔径大于或等于1μm的过滤膜;第二膜过滤装置,其通过使用微滤膜或超滤膜来处理经所述第一膜过滤装置过滤的水;以及反渗透膜过滤装置,其用于处理经所述第二膜过滤装置过滤的水。本发明特别提供一种水处理装置,其中将未经亲水化处理的疏水性聚合物膜用作所述的平均孔径大于或等于1μm的过滤膜。本发明还提供了可由这些水处理装置实施的水处理方法。
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公开(公告)号:CN1249368B
公开(公告)日:2011-08-17
申请号:CN99117925.0
申请日:1999-08-18
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01L21/0262 , C30B11/00 , C30B29/42 , H01L21/02395 , H01L21/02463 , H01L21/02546 , Y10T428/265
Abstract: 可以得到一种GaAs单晶衬底及使用该单晶衬底的外延晶片,可以抑制外延层生长时产生滑移位错,能够改善器件的耐压特性。GaAs单晶衬底具有最大为2×104cm-2的平面平均位错密度,2.5-20.0×1015cm-3的碳浓度,2.0-20.0×1016cm-3的硼浓度,最多为1×1017cm-3的除碳和硼外的杂质浓度,5.0-10.0×1015cm-3的EL2浓度,1.0-5.0×108Ωcm的电阻率,及最大为1.0×10-5的光弹性分析测得的平均残余应变。
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公开(公告)号:CN203678077U
公开(公告)日:2014-07-02
申请号:CN201320487453.2
申请日:2013-08-09
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: B01D29/56 , B01D29/05 , B01D35/143 , C02F9/08
CPC classification number: B01D29/6438 , B01D29/606 , B01D33/073 , B01D33/42 , B01D33/463 , B01D33/72 , B01D33/808 , B01D35/1435 , B01D63/14 , B01D63/16 , B01D65/02 , B01D2311/06 , B01D2311/14 , B01D2313/90 , B01D2321/02 , B01D2321/30 , B63J4/002 , C02F1/32 , C02F1/444 , C02F2103/008 , C02F2209/03 , C02F2303/16 , B01D2311/2619
Abstract: 一种液体过滤装置,其具有:过滤膜单元;清洗单元,其从供给被过滤液这一侧,对该过滤膜单元的过滤面进行清洗;以及压力检测单元,其检测由过滤膜单元进行过滤前后的压力差,过滤膜单元具有两层过滤膜。另外,将该液体过滤装置作为海水的过滤装置使用,形成搭载在船舶中的压舱水处理装置。
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