公开(公告)号：CN110347013B

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN201910257416.4

申请日：2019-04-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 滨田裕一

IPC: G03F1/64

Abstract: 本发明涉及蒙版框架及其制备方法、以及蒙版，所述蒙版框架具备：框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度为2.0~7.5μm的黑色的阳极氧化被膜、和在上述阳极氧化被膜上形成的透明的聚合物电沉积涂膜，所述蒙版具备：该蒙版框架、和在上述蒙版框架的一个端面设置的蒙版膜。

公开(公告)号：CN111103756B

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN201911025180.8

申请日：2019-10-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 滨田裕一

IPC: G03F1/64

Abstract: 本发明提供一种防尘薄膜组件的剥离方法及防尘薄膜组件的剥离装置，将以粘着层(14)粘着于曝光原板(1)的防尘薄膜组件(10)从曝光原板(1)剥离；该组件(10)具有：防尘薄膜(12)，通过防尘薄膜用接着剂(13)张设于防尘薄膜框架(11)的一侧的端面；粘着层(14)，设置于防尘薄膜框架(11)的另一侧的端面。在设置于防尘薄膜框架外侧面的治具孔(30)插入防尘薄膜框架支持销(21)，使支持销(21)朝向粘着层(14)从曝光原板(1)剥离的方向移动，此时，测量作用在支持销(21)的剥离力，并在进行控制以使该剥离力降至最小的状况下，将组件(10)从曝光原板(1)剥离。由此，可在将防尘薄膜组件从曝光原板剥离时，减少残留于曝光原板上的残渣，并可在柔和的清洗条件下实施曝光原板的再清洗。

公开(公告)号：CN114144728A

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202080041500.3

申请日：2020-04-15

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 滨田裕一 ,  西村晃范

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种在从光刻使用后、特别是ArF光刻使用后的曝光原版剥离防护薄膜时可减少附着于所述曝光原版上的残渣的防护薄膜用粘合剂、防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光原版的再生方法及剥离残渣减少方法。一种防护薄膜用粘合剂，用以将防护薄膜贴附在曝光原版上，所述防护薄膜用粘合剂中，将SP值为10.0以上且12.0以下的丙烯酸系聚合物作为母材。

公开(公告)号：CN109555861B

公开(公告)日：2022-02-22

申请号：CN201811042819.9

申请日：2018-09-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 滨田裕一

IPC: F16K1/00 ,  F16K1/42 ,  F16K1/38

Abstract: 本发明提供了一种在分配速率上具有较小波动的分配阀设备。分配阀设备是通过阀构件和阀构件座彼此接触而隔断流体的分配阀设备，其特征在于阀构件座的与阀构件接触的部分由具有2GPa或更大的拉伸弹性模量的材料制成。可替代地，分配阀设备是是通过阀构件和阀构件座彼此接触而隔断流体的分配阀设备，其特征在于阀构件座的与阀构件接触的部分由具有2GPa或更大的压缩弹性模量的材料制成。

公开(公告)号：CN113966487A

公开(公告)日：2022-01-21

申请号：CN202080041531.9

申请日：2020-04-15

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 滨田裕一 ,  西村晃范

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种在从光刻使用后、特别是ArF光刻使用后的曝光原版剥离防护薄膜时可减少附着于所述曝光原版上的残渣的防护薄膜用粘合剂、防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光原版的再生方法及剥离残渣减少方法。一种防护薄膜用粘合剂，用以将防护薄膜贴附在曝光原版上，所述防护薄膜用粘合剂含有聚乙烯基醚化合物。

公开(公告)号：CN110347013A

公开(公告)日：2019-10-18

申请号：CN201910257416.4

申请日：2019-04-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 滨田裕一

IPC: G03F1/64

Abstract: 本发明涉及蒙版框架及其制备方法、以及蒙版，所述蒙版框架具备：框架基材、在上述框架基材的表面形成的厚度为2.0~7.5μm的黑色的阳极氧化被膜、和在上述阳极氧化被膜上形成的透明的聚合物电沉积涂膜，所述蒙版具备：该蒙版框架、和在上述蒙版框架的一个端面设置的蒙版膜。

公开(公告)号：CN101089729A

公开(公告)日：2007-12-19

申请号：CN200710110347.1

申请日：2007-06-13

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 滨田裕一

IPC: G03F1/14 ,  B29C41/00

CPC classification number: B29C37/0075 ,  G03F1/64

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护薄膜组件，其能减少水中可溶离子，且能减少释放气体，并能抑制基于硫酸铵所产生的雾霭。为达成上述目的，而提供一种防护薄膜组件，其包含表面上有聚合物包覆膜的铝合金制防护薄膜框架，以及张设于该框架上的防护薄膜，其特征为：该聚合物包覆膜宜为电沉积膜，又，该聚合物包覆膜宜为黑色消光电沉积膜，且发射率宜为0.80～0.99。