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公开(公告)号：CN111679551B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202010667663.4
申请日：2017-01-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 滨田裕一
Abstract: 提供一种在防尘薄膜组件框架的角部没有疑似异物，从而提高异物检查的精度，由此减少防尘薄膜组件制品的不合格率。使防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的角部从截面来看为大略曲线状，特别是，防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的各角部为被C倒棱的防尘薄膜组件中，防尘薄膜组件框架的内侧面和该C倒棱面形成的C倒棱面所成的角部被R倒棱或C倒棱。
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公开(公告)号：CN107783368A
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201710719065.5
申请日：2017-08-21
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 滨田裕一
CPC classification number: G03F1/64 , B29C37/0075
Abstract: 提供一种薄膜组件框架，其即使在光刻的曝光步骤中杂散光入射到薄膜组件框架的内侧面时也防止诸如炭黑颗粒或填料颗粒之类的颗粒污染光掩模。更具体地说，提供一种薄膜组件框架，包括：框架基座；和聚合物涂层，其涂覆所述框架基座的至少内周表面，所述聚合物涂层包括离所述框架基座最远一侧的最外聚合物层和所述框架基座与所述最外聚合物层之间的一个或多个内部聚合物层，其中所述一个或多个内部聚合物层中的至少一层包含颗粒，并且所述最外聚合物层不包含颗粒或者具有比所述一个或多个内部聚合物层中的最高颗粒浓度低的颗粒浓度。还提供一种包括所述薄膜组件框架的薄膜组件。
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公开(公告)号：CN101581877A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200910139179.8
申请日：2009-05-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 滨田裕一
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护薄膜组件的剥离方法以及用于该方法中的剥离装置，其能够轻易从曝光原版将使用过的防护薄膜组件剥离，并防止粘接剂残渣再次污染剥离后的曝光原版。为达成上述目的，本发明是一种防护薄膜组件的剥离方法，其从曝光原版将平版印刷用防护薄膜组件剥离，该防护薄膜组件在防护薄膜框架的一端面上涂布防护薄膜接合剂以张设防护薄膜，并在另一端面上设置曝光原版粘接层，该剥离方法的特征为：包含对该粘接层照射紫外光的步骤；本发明更是一种剥离装置，其具备对该粘接层照射紫外光的光源。
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公开(公告)号：CN106950796B
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN201710003770.5
申请日：2017-01-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 滨田裕一
Abstract: 提供一种在防尘薄膜组件框架的角部没有疑似异物，从而提高异物检查的精度，由此减少防尘薄膜组件制品的不合格率。使防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的角部从截面来看为大略曲线状，特别是，防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的各角部为被C倒棱的防尘薄膜组件中，防尘薄膜组件框架的内侧面和该C倒棱面形成的C倒棱面所成的角部被R倒棱或C倒棱。
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公开(公告)号：CN111679551A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN202010667663.4
申请日：2017-01-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 滨田裕一
Abstract: 提供一种在防尘薄膜组件框架的角部没有疑似异物，从而提高异物检查的精度，由此减少防尘薄膜组件制品的不合格率。使防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的角部从截面来看为大略曲线状，特别是，防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的各角部为被C倒棱的防尘薄膜组件中，防尘薄膜组件框架的内侧面和该C倒棱面形成的C倒棱面所成的角部被R倒棱或C倒棱。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108345172A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201810064159.8
申请日：2018-01-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/64
CPC classification number: G03F1/64 , C09J133/04
Abstract: 本发明的目的在于提供气泡混入少的粘合剂的成型方法和使用该成型方法的表膜构件的制造方法。氦气与现有的在大气开放下混入的空气、氮气相比，氦气分子的大小较小，氦气的脱泡性良好，因此，本发明的特征在于，使用在氦气气氛下调制的粘合剂来进行成型。并且，优选在该调制中包括保管、加压、搅拌或者脱泡中的任意几个工序。根据本发明，能抑制气泡混入粘合剂，因此能以高成品率制作粘合剂中气泡混入少的表膜构件。
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公开(公告)号：CN101551587A
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200910129926.X
申请日：2009-04-01
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 滨田裕一
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种平板印刷用防护薄膜组件，其曝光原版接合用粘着剂不会超溢出防护薄膜组件框架整体宽度而能稳定设置，藉此提高半导体制造成品率。为达成上述目的，本发明的平板印刷用防护薄膜组件，其在防护薄膜组件框架一端面涂布防护薄膜接合剂以铺设防护薄膜，在另一端面涂布曝光原版接合用粘着剂，其特征为：在该防护薄膜组件框架的防护薄膜接合面与框架的内侧和外侧面所构成的角部以及曝光原版接合面与框架的内侧和外侧面所构成的角部实施斜面倒角加工，该防护薄膜组件框架的曝光原版接合面的倒角尺寸比C0.35大且在C0.55以下。
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公开(公告)号：CN101224456A
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200810002088.5
申请日：2008-01-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种对防护薄膜框架内面涂布粘接剂的涂布方法，其对周围环境不会造成污染，涂布质量以及其稳定性亦优良。由于本发明将防护薄膜框架一个内面保持实质水平且朝上，边从吐出口滴下经过溶媒稀释的粘接剂边移动吐出口，以涂布粘接剂，故不会因为粘接剂飞散而对作业环境或防护薄膜框架造成污染，再者，也不会发生未涂布或溢出的情况，能稳定制得外观优良的涂膜。
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公开(公告)号：CN115542659A
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN202211318321.7
申请日：2017-01-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 滨田裕一
Abstract: 本发明涉及防尘薄膜组件框架、其应用及角部部分的结构。提供一种在防尘薄膜组件框架的角部没有疑似异物，从而提高异物检查的精度，由此减少防尘薄膜组件制品的不合格率。使防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的角部从截面来看为大略曲线状，特别是，防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的各角部为被C倒棱的防尘薄膜组件中，防尘薄膜组件框架的内侧面和该C倒棱面形成的C倒棱面所成的角部被R倒棱或C倒棱。
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公开(公告)号：CN113924526A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202080041511.1
申请日：2020-04-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种在从光刻使用后、特别是ArF光刻使用后的曝光原版剥离防护薄膜时可减少附着于所述曝光原版上的残渣的防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光原版的再生方法及剥离残渣减少方法。一种防护薄膜(10)，具有：防护膜(12)；防护薄膜框架(11)，在其中一端面设置所述防护膜(12)；以及粘合剂层(14)，设置在所述防护薄膜框架(11)的另一端面，其中在将所述防护薄膜(10)的粘合剂层(14)贴附于石英制掩膜基板(1)上后，从所述基板(1)的背面起对所述防护薄膜(10)的粘合剂层(14)的贴附部分以10J/cm2照射193nm的紫外线，在所述照射后剥离所述防护薄膜(10)时，残留在所述基板(1)上的所述粘合剂层(14)的剥离残渣量为0.5mg以下。
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