-
公开(公告)号：CN119219581A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202410841838.7
申请日：2024-06-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D307/12 , C07D309/06 , C07D305/06 , C07D319/12 , C07D493/08 , C07D333/16 , C07D335/02 , G03F1/22 , G03F1/24 , G03F7/20 , G03F7/42 , C08F8/00 , C08F8/34 , C08F212/14 , C08F212/32 , C08F220/20 , G03F7/004 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及缩醛修饰剂、聚合物、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，并提供用于制造该抗蚀剂组成物使用的基础聚合物的缩醛修饰剂、经该缩醛修饰剂修饰的聚合物、及使用该化学增幅正型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。给予成为脂肪族性或芳香族性羟基的保护基团的具有含氧原子或硫原子的环族饱和杂环的缩醛修饰剂、含有侧链具有芳香族性羟基被下式(AL‑1)或(AL‑2)表示的酸不稳定基团保护的结构的重复单元A1且因酸作用而脱保护成为碱可溶性的聚合物、及含有含该聚合物的基础聚合物的化学增幅正型抗蚀剂组成物。#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN118732398A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410371776.8
申请日：2024-03-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 福岛将大
Abstract: 一种化学增幅正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。提供能够获得提高了形成图案时的分辨率且改善了LER、分辨率、图案忠实性和剂量裕度的抗蚀图案的化学增幅正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。一种化学增幅正型抗蚀剂组合物，其包含(A)淬灭剂和(B)基础聚合物，所述(A)淬灭剂包含下述式(A1)所示的鎓盐，所述(B)基础聚合物包含含有下述式(B1)所示的重复单元且因酸的作用而分解、在碱显影液中的溶解度增大的聚合物。#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN111499500B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202010077624.9
申请日：2020-01-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C43/23 , C08F220/38 , C08F212/14 , H10K50/805
Abstract: 本发明提供一种适合用作燃料电池用或导电材料用的掺杂剂的导电聚合物用高分子化合物与其制备方法，该导电聚合物用高分子化合物由共聚聚合物形成，该共聚聚合物含有具有氟磺酸、氟磺酰亚胺基、正羰基氟磺酰胺基的重复单元与具有3,3,3‑三氟‑2‑羟基‑2‑三氟甲基异丁醚基的苯乙烯的重复单元。使用下述通式(1)所表示的聚合性单体与选自具有由氟磺酸等的锂盐、钠盐、钾盐、氮化合物盐构成的盐结构的单体中的一种以上的单体，进行聚合反应，通过离子交换，将通过聚合反应而得到的聚合物的重复单元的盐结构变换为氟磺酸等。[化学式1]#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN117908325A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202311342291.8
申请日：2023-10-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且高对比度、线的LWR及孔洞的CDU经改善、图案形成后的蚀刻耐性仍优良的化学增幅抗蚀剂组成物，以及提供使用其的图案形成方法。该课题的解决手段是一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有：(A)聚合物，因酸的作用而对碱水溶液的溶解性会增加，其含有下式(A1)表示的重复单元及下式(B1)表示的重复单元，且不含因曝光而产生酸的重复单元，及(B)光酸产生剂，以下式(PAG‑a)或(PAG‑b)表示，且因KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束或极紫外线的作用而产生酸。#imgabs0#
-
公开(公告)号：CN117666284A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202311143912.X
申请日：2023-09-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可形成能形成具有极高的分辨率、LER小、矩形性优良、显影负载的影响及显影残渣缺陷受到抑制的图案的抗蚀剂膜的化学增幅正型抗蚀剂组成物，以及提供使用该化学增幅正型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段是一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，含有：经酸不稳定基团保护且因酸的作用而成为碱可溶性的基础聚合物；该基础聚合物包含含有下式(A1)表示的含酚性羟基的单元及下式(A2)表示的被酸不稳定基团保护的重复单元的聚合物，且该基础聚合物所含的聚合物的全部重复单元中，具有芳香环骨架的重复单元为65摩尔％以上。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117586163A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311028366.5
申请日：2023-08-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 福岛将大
IPC: C07C381/12 , C07D333/76 , C07D327/08 , C07D333/54 , C07C51/41 , C07C65/26 , C07C65/21 , C07C65/28 , C07C68/06 , C07C69/96 , C07C25/18 , C07C17/00 , C07C211/63 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及鎓盐、酸扩散控制剂、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供在光刻中，为高感度且分辨度优良，可改善LWR(粗糙度)、CDU(尺寸均匀性)，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的抗蚀剂组成物所使用的鎓盐。该课题的解决手段为一种鎓盐，其特征为：是下述通式(1)表示者。式中，RALU表示和相邻的氧原子一起形成的叔醚、叔碳酸酯、或缩醛中的任一者。I表示碘原子。又，Ra为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基。Z+表示鎓阳离子。
-
公开(公告)号：CN117586162A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311025714.3
申请日：2023-08-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/004 , C07D333/76 , C07D327/08 , C07D333/54 , C07D307/00 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07C25/18 , C07C17/00
Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的目的在于提供于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、曝光余裕度、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物使用的鎓盐、含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种下式(1)表示的鎓盐。
-
公开(公告)号：CN117384130A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202310849357.6
申请日：2023-07-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D333/76 , C07D333/54 , C07D327/08 , C07C381/12 , C07C211/63 , C07C25/18 , C07C65/26 , C07C65/24 , C07C69/96 , G03F7/20 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明提供于光刻中，正型、负型皆为高感度且分辨性优异、LWR、CDU有所改善且能抑制抗蚀剂图案崩塌的抗蚀剂组成物使用的新颖鎓盐。一种鎓盐，其特征为以下列通式(1)表示。式中，RALU表示和相邻的氧原子一起形成的具有环状结构的叔醚、叔碳酸酯、或缩醛中的任一者。RF为氟原子、碳数1～6的含氟烷基、硝基中的任一者。又，Ra为碳数1～20的烃基。n1为0或1的整数。n2及n3为1或2的整数。RF与‑O‑RALU中的各1个键结于互相相邻的碳原子。n4为0～3的整数。Z+表示鎓阳离子。
-
公开(公告)号：CN116893576A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310311665.3
申请日：2023-03-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供具有超过已知的正型抗蚀剂材料的感度及分辨率，边缘粗糙度、尺寸偏差小，且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料，以及提供图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，含有：含下式(a)表示的重复单元的基础聚合物。#imgabs0#式中，R为下式(a1)表示的基团。#imgabs1#式中，R1为也可含有氧原子的直链状或分支状的碳数1～6的脂肪族烃基，R2为也可含有氧原子的直链状或分支状的碳数2～6的不饱和脂肪族烃基。又，R1与R2也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成碳数5～12的环。
-
公开(公告)号：CN111187235B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201911101447.7
申请日：2019-11-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D307/00 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07D333/76 , C07D333/08 , C07D327/06 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/30
Abstract: 本发明涉及新型盐化合物、化学增幅抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅抗蚀剂组合物，其在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，缺陷少，感度、LWR、MEF、CDU等优异；并提供使用该化学增幅抗蚀剂组合物的图案形成方法。一种盐化合物，其由下式(A)表示。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
96
records
(took 0.051 seconds)
