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公开(公告)号：CN102482764A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080020550.X
申请日：2010-07-27
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: G11B5/851 , C23C14/3414
Abstract: 一种无机物粒子分散型溅射靶，在Co基质中分散有无机物粒子，其特征在于，无机物粒子的电阻率为1×101Ω·m以下，并且靶中无机物粒子所占的体积比率为50％以下。这样调节后的溅射靶具有在利用具备DC电源的磁控溅射装置进行溅射时无机物粒子的带电少、飞弧产生少的优点。因此，如果使用本发明的溅射靶，则具有可以抑制起因于飞弧的粉粒的产生，提高薄膜制作时的成品率的显著效果。
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公开(公告)号：CN104169458A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201380014650.5
申请日：2013-04-10
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: H01J37/3429 , B22F3/10 , B22F2301/00 , B22F2302/40 , B22F2998/10 , C22C5/04 , C22C33/0278 , C22C38/002 , C22C38/007 , C22C2202/02 , C23C14/3414 , G11B5/851 , B22F9/04 , B22F1/0003
Abstract: 一种烧结体溅射靶，其为以原子数比计具有(Fe100-X-PtX)100-Y-Z-AgY-CZ(其中，X为满足35≤X≤55的数、Y为满足0.5≤Y≤15的数、Z为满足15≤Z≤55的数)的组成的Fe-Pt-Ag-C基烧结体溅射靶，相对密度为93％以上。一种Fe-Pt-Ag-C基烧结体溅射靶的制造方法，其为Fe-Pt-Ag-C基溅射靶的制造方法，其特征在于，预先制作Fe-Pt-C烧结体，将该烧结体粉碎而得到粉碎粉，将该粉碎粉与Ag粉混合，并在低于Ag的熔点的温度下烧结。本发明的课题在于提供能够制作粒状结构的磁性薄膜而不使用高价的共溅射装置、并且使溅射时产生的粉粒量降低的高密度溅射靶。
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公开(公告)号：CN104081458A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201280067523.7
申请日：2012-12-12
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F1/00 , B22F5/00 , B22F9/04 , B22F2201/10 , B22F2201/20 , B22F2302/25 , C22C1/05 , C22C1/10 , C22C19/07 , C22C32/0026 , C23C14/06 , G11B5/851 , H01J37/3429
Abstract: 一种溅射靶，含有0.5摩尔％～45摩尔％Cr、余量为Co作为金属成分，并含有包含Ti氧化物的2种以上氧化物作为非金属成分，其特征在于，其组织包含在Co中分散有至少包含Ti氧化物的氧化物的区域(非Cr系区域)和在Cr或Co-Cr中分散有Ti氧化物以外的氧化物的区域(Cr系区域)，所述非Cr系区域散布在所述Cr系区域中。本发明的课题是提供抑制粗大的复合氧化物颗粒的形成、溅射时粉粒产生少的颗粒膜形成用溅射靶。
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公开(公告)号：CN103930592A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201280056247.4
申请日：2012-12-18
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C5/04 , C22C30/00 , C22C33/0278 , C22C38/002 , C22C2202/02 , C23C14/564 , G11B5/82 , G11B5/851
Abstract: 一种磁记录膜用溅射靶，其特征在于，Pt为5摩尔％以上且60摩尔％以下，C为0.1摩尔％以上且40摩尔％以下，二氧化钛为0.05摩尔％以上且20摩尔％以下，其余由Fe构成。本发明的课题在于提供能够在不使用昂贵的同时溅射装置的情况下制作颗粒结构磁性薄膜并且使溅射时产生的粉粒量减少的高密度的溅射靶。
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公开(公告)号：CN102471876B
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201080029130.8
申请日：2010-09-30
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C22C19/07 , C22C1/0433 , C23C14/3414 , H01F41/183
Abstract: 本发明涉及一种强磁性材料溅射靶，其包含Cr为20摩尔％以下、其余为Co的组成的金属，其特征在于，该靶的组织具有金属基质(A)和在所述(A)中的球形的相(B)，所述球形的相(B)含有90重量％以上的Co且长径与短径之差为0％～50％。本发明所得到的强磁性材料溅射靶，可以提高漏磁通、从而通过磁控溅射装置进行稳定的放电。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103717781A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201280021182.X
申请日：2012-07-20
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
Inventor： 佐藤敦
CPC classification number: C23C14/165 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , C22C32/0084 , C22C33/0278 , C23C14/3414 , G11B5/851 , B22F1/0003 , B22F1/0059 , B22F1/0085 , B22F3/14 , B22F3/15 , B22F2201/20 , B22F2201/10
Abstract: 一种溅射靶，其为原子数比的组成由式：(Fe100-X-PtX)100-ACA(其中，A为满足20≤A≤50的数，X为满足35≤X≤55的数)表示的烧结体溅射靶，其特征在于，具有微细分散在母材合金中的C粒子，且氧含量为300重量ppm以下。本发明的课题在于提供能够制成耐腐蚀性优良的颗粒结构磁性薄膜而且容易使L10结构有序化、微细分散有C粒子且氧含量低的Fe-Pt型溅射靶。
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公开(公告)号：CN102482765B
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201080025681.7
申请日：2010-09-30
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F2998/00 , C22C19/07 , C22C32/00 , C22C2202/02 , H01F41/183 , C22C32/0026 , B22F9/082
Abstract: 本发明涉及一种强磁性材料溅射靶，包含Cr为20摩尔％以下、其余为Co的组成的金属，其特征在于，该靶组织具有金属基质(A)、以及在所述(A)中的含有90重量％以上的Co的扁平状相(B)，所述相(B)的平均粒径为10μm以上且150μm以下、并且平均短径长径比为1∶2～1∶10。本发明得到可以抑制溅射时粉粒的产生、并且可以提高漏磁通，从而通过磁控溅射装置可以稳定地放电的强磁性材料溅射靶。
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公开(公告)号：CN103270554A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201180061229.0
申请日：2011-11-14
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3407 , B22F3/14 , C22C33/0228 , C23C14/3414 , G11B5/851 , H01B1/02
Abstract: 一种溅射靶，其为原子数的组成比由式(Fe100-X-PtX)100-A-CA(其中，A为满足20≤A≤50的数，X为满足35≤X≤55的数)表示的烧结体溅射靶，其特征在于，具有微细分散在合金中的C粒子，并且相对密度为90%以上。本发明的课题在于提供可以在不使用高价的同时溅射装置的情况下制作颗粒结构磁性薄膜、并且使溅射时产生的粉粒减少的、高密度的溅射靶。
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公开(公告)号：CN103270190A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201180062203.8
申请日：2011-12-02
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3407 , B22F3/14 , C22C1/10 , C22C19/07 , C22C30/00 , C22C32/0026 , C22F1/10 , C23C14/3414 , G11B5/851
Abstract: 本发明涉及一种烧结体溅射靶，含有Cr、Co作为金属成分，并且包含分散在该金属成分的基质中的氧化物，其特征在于，该溅射靶的组织在金属基质中具有在Co中分散有Co氧化物的区域（A）和在该区域（A）的周缘的含有Cr氧化物的区域（D）。本发明还涉及所述烧结体溅射靶的制造方法，将Co粉末、Cr粉末与将在Co中分散有Co氧化物的烧结体粉碎而得到的粉末混合而得到的混合粉末加压烧结，由此得到该组织。本发明的课题在于提供残留必要量的Co氧化物、溅射时的粉粒产生少、具有充分的烧结密度的溅射靶。
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公开(公告)号：CN102482765A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080025681.7
申请日：2010-09-30
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F2998/00 , C22C19/07 , C22C32/00 , C22C2202/02 , H01F41/183 , C22C32/0026 , B22F9/082
Abstract: 本发明涉及一种强磁性材料溅射靶，包含Cr为20摩尔％以下、其余为Co的组成的金属，其特征在于，该靶组织具有金属基质(A)、以及在所述(A)中的含有90重量％以上的Co的扁平状相(B)，所述相(B)的平均粒径为10μm以上且150μm以下、并且平均短径长径比为1∶2～1∶10。本发明得到可以抑制溅射时粉粒的产生、并且可以提高漏磁通，从而通过磁控溅射装置可以稳定地放电的强磁性材料溅射靶。
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