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公开(公告)号：CN104169458B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201380014650.5
申请日：2013-04-10
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: H01J37/3429 , B22F3/10 , B22F2301/00 , B22F2302/40 , B22F2998/10 , C22C5/04 , C22C33/0278 , C22C38/002 , C22C38/007 , C22C2202/02 , C23C14/3414 , G11B5/851 , B22F9/04 , B22F1/0003
Abstract: 一种烧结体溅射靶，其为以原子数比计具有(Fe100-X-PtX)100-Y-Z-AgY-CZ(其中，X为满足35≤X≤55的数、Y为满足0.5≤Y≤15的数、Z为满足15≤Z≤55的数)的组成的Fe-Pt-Ag-C基烧结体溅射靶，相对密度为93％以上。一种Fe-Pt-Ag-C基烧结体溅射靶的制造方法，其为Fe-Pt-Ag-C基溅射靶的制造方法，其特征在于，预先制作Fe-Pt-C烧结体，将该烧结体粉碎而得到粉碎粉，将该粉碎粉与Ag粉混合，并在低于Ag的熔点的温度下烧结。本发明的课题在于提供能够制作粒状结构的磁性薄膜而不使用高价的共溅射装置、并且使溅射时产生的粉粒量降低的高密度溅射靶。
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公开(公告)号：CN102471876A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080029130.8
申请日：2010-09-30
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C22C19/07 , C22C1/0433 , C23C14/3414 , H01F41/183
Abstract: 本发明涉及一种强磁性材料溅射靶，其包含Cr为20摩尔％以下、其余为Co的组成的金属，其特征在于，该靶的组织具有金属基质(A)和在所述(A)中的球形的相(B)，所述球形的相(B)含有90重量％以上的Co且长径与短径之差为0％～50％。本发明所得到的强磁性材料溅射靶，可以提高漏磁通、从而通过磁控溅射装置进行稳定的放电。
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公开(公告)号：CN102333905A
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201080009611.2
申请日：2010-03-08
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
Inventor： 佐藤敦
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F2998/00 , C22C32/0026 , C22C32/0052 , C22C32/0068 , H01F41/183 , B22F2303/01 , B22F2301/15
Abstract: 一种非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶，包含合金与非磁性材料粒子的混合体，所述合金含有5摩尔％以上且20摩尔％以下的Cr、5摩尔％以上且30摩尔％以下的Pt、余量为Co，所述溅射靶的特征在于，该靶的组织含有在合金中均匀地微细分散有所述非磁性材料粒子的相(A)以及所述相(A)中的、在靶中所占的体积比率为4％以上且40％以下的球形的合金相(B)。本发明得到提高漏磁通从而通过磁控溅射装置可以获得稳定的放电、并且高密度从而溅射时产生的粉粒少的非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶。
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公开(公告)号：CN103930592B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201280056247.4
申请日：2012-12-18
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C5/04 , C22C30/00 , C22C33/0278 , C22C38/002 , C22C2202/02 , C23C14/564 , G11B5/82 , G11B5/851
Abstract: 一种磁记录膜用溅射靶，其特征在于，Pt为5摩尔％以上且60摩尔％以下，C为0.1摩尔％以上且40摩尔％以下，二氧化钛为0.05摩尔％以上且20摩尔％以下，其余由Fe构成。本发明的课题在于提供能够在不使用昂贵的同时溅射装置的情况下制作颗粒结构磁性薄膜并且使溅射时产生的粉粒量减少的高密度的溅射靶。
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公开(公告)号：CN103003468B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201180035257.5
申请日：2011-01-28
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3407 , C22C1/0433 , C22C19/07 , C22C32/0026 , C22F1/10 , C23C14/3414 , G11B5/851 , H01F10/16 , H01F41/18
Abstract: 本发明涉及一种强磁性材料溅射靶，其为在Cr为20摩尔%以下、其余为Co的组成的金属中分散有包含氧化物的非磁性材料粒子的非磁性材料分散型强磁性溅射靶，其特征在于，该靶组织具有在金属基质中分散有包含氧化物的非磁性材料粒子的相（A）、以及所述（A）中成分组成与金属基质不同的金属相（B），所述金属相（B）的最外周起1μm以内氧化物所占的面积率为80%以下，并且所述相（B）的平均粒径为10μm以上且150μm以下。本发明得到可以抑制溅射时产生粉粒，并且提高漏磁通，通过磁控溅射装置可以稳定地放电的强磁性材料溅射靶。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104105812A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201280023523.7
申请日：2012-04-06
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C19/07 , C23C14/35 , G11B5/851
Abstract: 一种非磁性材料分散型溅射靶，其为包含Cr为20摩尔%以下、其余为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶组织具有在金属基质中分散有包含氧化物的非磁性材料的相（A）和含有40摩尔%以上的Co的金属相（B），所述相（A）中包含氧化物的非磁性材料粒子的面积率为50%以下，并且在假想与所述相（B）外切的面积最小的长方形的情况下，该外切的长方形的短边为2μm～300μm的相（B）的存在率为全部相（B）的90%以上。本发明得到可以抑制溅射时的粉粒产生，并且使漏磁通提高、在磁控溅射装置中可以稳定的放电的强磁性材料溅射靶。
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公开(公告)号：CN102333905B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201080009611.2
申请日：2010-03-08
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
Inventor： 佐藤敦
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F2998/00 , C22C32/0026 , C22C32/0052 , C22C32/0068 , H01F41/183 , B22F2303/01 , B22F2301/15
Abstract: 一种非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶，包含合金与非磁性材料粒子的混合体，所述合金含有5摩尔％以上且20摩尔％以下的Cr、5摩尔％以上且30摩尔％以下的Pt、余量为Co，所述溅射靶的特征在于，该靶的组织含有在合金中均匀地微细分散有所述非磁性材料粒子的相(A)以及所述相(A)中的、在靶中所占的体积比率为4％以上且40％以下的球形的合金相(B)。本发明得到提高漏磁通从而通过磁控溅射装置可以获得稳定的放电、并且高密度从而溅射时产生的粉粒少的非磁性材料粒子分散型强磁性材料溅射靶。
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公开(公告)号：CN103038388A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201180037308.8
申请日：2011-01-28
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F1/0059 , B22F3/14 , B22F2999/00 , C22C19/07 , C22C32/0026 , G11B5/851 , H01F1/068 , H01F41/183 , B22F9/04
Abstract: 本发明涉及一种强磁性材料溅射靶，其为包含以Co作为主要成分的金属和非金属无机材料粒子的烧结体溅射靶，其特征在于，存在饱和磁化强度不同的多个金属相，并且在各个金属相中分散有非金属无机材料粒子。本发明的课题在于，通过增大溅射靶的漏磁通，可以得到能够得到稳定的放电，并且在磁控溅射装置中，可以得到稳定的放电，并且溅射时的粉粒产生少的强磁性材料溅射靶，磁记录介质的磁性体薄膜、特别是采用垂直磁记录方式的硬盘的磁记录层的成膜中使用的强磁性材料溅射靶。
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公开(公告)号：CN104081458B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201280067523.7
申请日：2012-12-12
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F1/00 , B22F5/00 , B22F9/04 , B22F2201/10 , B22F2201/20 , B22F2302/25 , C22C1/05 , C22C1/10 , C22C19/07 , C22C32/0026 , C23C14/06 , G11B5/851 , H01J37/3429
Abstract: 一种溅射靶，含有0.5摩尔％～45摩尔％Cr、余量为Co作为金属成分，并含有包含Ti氧化物的2种以上氧化物作为非金属成分，其特征在于，其组织包含在Co中分散有至少包含Ti氧化物的氧化物的区域(非Cr系区域)和在Cr或Co‑Cr中分散有Ti氧化物以外的氧化物的区域(Cr系区域)，所述非Cr系区域散布在所述Cr系区域中。本发明的课题是提供抑制粗大的复合氧化物颗粒的形成、溅射时粉粒产生少的颗粒膜形成用溅射靶。
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公开(公告)号：CN103717781B
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201280021182.X
申请日：2012-07-20
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社
Inventor： 佐藤敦
CPC classification number: C23C14/165 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , C22C32/0084 , C22C33/0278 , C23C14/3414 , G11B5/851 , B22F1/0003 , B22F1/0059 , B22F1/0085 , B22F3/14 , B22F3/15 , B22F2201/20 , B22F2201/10
Abstract: 一种溅射靶，其为原子数比的组成由式：(Fe100-X-PtX)100-ACA(其中，A为满足20≤A≤50的数，X为满足35≤X≤55的数)表示的烧结体溅射靶，其特征在于，具有微细分散在母材合金中的C粒子，且氧含量为300重量ppm以下。本发明的课题在于提供能够制成耐腐蚀性优良的颗粒结构磁性薄膜而且容易使L10结构有序化、微细分散有C粒子且氧含量低的Fe-Pt型溅射靶。
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