公开(公告)号：CN216528953U

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202123323049.5

申请日：2021-12-27

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 中村阳子 ,  大八木康之 ,  谷口幸夫 ,  堀口龙二 ,  井上功

IPC: H01L51/50 ,  H01L51/52 ,  H01L51/56

Abstract: 本实用新型提供有机器件、掩模组以及掩模。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的第2电极；和第2显示区域，其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。可以是，在第2显示区域中，有机层在第1方向上排列，且在与第1方向交叉的第2方向上排列。在第2显示区域中，第2电极可以包含在第1方向上排列的电极线。电极线可以包含在第2方向上排列且与有机层重叠的电极段。在第2方向上相邻的2个电极段可以互相连接。电极段可以包含：具有第1形状的第1电极段；和具有与第1形状不同的第2形状的第2电极段。

公开(公告)号：CN211713188U

公开(公告)日：2020-10-20

申请号：CN202020154646.6

申请日：2020-02-06

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 青木大吾 ,  池永知加雄 ,  井上功

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/12

Abstract: 本实用新型提供蒸镀掩模装置和掩模支承机构。蒸镀掩模装置具备：框架；支承体，其具有固定于框架的多个支承部件；以及蒸镀掩模，其固定于框架。多个支承部件至少包含：第1支承部件，其最接近框架的第3部分与第4部分的中间位置；和第2支承部件，其比第1支承部件靠框架的第3部分侧。第1支承部件在从框架向下方以第1挠曲量挠曲的状态下从下方支承蒸镀掩模，第2支承部件在从框架向下方以比第1挠曲量小的第2挠曲量挠曲的状态下从下方支承蒸镀掩模。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN217691218U

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN202221560149.1

申请日：2022-06-21

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 宫谷勋 ,  池永知加雄 ,  中村阳子 ,  井上功

IPC: H01L51/52 ,  H01L51/56 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 本实用新型涉及有机器件、掩模组以及掩模。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；和位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备包含第1显示区域和第2显示区域的显示区域。第1显示区域可以包含以第1密度分布的有机层。第2显示区域可以包含以小于第1密度的第2密度分布的有机层。第2电极可以具备：在第1显示区域无间隙地扩展的广域电极；和包含与广域电极连接的端并在第2显示区域与有机层重叠的2个以上的电极线。

公开(公告)号：CN217230904U

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN202220813208.5

申请日：2022-04-08

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 宫谷勋 ,  池永知加雄 ,  中村阳子 ,  井上功

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56

Abstract: 本公开提供蒸镀掩模、蒸镀掩模装置以及蒸镀装置。本公开的实施方式的蒸镀掩模具备第1面、位于第1面的相反侧的第2面、以及2个以上的贯通孔。贯通孔包括位于第1面的第1凹部和位于第2面的第2凹部。蒸镀掩模具备：掩模第1区域，其具有表示第2面所残存的面积的比率的第1面残存率；以及掩模第2区域，其具有表示第2面所残存的面积的比率的第2面残存率，第2面残存率大于第1面残存率。

公开(公告)号：CN216563200U

公开(公告)日：2022-05-17

申请号：CN202123323954.0

申请日：2021-12-27

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 中村阳子 ,  大八木康之 ,  谷口幸夫 ,  堀口龙二 ,  井上功

IPC: H01L51/50 ,  H01L51/52 ,  H01L51/56

Abstract: 本实用新型提供有机器件、掩模组以及掩模。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的第2电极；和第2显示区域，其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。第2显示区域可以包含：第2电极；和在俯视时被第2电极包围的透射区域。透射区域可以包含：第1透射区域；和隔着第2电极与第1透射区域相邻的第2透射区域。可以是，第1透射区域具有第1形状，第2透射区域具有与第1形状不同的第2形状。

公开(公告)号：CN215342660U

公开(公告)日：2021-12-28

申请号：CN202121236615.6

申请日：2021-06-03

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 池永知加雄 ,  井上功 ,  中村阳子

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/52 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 本实用新型涉及电子器件和蒸镀掩模组。电子器件具备：具有第1面和位于第1面的相反侧的第2面的基板；位于基板的第1面上的2个以上的第1电极；第1电极上的有机层；和位于有机层上且按照俯视时重叠在2个以上的第1电极上的方式展开的第2电极。第2电极包含俯视时不与第1电极重叠的第2电极开口、和面向第2电极开口的侧面。第2电极的侧面的高度大于第2电极中俯视时与第1电极重叠的区域的厚度的平均值。