电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组

    公开(公告)号:CN113764606B

    公开(公告)日:2024-12-24

    申请号:CN202110618101.5

    申请日:2021-06-03

    Abstract: 本发明涉及电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组。电子器件的制造方法具备下述工序:准备工序,准备层积体,该层积体包含具有第1面和位于第1面的相反侧的第2面的基板、位于基板的第1面上的2个以上的第1电极、和第1电极上的有机层;第2电极形成工序,按照沿着基板的第1面的法线方向观察时重叠在2个以上的第1电极上的方式,在有机层上形成第2电极;和除去工序,将第2电极中俯视时位于第1电极之间的区域局部性除去。

    金属板、金属板的制造方法、掩模、掩模装置以及掩模的制造方法

    公开(公告)号:CN118814165A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410461801.1

    申请日:2024-04-17

    Abstract: 本发明提供金属板、金属板的制造方法、掩模、掩模装置以及掩模的制造方法。用于制造掩模的金属板的表面可以具有第1反射率、第2反射率、第3反射率以及第4反射率。第1反射率是具有第1出射角度的第1反射光的反射率。第3反射率是具有第3出射角度的第1反射光的反射率。第1出射角度是第1反射光显示出最大强度的出射角度。第3出射角度是相对于第1出射角度相差第1偏差角度的量的出射角度。第2反射率是具有第2出射角度的第2反射光的反射率。第4反射率是具有第4出射角度的第2反射光的反射率。第2出射角度是第2反射光显示出最大强度的出射角度。第4出射角度是相对于第2出射角度相差第2偏差角度的量的出射角度。第3反射率与第1反射率的比率即第1比率可以为0.40以下。第4反射率与第2反射率的比率即第2比率可以为0.40以下。

    有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法

    公开(公告)号:CN114695774A

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202111613619.6

    申请日:2021-12-27

    Abstract: 本发明提供有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法。有机器件可以具备:基板;位于基板上的第1电极;位于第1电极上的有机层;以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下,有机器件可以具备:第1显示区域,其包含具有第1占有率的第2电极;和第2显示区域,其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。可以是,在第2显示区域中,有机层在第1方向上排列,且在与第1方向交叉的第2方向上排列。在第2显示区域中,第2电极可以包含在第1方向上排列的电极线。电极线可以包含在第2方向上排列且与有机层重叠的电极段。在第2方向上相邻的2个电极段可以互相连接。电极段可以包含:具有第1形状的第1电极段;和具有与第1形状不同的第2形状的第2电极段。

    蒸镀掩模装置、掩模支承机构及蒸镀掩模装置的制造方法

    公开(公告)号:CN111534788A

    公开(公告)日:2020-08-14

    申请号:CN202010081387.3

    申请日:2020-02-06

    Abstract: 本发明提供蒸镀掩模装置、掩模支承机构及蒸镀掩模装置的制造方法。蒸镀掩模装置具备:框架;支承体,其具有固定于框架的多个支承部件;以及蒸镀掩模,其固定于框架。多个支承部件至少包含:第1支承部件,其最接近框架的第3部分与第4部分的中间位置;和第2支承部件,其比第1支承部件靠框架的第3部分侧。第1支承部件在从框架向下方以第1挠曲量挠曲的状态下从下方支承蒸镀掩模,第2支承部件在从框架向下方以比第1挠曲量小的第2挠曲量挠曲的状态下从下方支承蒸镀掩模。

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