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公开(公告)号：CN101528458B
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN200780039405.4
申请日：2007-10-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B32B15/08 , C08F291/00 , C08L57/00 , C23C18/20 , H05K3/18
Abstract: 一种金属模型材料的制造方法，包括下列步骤：(a1)在基板上形成聚合物层，该聚合物层由具有与电镀催化剂或其前体形成相互作用的官能团，并且和该基板直接化学结合的聚合物构成，和(a2)在该聚合物层上赋予电镀催化剂或其前体的步骤，和(a3)对该电镀催化剂或其前体进行电镀的步骤，和(a4)将形成的电镀膜蚀刻成呈图案状的步骤，上述聚合物层满足下述1～4的条件的全部。条件1：在25℃-50％下的饱和吸水率为0.01～10质量％，条件2：在25℃-95％下的饱和吸水率为0.05～20质量％，条件3：在100℃沸水中浸渍1小时后的吸水率为0.1～30质量％，条件4：在25℃-50％下滴加5μL蒸馏水，静置15秒后的接触角为50～150度。
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公开(公告)号：CN101910461A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200880123106.3
申请日：2008-12-19
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: H05K3/182 , C23C18/1653 , C23C18/1844 , C23C18/2086 , C23C18/28 , C23C18/31 , H05K3/185 , H05K2203/0709 , H05K2203/1168
Abstract: 一种镀法，其特征在于，具有下列工序：(a)将含有催化元素和有机溶剂的镀催化液施加到表面上具有与所述催化元素形成相互作用的官能团的被镀件上的工序，以及(b)对施加有所述镀催化液的被镀件进行镀的工序。
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公开(公告)号：CN101203781B
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200680020366.9
申请日：2006-06-06
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 佐藤真隆
IPC: G02B6/00
CPC classification number: G02B6/02038 , B29C41/003 , B29C41/042 , B29C41/22 , B29D11/00355 , B29D11/00682 , B29L2011/0016 , G02B3/0087
Abstract: 将第一可聚合组合物注入管(30)中，然后聚合成第一层(13)。接下来，将第二可聚合组合物注入管(30)中，并聚合成第二层(14)。重复这些注入和聚合步骤，形成包括n层聚合物的光学介质(10)。通过聚合包括与其他层的其他可聚合组合物相同的多种可聚合成分的可聚合组合物而形成每一层。内侧的层由包含较大比例的可聚合成分的可聚合组合物形成，与用于形成外侧相邻层的可聚合组合物相比，所述可聚合成分比相同可聚合组合物中的至少另一种可聚合成分具有更高的折射率。相邻两聚合物层的折射率之差至少为5×10-5，但小于5×10-5。
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公开(公告)号：CN101103288A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200580042197.4
申请日：2005-12-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 佐藤真隆
CPC classification number: G02B6/02038
Abstract: 本发明提供具有折射率分布的塑料光学器件的制备方法，其包括用至少一种不可聚合的化合物填充中空的塑料结构的中空处，所述不可聚合的化合物具有的折射率比所述塑料结构的折射率高至少0.001；使所述不可聚合的化合物扩散进入所述塑料结构中。所述方法得到了具有折射率分布的塑料光学器件，其不存在归因于热退化或解聚作用的损失增加的问题。
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公开(公告)号：CN106462284B
公开(公告)日：2019-04-23
申请号：CN201580028793.0
申请日：2015-07-01
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 佐藤真隆
IPC: G06F3/041
Abstract: 本发明提供密合性优异、具有能够微细化的引出配线、引出配线与检测电极的电气连接性高的触控面板传感器用导电性膜、触控面板传感器和触控面板。本发明的触控面板传感器用导电性膜具备基板、配置在基板的至少一侧的表面上的检测电极、于基板的具有检测电极的一侧表面上配置在检测电极的周边的具有与镀覆催化剂或其前体相互作用的官能团的图案状被镀覆层、配置在图案状被镀覆层上的引出配线、以及将检测电极与引出配线电气连接的导电性连接部，引出配线为通过至少具有下述工序的方法形成的配线，在该工序中，对图案状被镀覆层赋予镀覆催化剂或其前体，对于被赋予了镀覆催化剂或其前体的图案状被镀覆层进行镀覆处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104204933B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201380017468.5
申请日：2013-03-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07D207/44
Abstract: 本发明提供具有良好的非线性光学性能、耐光性、耐升华性、耐热性、并且在电场极化时的稳定性也优异的非线性光学材料和使用其的非线性光学元件。一种有机非线性光学材料，其含有下述通式(I)所表示的化合物与高分子粘结剂。通式(I)中，R1和R2各自独立地表示取代或无取代的烷基、或者取代或无取代的芳基。R3表示氢原子、取代或无取代的烷基、或者取代或无取代的芳基。L表示将具有二氰基亚甲基的氧代吡咯啉环与氮原子经π共轭系连接、且在π共轭系含有偶氮基(‑N＝N‑)的二价连接基团。
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公开(公告)号：CN103588930B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201310298307.X
申请日：2007-10-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08F220/34 , C08F220/28 , C08F8/30 , C08L33/14 , B32B27/08
Abstract: 一种金属模型材料的制造方法，包括下列步骤：(a1)在基板上形成聚合物层，该聚合物层由具有与电镀催化剂或其前体形成相互作用的官能团，并且和该基板直接化学结合的聚合物构成，和(a2)在该聚合物层上赋予电镀催化剂或其前体的步骤，和(a3)对该电镀催化剂或其前体进行电镀的步骤，和(a4)将形成的电镀膜蚀刻成呈图案状的步骤，上述聚合物层满足下述1～4的条件的全部。条件1：在25℃‑50％下的饱和吸水率为0.01～10质量％，条件2：在25℃‑95％下的饱和吸水率为0.05～20质量％，条件3：在100℃沸水中浸渍1小时后的吸水率为0.1～30质量％，条件4：在25℃‑50％下滴加5μL蒸馏水，静置15秒后的接触角为50～150度。
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公开(公告)号：CN102264537B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN200980152593.0
申请日：2009-12-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 佐藤真隆
CPC classification number: H05K3/387 , H05K3/064 , H05K3/067 , H05K2201/0191 , H05K2203/0709 , H05K2203/1361 , H05K2203/1366 , Y10T428/12451 , Y10T428/12472 , Y10T428/24917 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
Abstract: 一种表面金属膜材料，其中，依次具有基板、接受镀敷催化剂或其前体的聚合物层和通过镀敷形成的金属膜，当设所述基板与所述聚合物层的界面的表面粗糙度(Ra)为xμm、所述聚合物层与所述金属膜的界面的表面粗糙度(Ra)为yμm时，满足：x＞y、且5μm＞x＞0.1μm，且当设所述聚合物层的厚度为Tμm时，满足2x≤T的关系。
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公开(公告)号：CN103202107A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201180052339.0
申请日：2011-10-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H05K3/28
CPC classification number: H05K3/282 , H05K2203/124
Abstract: 本发明的目的是提供配线间的绝缘可靠性优异的印刷配线基板的制造方法。本发明的印刷配线基板的制造方法包括：层形成步骤，使具有基板及配置于基板上的铜或铜合金配线的核心基板、与包含1,2,3-三唑及/或1,2,4-三唑且pH值显示5～12的处理液接触，然后藉由溶剂清洗核心基板，而于铜或铜合金配线表面上形成包含1,2,3-三唑及/或1,2,4-三唑的铜离子扩散抑制层；以及绝缘膜形成步骤，于层形成步骤后于设置有铜离子扩散抑制层的核心基板上形成绝缘膜。
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公开(公告)号：CN102203181A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200980142046.4
申请日：2009-10-20
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08L57/00 , C08F20/10 , C08L101/00 , C23C18/30 , C25D5/56
CPC classification number: H05K3/387 , C08F220/42 , C08F293/005 , C08L33/18 , C23C18/30 , C25D5/56 , H05K2203/122 , Y10T428/24355 , Y10T428/31855 , C08F2220/281 , C08L55/00
Abstract: 本文公开了一种能够被镀覆的树脂复合物，该树脂复合物具有高疏水性，优异的模塑性质以及与镀层的良好粘附性。还公开了一种包括含有树脂复合物的层的层压体。此外，公开了一种用于制备该层压体的方法。具体地，公开了一种能够被镀覆的树脂复合物，所述树脂复合物包含疏水性化合物(A)和疏水性树脂(B)，其中所述疏水性化合物(A)具有能够与镀覆催化剂、所述镀覆催化剂的前体或金属相互作用的官能团，且所述疏水性树脂(B)与所述疏水性化合物(A)不相容。所述树脂复合物具有相分离结构，在所述相分离结构中，疏水性化合物(A)形成分散相，而所述疏水性树脂(B)形成连续相。疏水性化合物(A)暴露在所述树脂复合物的表面的至少一部分上。
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