公开(公告)号：CN104781915A

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201380059364.0

申请日：2013-11-14

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 上村哲也 ,  室祐继 ,  稻叶正

IPC: H01L21/308 ,  H01L21/306 ,  H01L21/768

CPC classification number: C09K13/10 ,  C09K13/08 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32134

Abstract: 本发明是一种蚀刻液，其对具有包含氮化钛(TiN)的第1层、与包含过渡金属的第2层的基板进行处理，而选择性地除去第1层，且含有含氟化合物、氧化剂以及有机硅化合物。

公开(公告)号：CN117397010B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202280036780.8

申请日：2022-06-07

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 室祐继 ,  稻叶正 ,  上村哲也

IPC: H01L21/304 ,  C11D3/36 ,  C11D3/20 ,  C11D1/22 ,  C11D1/12

Abstract: 本发明的课题在于提供一种残渣(特别是CMP后的残渣)的除去性优异且对铜的耐腐蚀性优异的清洗组合物、以及半导体基板的清洗方法及半导体元件的制造方法。本发明的清洗组合物含有柠檬酸、1‑羟基乙烷‑1，1‑二膦酸、磺酸类表面活性剂及水，柠檬酸的含量相对于1‑羟基乙烷‑1，1‑二膦酸的含量的质量比为20～150，柠檬酸的含量相对于磺酸类表面活性剂的含量的质量比为70～1500，所述清洗组合物的pH为0.10～4.00。

公开(公告)号：CN117397010A

公开(公告)日：2024-01-12

申请号：CN202280036780.8

申请日：2022-06-07

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 室祐继 ,  稻叶正 ,  上村哲也

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明的课题在于提供一种残渣(特别是CMP后的残渣)的除去性优异且对铜的耐腐蚀性优异的清洗组合物、以及半导体基板的清洗方法及半导体元件的制造方法。本发明的清洗组合物含有柠檬酸、1‑羟基乙烷‑1，1‑二膦酸、磺酸类表面活性剂及水，柠檬酸的含量相对于1‑羟基乙烷‑1，1‑二膦酸的含量的质量比为20～150，柠檬酸的含量相对于磺酸类表面活性剂的含量的质量比为70～1500，所述清洗组合物的pH为0.10～4.00。

公开(公告)号：CN115989561A

公开(公告)日：2023-04-18

申请号：CN202180053293.8

申请日：2021-07-30

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 大津晓彦 ,  河田幸寿 ,  室祐继 ,  吉留正洋 ,  上村哲也 ,  西塔亮

IPC: H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种更简便地管理包含有机溶剂的药液的纯度的半导体器件的制造方法及半导体制造装置的清洗方法以及清洗液的清洁度的更简便的测量方法。半导体器件的制造方法具有：工序1，使振子与以有机溶剂为主成分的药液接触，以获得由于药液的接触导致的振子的共振频率的变化量；工序2，确认药液的共振频率的变化量是否包含在基于预先设定的药液的纯度的共振频率的变化量的允许范围内；及工序3，将在工序2中确认的药液使用于半导体器件的制造中。

公开(公告)号：CN105339438B

公开(公告)日：2018-03-16

申请号：CN201480036159.7

申请日：2014-07-02

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 金子祐士 ,  渡邉哲也 ,  鲛岛贤 ,  伊藤纯一 ,  室祐继 ,  田口贵规 ,  尾田和也

IPC: C09B69/10 ,  C09B67/20 ,  C09B67/44 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  C08F8/00 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F20/36 ,  C08F20/60 ,  C08F290/12 ,  C08G18/32

CPC classification number: C08F224/00 ,  C07D311/88 ,  C08F8/00 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F20/36 ,  C08F290/12 ,  C08G18/32 ,  C08G18/3819 ,  C09B11/12 ,  C09B11/24 ,  C09B23/04 ,  C09B23/06 ,  C09B23/08 ,  C09B47/00 ,  C09B69/103 ,  C09B69/105 ,  C09B69/108 ,  G02B5/20 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/105

Abstract: 本发明提供一种在形成图案时可适当地形成图案的色素多聚体。进而，本发明提供一种使用色素多聚体的着色组合物、利用着色组合物的硬化膜、彩色滤光片、彩色滤光片的制造方法、固体摄像元件及图像显示装置。本发明的(A)色素多聚体具有非亲核性的反荷阴离子。

公开(公告)号：CN102645692B

公开(公告)日：2014-11-19

申请号：CN201210021525.4

申请日：2012-01-31

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 室祐继 ,  村山哲 ,  久保田诚

IPC: G02B5/20 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/033 ,  G03F7/105 ,  H01L27/146 ,  C09J4/00

CPC classification number: H01L27/14623 ,  C09J4/00 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/033 ,  G03F7/091 ,  G03F7/105 ,  H01L27/14618 ,  H01L27/14685 ,  H01L2224/13

Abstract: 本发明提供一种遮光膜及其制造方法、固体摄像元件以及相机模块。该遮光膜是固体摄像元件用遮光膜，所述固体摄像元件具有在硅基板的至少一面具备受光元件的摄像元件部，且具有形成于该硅基板的具备该摄像元件部的面上的壁，所述固体摄像元件用遮光膜是将感放射线性组成物喷雾涂布于该硅基板的具备受光元件的面、及形成于该具备受光元件的面上的壁上而形成，所述感放射线性组成物含有：(A)颜料分散物，含有包含黑色颜料的被分散体、分散剂及有机溶剂，且该被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径；(B)聚合性化合物；以及(C)聚合引发剂。