公开(公告)号：CN110869852A

公开(公告)日：2020-03-06

申请号：CN201880045116.3

申请日：2018-08-14

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 绪方裕斗 ,  臼井友辉 ,  远藤雅久 ,  岸冈高广

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有下述式(1)所示的结构单元的共聚物和溶剂。(在上述式中，X表示碳原子数2～10的二价链状烃基，该二价链状烃基可以在主链具有至少1个硫原子或氧原子，此外可以具有至少1个羟基作为取代基，R表示碳原子数1～10的链状烃基，2个n分别表示0或1。)

公开(公告)号：CN109416512A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201780040019.0

申请日：2017-06-23

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 绪方裕斗 ,  后藤裕一 ,  远藤雅久 ,  臼井友辉 ,  岸冈高广

IPC: G03F7/11 ,  C07C43/13 ,  C07D251/34 ,  C07D403/14 ,  C08L65/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C43/13 ,  C07D251/34 ,  C07D403/14 ,  C08L65/00 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的课题是提供包含具有乙内酰脲环的化合物的、新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含1分子中具有至少2个下述式(1)所示的取代基的化合物、和溶剂。(式中，R1和R2各自独立地表示氢原子或甲基，X1表示碳原子数1～3的羟基烷基、或主链具有1个或2个醚键的碳原子数2～6的烷基。)