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公开(公告)号：CN117716475A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202280051910.5
申请日：2022-07-14
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 一种层叠体的制造方法，其包括：在支承基板的表面形成第一粘接剂涂布层的工序；在半导体基板的表面形成第二粘接剂涂布层的工序；以及进行第一粘接剂涂布层与第二粘接剂涂布层的贴合和加热，由第一粘接剂涂布层和第二粘接剂涂布层形成粘接层的工序，第一粘接剂涂布层由第一粘接剂组合物形成，第二粘接剂涂布层由第二粘接剂组合物形成，第一粘接剂组合物和第二粘接剂组合物中的一者含有第一热固化成分和在催化剂存在下与第一热固化成分反应的第二热固化成分，另一者含有催化剂，第一粘接剂组合物和第二粘接剂组合物中的至少任意者含有剥离剂成分。
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公开(公告)号：CN117716474A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202280051909.2
申请日：2022-07-14
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 一种层叠体的制造方法，其包括：在形成于支承基板的表面的剥离剂涂布层的表面形成第一粘接剂涂布层的工序；在半导体基板的表面形成第二粘接剂涂布层的工序；以及进行第一粘接剂涂布层与第二粘接剂涂布层的贴合和加热，形成剥离层和粘接层的工序，第一粘接剂涂布层由第一粘接剂组合物形成，第二粘接剂涂布层由第二粘接剂组合物形成，第一粘接剂组合物和第二粘接剂组合物中的一者含有第一热固化成分和在催化剂存在下与第一热固化成分反应的第二热固化成分，另一者含有催化剂。
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公开(公告)号：CN110366768B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN201880014924.3
申请日：2018-02-28
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01L21/02 , C09D179/08 , C09D201/00
Abstract: 提供在半导体装置制造工序中用于将在基板上形成的异物除去的简便方法，提供在这样的方法中使用的用于异物除去的涂膜形成用组合物。在半导体基板上，优选使用包含由(a)四羧酸二酐化合物和(b)具有至少一个羧基的二胺化合物制造的聚酰胺酸、或由(a)四羧酸二酐化合物、(b)具有至少一个羧基的二胺化合物、和(c)二胺化合物制造的聚酰胺酸的组合物在基板上形成涂膜后，将在涂膜上存在的异物利用显影液处理而与涂膜一起除去。
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公开(公告)号：CN109843852A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201780062564.X
申请日：2017-10-03
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C07C233/43 , C07C233/54 , C07C235/16 , C07C317/40 , C08G59/52 , G03F7/11 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供能够获得特别是在KrF工艺中发挥充分的防反射功能、高耐溶剂性和干蚀刻速度的抗蚀剂下层膜、并可以形成良好的截面形状的光致抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含共聚物，所述共聚物包含：来源于二环氧化合物的结构单元(A)；以及来源于下述式(1)所示的化合物的结构单元(B)，(式中，A表示苯环、或环己烷环，X表示氢原子、碳原子数1～10的烷基、碳原子数1～10的烷氧基、或碳原子数2～11的烷氧基羰基，所述碳原子数1～10的烷基和碳原子数1～10的烷氧基可以具有卤素取代基，Y表示-COOH、或-L-NHCO-Z-COOH，Z表示可以被氧原子、硫原子或氮原子中断的碳原子数3～10的亚烷基，L表示单键、或间隔基)。
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公开(公告)号：CN109313389A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780021847.X
申请日：2017-03-29
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C08K5/3445 , C08L63/00 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 提供抗蚀剂下层膜形成组合物以及使用该组合物的抗蚀剂下层膜和半导体装置的制造方法，在半导体装置制造的光刻工艺中，利用具有甘脲骨架的化合物添加剂增强防止形成在基板上的抗蚀剂图案的图案倒塌的功能。使用下面的式(1-1)的抗蚀剂下层膜形成组合物用添加剂：(式(1-1)中，R1～R4各自是由选自由有机基团组成的组中的至少一个基团取代氢原子后的C2～10烷基或C2～10烯基，所述有机基团包含羟基、硫醇基、羧基、C1～5烷氧基乙基、C1～5烷基磺酰基和酯键，能够全部相同也能够不同，R5和R6各自表示选自氢原子、C1～10烷基和苯基中的基团)。
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公开(公告)号：CN109073978A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780026762.0
申请日：2017-04-21
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/306
Abstract: 本发明的课题是提供对碱性过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物。作为解决手段是一种对碱性过氧化氢水溶液的保护膜形成用组合物，其包含：1分子中具有2个以上选自缩水甘油基、末端环氧基、环氧环戊基、环氧环己基、氧杂环丁烷基、乙烯基醚基、异氰酸酯基和封闭异氰酸酯基中的至少1种基团的交联剂，侧链或末端具有下述式(1)所示的基团且重均分子量为800以上的化合物，以及有机溶剂。(式中，X1表示与上述交联剂反应的取代基，R0表示直接结合或碳原子数1或2的亚烷基，X2表示碳原子数1或2的烷基、碳原子数1或2的烷氧基、或氟基，a表示0～2的整数，b表示1～3的整数，c表示0～4的整数，b与c满足1≤(b+c)≤5的关系式。)。
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公开(公告)号：CN119404289A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202380048256.7
申请日：2023-06-16
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01L21/02 , C08F22/40 , C09D179/08
Abstract: 一种组合物，是包含聚合物和溶剂，且能够形成能够通过除去液而除去的涂膜的、异物除去用涂膜形成用组合物，上述聚合物为包含下述式(1)所示的结构单元的聚合物。[在式(1)中，X表示氧原子或NR，R表示氢原子或通过碱而被脱保护的酰亚胺基的保护基。]#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118511251A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202280087893.0
申请日：2022-12-20
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: H01L21/02
Abstract: 一种粘接剂组合物，其含有：反应产物(X)，为具有第一官能团的固体状的聚合物(x1)与在链末端具有能与所述第一官能团反应的第二官能团的液态且链状的化合物(x2)的反应产物(X)，具有所述第一官能团或所述第二官能团；以及液态的交联剂(Y)，具有所述第一官能团或所述第二官能团(其中，在所述反应产物(X)具有所述第一官能团的情况下，所述液态的交联剂(Y)具有所述第二官能团，在所述反应产物(X)具有所述第二官能团的情况下，所述液态的交联剂(Y)具有所述第一官能团)。
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公开(公告)号：CN117881749A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202280058786.5
申请日：2022-08-24
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C08L83/07 , C08K5/3412 , C08K5/50 , C08L83/05
Abstract: 一种热固性组合物，其含有：具有与硅原子键合的碳原子数2～40的烯基的聚有机硅氧烷、具有Si－H基的聚有机硅氧烷、铂族金属系催化剂、以及交联抑制剂，所述交联抑制剂含有下述式(1)所示的化合物和下述式(2)所示的化合物中的至少任一种。(所述式(1)中，R1～R8表示氢原子、特定的基团等。)(所述式(2)中，R11～R13各自独立地表示任选地具有取代基的烃基。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN110914309A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201880046103.8
申请日：2018-07-09
Applicant: 国立大学法人富山大学 , 日产化学株式会社
IPC: C07K17/08 , B01J20/24 , C08F220/34 , C08F220/36 , C08F220/40 , C12M1/00 , C12M3/00 , C12N1/02 , C07K11/00 , C12M1/34
Abstract: 本发明提供在表面的至少一部分被覆有包含下述式(1a)及式(1b)表示的结构单元的聚合物(P1)的带配体的基体及其原材料、以及其制造方法。式中，R1、R2、X、Y、L、Q1、Q2、Q3、m1、m2及n如权利要求书及说明书中记载。
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