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公开(公告)号：CN1209180C
公开(公告)日：2005-07-06
申请号：CN00100892.7
申请日：2000-02-14
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 森田博志
IPC: B01F3/04
CPC classification number: C02F1/78 , B08B3/08 , C02F1/006 , C02F1/727 , C02F2103/346 , Y10S261/42
Abstract: 在电子材料的湿法清洗工艺中，提供了一种溶解有气体的清洗水用的水配送管路，使其能够向所有的使用点供应具有基本恒定的气体浓度，即使是从主管经过长距离向具有多个使用点的支管进行配送溶解有自行分解气体的清洗水时。一种溶解有气体的清洗水用的水配送管路，该管路通过在气体存在下，将气体溶解于纯水中来进行清洗水的配送，其是在从主管伸出支管的每个点的上游处安装一个管线内混合器。
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公开(公告)号：CN1309095A
公开(公告)日：2001-08-22
申请号：CN00100892.7
申请日：2000-02-14
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 森田博志
IPC: C02F1/72
CPC classification number: C02F1/78 , B08B3/08 , C02F1/006 , C02F1/727 , C02F2103/346 , Y10S261/42
Abstract: 在电子材料的湿法清洗工艺中,提供了一种溶解有气体的清洗水用的水配送管路,使其能够向所有的使用点供应具有基本恒定的气体浓度,即使是从主管经过长距离向具有多个使用点的支管进行配送溶解有自行分解气体的清洗水时。一种溶解有气体的清洗水用的水配送管路,该管路通过在气体存在下,将气体溶解于纯水中来进行清洗水的配送,其是在从主管伸出支管的每个点的上游处安装一个管线内混合器。
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公开(公告)号：CN103210476B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201180055008.2
申请日：2011-11-11
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02052 , B08B3/00 , B08B3/02 , B08B3/04 , H01L21/67057
Abstract: 将通过清洗液清洗过的硅晶片用碳酸水进行漂洗。根据该硅晶片清洁方法，不存在通过漂洗处理发生静电而发生静电破坏的情形、或者在清洗后的硅晶片表面上通过静电附着垃圾的情形，能够防止硅晶片附着漂洗处理时的金属杂质，并且，能够进行使用在考虑到成本的同时进而没有产生残渣的顾虑的干净的漂洗液的漂洗处理。
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公开(公告)号：CN101939262A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200880114797.0
申请日：2008-11-04
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: C02F1/42 , B01J47/00 , B01J47/04 , H01L21/304
CPC classification number: C02F9/00 , B01J41/04 , B01J47/04 , B01J49/57 , C02F1/20 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/444 , C02F1/70 , C02F2001/422 , C02F2001/427 , C02F2103/04
Abstract: 本发明提供能稳定地制造硼浓度为1ng/L以下或金属浓度为0.1ng/L以下的超纯水制造装置、使用该超纯水制造装置的超纯水制造方法、电子部件构件类的清洗方法和清洗装置。超纯水制造装置，其中设置有具备阴离子交换树脂和阳离子交换树脂的混床式脱离装置16作为最后段的脱离子装置，作为该阴离子交换树脂，使用确认硼含量为50μg/L-阴离子交换树脂(湿润状态)以下的阴离子交换树脂或者阳离子洗脱量为100μg/L-阴离子交换树脂(湿润状态)的阴离子交换树脂。
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公开(公告)号：CN101401193B
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN200780008420.2
申请日：2007-03-12
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B01D19/00 , B01F1/00 , B08B3/08
CPC classification number: C02F1/70 , B01D19/0036 , B01F3/04269 , B01F2003/04404 , B01F2003/04914 , B08B3/12 , B08B9/0321 , C01B3/501 , C01B2203/0405 , C01B2203/0495 , C02F1/444 , C11D3/0052 , H01L21/67057
Abstract: 本发明涉及一种将特定气体溶解于水中的气体溶解洗涤水的制造方法，其特征在于在超过大气压的加压下，将特定气体溶解于水中，形成大气压下的溶解度以上的浓度的气体溶解水，接着减小气体溶解水的压力，去除溶解气体的一部分；一种气体溶解洗涤水的制造装置，该装置包括气体溶解装置(14)，其在超过大气压的加压下将特定气体溶解于水中；气体部分去除装置(15)，其将来自气体溶解装置的气体溶解水减小到低于气体溶解时的压力，去除溶解气体的一部分；采用该气体溶解洗涤水的洗涤装置。不采用真空泵等的减压机构，可安全地制造所需的气体浓度的气体溶解洗涤水，可再利用使用完的气体溶解洗涤水的水和特定气体，可适用于必须要求高度的清洁度的电子部件等的洗涤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1987457A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200610168085.X
申请日：2006-12-18
Applicant: 栗田工业株式会社
Abstract: 本发明提供水质评价方法、使用该水质评价方法的超纯水评价装置以及备有该超纯水评价装置的超纯水制造系统，所述水质评价方法以对硅物质的影响度作为指标、简易且高灵敏度地对作为制造半导体或液晶用的洗涤水而使用的超纯水的腐蚀性进行评价。使超纯水制造装置制造的超纯水等试样水与硅物质接触，测定与该硅物质接触后的试样水的溶解氢浓度，算出相对于与该硅物质接触前的上述试样水的溶解氢浓度的提高部分，基于该溶解氢浓度的提高部分，判断所述试样水是否具有腐蚀硅表面的性质。
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公开(公告)号：CN1929930A
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200580008074.9
申请日：2005-03-14
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: B08B3/08 , B01F1/00 , C02F1/68 , H01L21/304
CPC classification number: B01F1/00 , B08B3/08 , B08B3/10 , C02F1/68 , H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 本发明涉及一种循环式气体溶解水供给装置和该装置的运转方法。该装置包括制造特定的气体溶解水的溶解装置(A)；贮存气体溶解水的水槽(B)；将溶解装置(A)和水槽(B)连接的连接配管(C)；送出水槽(B)的贮存水的泵(D)；将水从水槽(B)经过泵(D)和清洗机的分支点，返回到水槽(B)的循环配管(E)；将气体供给水槽(B)的顶部空间的气体配管(F)，上述配管(C)和配管(E)的底端淹没于水槽(B)内的水面之下。通过本发明，可将清洗机未使用的气体溶解水返回到水槽，将溶解于气体溶解水中的特定的气体的浓度维持在一定值以上，将贮存气体溶解水的水槽的顶部空间的特定的气体的浓度保持在较低程度。
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公开(公告)号：CN1161825C
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：CN00100891.9
申请日：2000-02-14
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: H01L21/302 , B08B3/04 , C23F4/00
CPC classification number: H01L21/02052
Abstract: 为了提供一种能够去除电子元件表面上的金属、有机物和细小颗粒污物，尤其是硅基底上的污物，并且在清洗过程中抑制基底表面粗糙度以原子量级增大。一种清洗电子元件的方法，其是用氧化清洗液清洗，之后用还原清洗液清洗并施加超声振动。
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公开(公告)号：CN1351514A
公开(公告)日：2002-05-29
申请号：CN00807704.5
申请日：2000-03-24
Applicant: 栗田工业株式会社
Abstract: 一种用于制造含有溶解的臭氧的水的设备,包括(A)用于供应超纯水的管道,通过该管道供应超纯水,(B)催化反应部分,该部分与用于供应超纯水的管道相连,并且在该部分中使得超纯水与氧化－还原催化剂接触,(C)过滤装置,通过该装置将在催化反应部分中被处理的超纯水过滤,以及(D)用于溶解臭氧的装置,在该装置中臭氧溶解进入从过滤装置排出的超纯水;以及一种用于制造含有溶解的臭氧的水的设备,包括用于制造超纯水的装置、用于溶解臭氧的装置和催化反应部分,该用于制造超纯水的装置装备有利用紫外光进行辐射的装置,在该用于溶解臭氧的装置中臭氧溶解进入由用于制造超纯水的装置所制造的超纯水中,该催化反应部分装填有氧化－还原催化剂且被设置在利用紫外光辐照的装置和用于溶解臭氧的装置之间。在超纯水中含有的非常少量的会促进臭氧分解的物质被除去,所获得的含有溶解的臭氧的水在长距离运输之后,其臭氧浓度很少降低,并且在水中溶解的臭氧的残余比例高。
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公开(公告)号：CN110494959A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201880024524.0
申请日：2018-03-20
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 洗净水供给装置，其具有：超纯水线路(1)，其以定量流通超纯水；制造部(2)，其在该超纯水线路定量添加溶质来制造洗净水；洗净水的贮留槽(4)；洗净机(5A～5N)，其由贮留槽(4)供给洗净水；及，控制器(2a)，其以贮留槽(4)内的水位成为预定范围的方式控制洗净水制造部(2)。
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