公开(公告)号：CN101939262A

公开(公告)日：2011-01-05

申请号：CN200880114797.0

申请日：2008-11-04

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 福井长雄 ,  森部隆行 ,  堀田等 ,  森田博志

IPC: C02F1/42 ,  B01J47/00 ,  B01J47/04 ,  H01L21/304

CPC classification number: C02F9/00 ,  B01J41/04 ,  B01J47/04 ,  B01J49/57 ,  C02F1/20 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/444 ,  C02F1/70 ,  C02F2001/422 ,  C02F2001/427 ,  C02F2103/04

Abstract: 本发明提供能稳定地制造硼浓度为1ng/L以下或金属浓度为0.1ng/L以下的超纯水制造装置、使用该超纯水制造装置的超纯水制造方法、电子部件构件类的清洗方法和清洗装置。超纯水制造装置，其中设置有具备阴离子交换树脂和阳离子交换树脂的混床式脱离装置16作为最后段的脱离子装置，作为该阴离子交换树脂，使用确认硼含量为50μg/L-阴离子交换树脂(湿润状态)以下的阴离子交换树脂或者阳离子洗脱量为100μg/L-阴离子交换树脂(湿润状态)的阴离子交换树脂。