-
公开(公告)号：JPWO2012086728A1
公开(公告)日：2014-06-05
申请号：JP2012549861
申请日：2011-12-21
IPC: H01L21/31 , C23C16/448
CPC classification number: C23C16/4481 , B01D1/00
Abstract: 膜における、波紋、パーティクル、カーボン量を減少させることができ、しかも所望の組成を有する膜を形成することができる原料供給可能な気化器を提供する。また、必要以上の加熱を要することなく気化を十分に行うことが可能な、しかも、温度管理を容易とすることができる気化器を得る。成膜用液体材料が分散しているキャリアガスが導入される気化器本体3と、該気化器本体3の内部に配置されたヒータ本体4とを備えていることを特徴とする気化器であって、前記ヒータ本体の導入部の形状が、円錐形状であることを特徴とする気化器とする。
-
公开(公告)号：JP5016416B2
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：JP2007211175
申请日：2007-08-13
IPC: C23C16/448 , H01L21/31 , H01L21/316
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an evaporator which can be used for a long time without suffering from clogging and can stably feed a raw material into a reaction section. SOLUTION: The evaporator is equipped with a dispersion section 8 having a gas passage 2 formed inside the main body 1 of the dispersion section 8, a gas inlet 4 which introduces a pressurized carrier gas 3 into the gas passage 2, a means 6 for feeding a raw material solution 5 into the carrier gas passing through the gas passage 2, a gas outlet 7 for sending the carrier gas in which the dispersed raw material solution 5 is dispersed to an evaporation section 22, and a means 18 for cooling the inside of the gas passage 2; and radiation-preventing section 102 having an evaporation tube 20 connected between the reaction section of the apparatus and the gas outlet 7 of the dispersion section 8, a heater 21 that heats the evaporation tube 20 and the evaporation section 22 for heating and evaporating the carrier gas in which the raw material solution is dispersed, and pores 101 formed on the outside of the gas outlet 7. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
-
公开(公告)号：JP4520688B2
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：JP2002198024
申请日：2002-07-05
IPC: H01L21/31 , H01L21/768 , H01L21/318 , H01L23/522
-
-
-
Patent Agency Ranking
-
公开(公告)号：JP4011176B2
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：JP2765798
申请日：1998-02-09
Applicant: 株式会社渡辺商行
Inventor： 昌樹 楠原
IPC: B08B3/08 , H01L21/304 , B08B3/10
-
-
公开(公告)号：JPWO2003069649A1
公开(公告)日：2005-06-09
申请号：JP2003568680
申请日：2002-06-14
IPC: H01J1/304 , G09F9/30 , H01J3/02 , H01J17/06 , H01J23/06 , H01J29/04 , H01J31/12 , H01J37/06 , H01J63/06 , H01L21/027 , H05B33/14
CPC classification number: B82Y10/00 , H01J3/021 , H01J2201/304
Abstract: スピント型冷陰極やカーボンナノチューブやカーボンナノファイバの電子放出特性の更なる改善を図り、低電圧で高輝度の電子放出が可能な高性能電子放出装置を作製し、フラットパネルディスプレー、撮像装置、電子ビーム装置、マイクロ波進行波管、照明装置のキーデバイスとして提供する。スピント型冷陰極やカーボンナノチューブやカーボンナノファイバおよび凹凸を有する金属や半導体基板に膜内に電界を有する厚さ50nm以下の電子親和力4.0eV以下の膜を設けて電子放出装置を作製する。前記膜として窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウムホウ素、窒化アルミニウムガリウム、窒化ホウ素ガリウムなどのIII族原子と窒素原子の化合物、窒化ホウ素炭素、炭化ホウ素、窒化炭素、ホウ素を含む酸化物のいずれかを用いる。
-
公开(公告)号：JPWO2002069382A1
公开(公告)日：2004-07-02
申请号：JP2002568409
申请日：2002-02-28
IPC: H01L21/768 , G02F1/1333 , G02F1/1368 , H01L21/314 , H01L21/318 , H01L21/338 , H01L21/77 , H01L21/84 , H01L23/532 , H01L27/06 , H01L27/12 , H01L29/812
CPC classification number: H01L21/76801 , H01L21/318 , H01L21/76829 , H01L23/5329 , H01L27/0688 , H01L27/12 , H01L27/1214 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本発明は、低誘電率化を可能にし、しかも剥離等を防いだ膜を層間絶緑体層または保護膜として備えた、固体装置およびその製造方法を提供する。半導体装置において、ホウ素炭素窒素膜を層間絶縁膜5A〜5Cやパシベーション膜7として備えた。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
40
records
(took 0.048 seconds)
