公开(公告)号：CN103706499A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201310461090.X

申请日：2013-09-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  下元博 ,  中野央二郎 ,  今井正芳 ,  盐川阳一

IPC: B05B7/00 ,  H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67092 ,  B24B37/04 ,  B24B37/34 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67023

Abstract: 一种基板清洗装置，具有：保持基板(W)并使其旋转的基板保持部(1)；将药液供给到基板(W)上的药液喷嘴(11)；将双流体喷流供给到基板(W)上的双流体喷嘴(12)；以及使药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)一体地从基板(W)的中心部向周缘部移动的移动机构(15,21,22)，药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)隔开规定距离而相邻，关于药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)的移动方向，药液喷嘴(11)位于双流体喷嘴(12)的前方。采用本发明，可高效地清洗晶片等基板。