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公开(公告)号：CN116897226B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202280014805.4
申请日：2022-08-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 辻一仁
Abstract: 镀覆装置具备：镀覆槽，其构成为收容镀覆液；基板支架，其构成为保持作为进行镀覆处理的对象的基板；旋转机构，其使上述基板支架旋转；升降机构，其使上述基板支架升降；以及控制装置，上述基板支架具备：接触部件，其构成为与上述基板能够供电地接触；密封部件，其构成为将上述基板支架与上述基板之间密封；液体保持部，其在内部具有上述接触部件，并构成为在通过上述密封部件将上述基板支架与上述基板之间密封时能够保持液体；以及喷吐口，其构成为向上述液体保持部或上述基板支架的内部的与上述液体保持部连通的空间开口，或能够配置于上述基板支架的侧方，而喷吐上述液体。
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公开(公告)号：CN116897226A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202280014805.4
申请日：2022-08-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 辻一仁
Abstract: 镀覆装置具备：镀覆槽，其构成为收容镀覆液；基板支架，其构成为保持作为进行镀覆处理的对象的基板；旋转机构，其使上述基板支架旋转；升降机构，其使上述基板支架升降；以及控制装置，上述基板支架具备：接触部件，其构成为与上述基板能够供电地接触；密封部件，其构成为将上述基板支架与上述基板之间密封；液体保持部，其在内部具有上述接触部件，并构成为在通过上述密封部件将上述基板支架与上述基板之间密封时能够保持液体；以及喷吐口，其构成为向上述液体保持部或上述基板支架的内部的与上述液体保持部连通的空间开口，或能够配置于上述基板支架的侧方，而喷吐上述液体。
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公开(公告)号：CN115715337B
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202180042509.0
申请日：2021-10-14
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 辻一仁
Abstract: 本发明提出一种能够在不影响生产率的情况下有效地对基板实施预湿处理的预湿处理方法。提出用于在镀覆装置中对基板实施镀覆处理之前实施预湿处理的预湿处理方法。预湿处理方法包括：基于决定上述镀覆装置整体的处理速率的速率決定工序，算出预湿模块中的最大处理时间的工序；基于算出的上述最大处理时间，算出上述预湿模块中的喷嘴头的最低移动速度的工序；以及以算出的上述最低移动速度以上的速度使上述喷嘴头移动并向上述基板的板面供给上述预湿液的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116479506A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310398353.0
申请日：2021-12-06
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种能够去除附着于离子电阻器的孔的气泡的技术。镀覆方法包括：在将阳极和离子电阻器浸渍于镀覆液的状态下，通过驱动配置于比离子电阻器靠上方的位置的搅棒来搅拌镀覆液(步骤S20)；在停止了搅棒对镀覆液的搅拌的状态下，使作为阴极的基板浸渍于镀覆液(步骤S40)；在将基板浸渍于镀覆液的状态下，使配置于比离子电阻器靠上方且比基板靠下方的位置的搅棒对镀覆液的搅拌再次开始(步骤S50)；以及在再次开始了搅棒对镀覆液的搅拌的状态下，使电流在基板与阳极之间流动，由此对基板实施镀覆处理(步骤S60)。
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公开(公告)号：CN116368268A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202180038910.7
申请日：2021-11-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D7/12
Abstract: 本发明高效清洗基板。镀覆模块(400)包括：镀覆槽(410)，构成为收容镀覆液；基板保持器(440)，构成为保持被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的基板(Wf)；旋转机构(446)，构成为使基板保持器(440)旋转；倾斜机构(447)，构成为使基板保持器(440)倾斜；以及基板清洗部件(472)，用于清洗基板保持器(440)所保持的基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)，基板清洗部件(472)构成为从与通过倾斜机构(447)倾斜的基板(Wf)的下端对应的位置朝向与上端对应的位置，向通过旋转机构(446)旋转的基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)排出清洗液。
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公开(公告)号：CN116324046A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180040817.X
申请日：2021-11-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D21/08
Abstract: 镀覆模块包括：镀覆槽，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板；旋转机构，构成为使基板保持器旋转；触点部件(494‑4)，具有与保持于基板保持器的基板的被镀覆面的外周部接触的基板接点(494‑4a)、及比基板接点(494‑4a)向上方延伸的主体部(494‑4b)，该触点部件安装于基板保持器；以及触点清洗部件(482)，用于从基板保持器的下方朝向触点部件(494‑4)的主体部(494‑4b)排出清洗液。
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公开(公告)号：CN114262930A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202111141657.6
申请日：2021-09-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 辻一仁
Abstract: 本发明涉及镀覆装置。本发明提供一种能够抑制气泡滞留在电场遮蔽板的下表面的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)；基板保持件(30)；以及电场遮蔽板(60)，配置于镀覆槽的内部的阳极(50)与基板(Wf)之间的部分，遮蔽在阳极与基板之间形成的电场的一部分，在俯视观察电场遮蔽板时，在镀覆槽的内部设置有未被电场遮蔽板遮蔽的非遮蔽区域(70)，在电场遮蔽板的下表面(61a)设置有倾斜面，该倾斜面相对于水平方向倾斜，并且构成为将存在于该下表面的气泡释放到非遮蔽区域。
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