膜载体的制造方法和在该方法中使用的掩膜及膜载体

    公开(公告)号:CN1116697C

    公开(公告)日:2003-07-30

    申请号:CN97191085.5

    申请日:1997-06-04

    Inventor: 汤泽秀树

    Abstract: 本发明是将导体图形复制到安装电子元件的膜载体上的方法,利用在涂敷了光致抗蚀剂的膜载体上备有导体图形和2个以上的导体图形的位置重合用的标记的掩模,预备性地复制掩模图形,测定被复制了的位置重合用的标记相对于膜载体的基准坐标的位置与设计位置的偏移,调节掩模相对于膜载体的位置,其后将所述掩模图形正式复制到膜载体上。此外,公开了备有用于实施所述方法的导体图形和2个以上的导体图形的位置重合用的标记的掩模。还公开了在导体层表面除了导体图形以外复制了对于膜的2个以上的导体图形的位置重合用的标记的膜载体。

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