Abstract:
The present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing purified liquid fertilizer which manufactures liquid fertilizer by extracting minerals from sericite and filtering the same and more specifically, to a manufacturing apparatus and a manufacturing method which can obtain environmentally friendly liquid fertilizer by manufacturing the liquid fertilizer from sericite which is a natural mineral. The apparatus and the method for manufacturing liquid fertilizer containing sericite according to the present invention can extract more mineral fertilizer compositions required for plant growth such as potassium, calcium, and sodium through a simple manipulation and reduce the energy source required for the extraction process. In addition, the liquid fertilizer manufactured by the apparatus and the method of the present invention: shows alkali properties so that acid soil can be neutralized; prevents acidification of soil; and can conveniently be used by removing sericite powder included in the liquid fertilizer and not blocking the nozzle of a liquid fertilizer sprayer.
Abstract:
본 발명은 수질 및 대기 정화에서 미세 미량의 오염 물질을 제거하는 데에 사용될 수 있는 나노 다공성 광촉매 티타니아 표면을 구비한 티타늄 분리막의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 티타늄 분리막은 티타늄 금속 분리막을 매트릭스로 하여 이 티타늄 금속 분리막의 표면에 광촉매 기능을 갖는 티타니아 박막이 일체로 형성된 구조로 이루어져 있다. 따라서, 지금까지 티타늄 분리막의 개발과정에서 야기되던 티타니아 분말의 재처리 문제나 티타니아 박막의 박리 문제가 완전히 해소된다. 또한, 본 발명의 티타늄 분리막은 광촉매 기능이 우수한 아나타제상 티타니아 박막에 의해 미세 미량의 수질 및 대기 오염 유발물질을 효율적으로 처리할 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 티타늄 분리막은 수질 및 대기 정화용 필터로의 응용성이 증대되며, 수질 및 대기 환경 개선에 크게 이바지할 수 있는 효과가 기대된다. 나노 기공, 광촉매, 분리막, 티타늄, 티타니아, 아노다이징, 아나타제
Abstract:
A nano porous photo-catalytic membrane, a manufacturing method thereof and a water treatment purification system and an air purification system by means of the nano porous photo-catalytic membrane are provided to increase an area substantially contacting with the fluid, thereby enhancing the efficiency of the photo-catalyst. The titanium layer is deposited on a silicon substrate(60). A titanium oxide layer(65) with the nano-sized pores(70) is formed by means of an anodizing process. An etching mask, for example, a photo-resist pattern is formed on the rear surface of the silicon substrate and defines a micro-sized hole. The silicon substrate is wet-etched by the etching solution through the photoresist pattern as an etching mask so that micro-sized holes(80) are formed and then the photoresist pattern is removed.