公开(公告)号：KR1020160136258A

公开(公告)日：2016-11-29

申请号：KR1020160151251

申请日：2016-11-14

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  소회섭 ,  권진혁

IPC: G02F1/1335 ,  F21V8/00 ,  G02B6/10

Abstract: 선형광원및 상기선형광원을포함하는백라이트유닛에관한것이다.

公开(公告)号：KR1020150117077A

公开(公告)日：2015-10-19

申请号：KR1020140042366

申请日：2014-04-09

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  소회섭

IPC: G02B5/04 ,  G02B6/00 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B6/0036 ,  G02B5/045 ,  G02B6/0038 ,  G02B6/0053 ,  G02F1/133504 ,  G02F1/133615

Abstract: 본원은, 광학시트를구비한백라이트도광판, 상기백라이트도광판을포함하는백라이트유닛및 디스플레이장치에관한것이다.

Abstract translation: 本发明涉及具有实现高效率的光提取结构的光学片的背光导光板以及具有该背光导光板的背光单元和显示装置。 光学片包括：用于传播从光源输出的光的导光板; 以及与导光板的一侧接触的棱锥片或棱镜片。 多个微金字塔配置在金字塔片上，多个微棱镜配置在棱镜片上。

公开(公告)号：KR1020150117076A

公开(公告)日：2015-10-19

申请号：KR1020140042365

申请日：2014-04-09

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  소회섭

IPC: G02F1/13357 ,  F21S2/00

Abstract: 본원은, 광추출도광판을포함하는백라이트유닛, 및상기백라이트유닛을포함하는디스플레이장치에관한것이다.

Abstract translation: 本发明涉及一种包括光提取导光板的背光单元和包括背光单元的显示装置。 背光单元包括：导光板，其包括形成在一侧的微透镜或微棱镜; 配置微棱镜的微棱镜片; 以及光路，其中导光板以交叉的方式联接到微棱镜片。

公开(公告)号：KR1020120111306A

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：KR1020110029725

申请日：2011-03-31

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  소회섭 ,  이치영

IPC: G03F7/00 ,  B29C59/02 ,  G03F7/16

CPC classification number: G03F7/0002 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/325 ,  G03F7/70616 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0337

Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a mold, the mold, and a forming method of fine patterns using the mold are provided to reduce costs needed for manufacturing processes and to form nano-sized line patterns on a substrate. CONSTITUTION: A manufacturing method of a mold includes the following: a first pattern is formed on a substrate(210) using ultraviolet ray shielding materials; a molding resin is applied on the substrate; a mask mold with a second pattern is pressurized on the substrate with the molding resin in order to arrange a surface which is shared by the first pattern and the second pattern; the patterns are imprinted; the molding resin is cured; and the master mold is removed from the substrate.

Abstract translation: 目的：提供使用该模具的模具的制造方法，模具和精细图案的成形方法，以降低制造工艺所需的成本并在基板上形成纳米尺寸的线图案。 构成：模具的制造方法包括：使用紫外线屏蔽材料在基板（210）上形成第一图案; 将模塑树脂施加在基材上; 为了布置由第一图案和第二图案共享的表面，具有第二图案的掩模模具用模制树脂在基板上加压; 图案印记; 成型树脂固化; 并将主模从衬底上移除。

公开(公告)号：KR1020120111288A

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：KR1020110029693

申请日：2011-03-31

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  소회섭 ,  이치영

IPC: G03F7/00 ,  B29C59/02 ,  G03F7/16

CPC classification number: G03F7/0002 ,  G03F7/16 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31144

Abstract: PURPOSE: A fine pattern forming method with a photo mask and a nano-imprinting mold is provided to form patterns of various shapes and to form nano-sized line patterns by using micro-sized line patterns. CONSTITUTION: A fine pattern forming method includes the following: Pattern forming resist(120) is applied on a substrate(110); a master mold with a first pattern is in contact with the upper side of the pattern forming resist; the master mold is pressurized to be imprinted; the master mold is irradiated with ultraviolet rays through a photo-mask with a second pattern which is different from the first pattern; and the master mold and the photo-mask are separated from the substrate to develop the pattern forming resist.

Abstract translation: 目的：提供具有光掩模和纳米压印模具的精细图案形成方法，以形成各种形状的图案，并通过使用微尺寸线图案形成纳米尺寸线图案。 构成：精细图案形成方法包括：图案形成抗蚀剂（120）施加在基板（110）上; 具有第一图案的母模与图案形成抗蚀剂的上侧接触; 主模具加压压印; 通过具有不同于第一图案的第二图案的光掩模用紫外线照射母模; 并且将母模和光掩模与基板分离以形成图案形成抗蚀剂。