임프린트를 이용한 패터닝 방법, 이를 이용하여 제작된 패턴 구조체 및 임프린팅 시스템
    21.
    发明公开
    임프린트를 이용한 패터닝 방법, 이를 이용하여 제작된 패턴 구조체 및 임프린팅 시스템 审中-实审
    使用方法和印刷系统制作的印花和图案结构的绘图方法

    公开(公告)号:KR1020150127493A

    公开(公告)日:2015-11-17

    申请号:KR1020140054429

    申请日:2014-05-07

    Abstract: 임프린트를이용한대면적패터닝방법, 이를이용하여제작된패턴구조체및 임프린팅시스템이개시된다. 개시된패터닝방법은, 패턴형성을위한레지스트층을마련하는단계와, 임프린트몰드를이용하여상기레지스트층의제1 영역에제1 임프린트공정을수행함으로써상기레지스트층의변형에의해제1 패턴을형성하는단계와, 상기임프린트몰드를이용하여상기레지스트층의제2 영역에제2 임프린트공정을수행함으로써상기레지스트층의변형에의해제2 패턴을형성하는단계;를포함한다. 여기서, 상기제1 영역과상기제2 영역은일부가서로중첩하며, 상기중첩된영역에서는상기제2 임프린트공정에의해상기제1 패턴이변형됨으로써상기제2 패턴으로형성된다.

    Abstract translation: 公开了使用印记的图案化方法,使用其的图案结构和印记系统。 所公开的图案化方法包括以下步骤:制备用于形成图案的抗蚀剂层; 通过使用压印模具对抗蚀剂层的第一区域进行第一压印处理以修饰抗蚀剂层来形成第一图案; 以及通过使用压印模具对抗蚀剂层的第二区域进行第二压印处理以形成第二图案,从而改变抗蚀剂层。 这里,第一和第二区域部分地彼此重叠,并且在重叠区域中,通过通过第二压印处理进行修改将第一图案形成为第二图案。

    임프린트 공정을 이용하여 패턴형성영역에 정렬된 패턴을 형성하는 방법

    公开(公告)号:KR102201321B1

    公开(公告)日:2021-01-11

    申请号:KR1020140095014

    申请日:2014-07-25

    Abstract: 임프린트공정을이용하여패턴형성영역에정렬된패턴을형성하는방법이개시된다. 개시된방법은제1 기판상에서패턴형성영역에만접착증진층을형성하는단계와, 상기제1 기판상으로상기접착증진층을덮도록레진을도포하는단계와, 제1패턴이형성된스탬프몰드를사용하여상기제1패턴이상기레진을접촉하도록상기제1 기판쪽으로상기스탬프몰드를가압하여상기레진에상기제1패턴을전사하는단계와, 상기레진상으로자외선을조사하여상기레진을경화하고, 상기제1패턴에대응되는제2패턴을상기제1 기판상에형성하는단계와, 상기스탬프몰드를상기제1 기판으로부터떼어내어상기제1 기판상에서상기접착증진층위에만상기제2패턴을남기는단계를포함한다.

    임프린트 공정을 이용하여 패턴형성영역에 정렬된 패턴을 형성하는 방법
    26.
    发明公开
    임프린트 공정을 이용하여 패턴형성영역에 정렬된 패턴을 형성하는 방법 审中-实审
    使用印刷工艺在图案形成区域上制作对准图案的方法

    公开(公告)号:KR1020160012809A

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:KR1020140095014

    申请日:2014-07-25

    Abstract: 임프린트공정을이용하여패턴형성영역에정렬된패턴을형성하는방법이개시된다. 개시된방법은제1 기판상에서패턴형성영역에만접착증진층을형성하는단계와, 상기제1 기판상으로상기접착증진층을덮도록레진을도포하는단계와, 제1패턴이형성된스탬프몰드를사용하여상기제1패턴이상기레진을접촉하도록상기제1 기판쪽으로상기스탬프몰드를가압하여상기레진에상기제1패턴을전사하는단계와, 상기레진상으로자외선을조사하여상기레진을경화하고, 상기제1패턴에대응되는제2패턴을상기제1 기판상에형성하는단계와, 상기스탬프몰드를상기제1 기판으로부터떼어내어상기제1 기판상에서상기접착증진층위에만상기제2패턴을남기는단계를포함한다.

    Abstract translation: 公开了使用压印处理在图案形成区域上形成对准图案的方法。 所公开的方法包括以下步骤:仅在第一基板上的图案形成区域上形成粘附促进层; 铺展树脂使得粘合促进层可以覆盖第一基底; 通过向第一基板加压印模以将第一图案转印到树脂上,使得第一图案可以通过使用其上形成有第一图案的印模来接触树脂; 通过用紫外线照射树脂来硬化树脂,并在第一基板上形成与第一图案对应的第二图案; 从第一基板上取下印模,使得第二图案仅保留在第一基板上的附着促进层上。

    나노 임프린트용 레진 디스펜서
    27.
    发明公开
    나노 임프린트용 레진 디스펜서 审中-实审
    用于纳米压印的树脂分配器

    公开(公告)号:KR1020150046644A

    公开(公告)日:2015-04-30

    申请号:KR1020130126112

    申请日:2013-10-22

    CPC classification number: B41F31/02 G03F7/0002

    Abstract: 나노임프린트용디스펜서가개시된다. 개시된나노임프린트용디스펜서는하부에슬릿이형성된하우징; 상기하우징의중간에서단부가고정된멤브레인; 상기하우징내에서상기멤브레인에의해구분되며상기슬릿으로토출되는레진이채워진하부챔버; 및상기하우징내에서상기멤브레인의상부에형성되며상기멤브레인이상기레인을향하여돌출되게가압되는유체가채워진상부챔버;를포함한다.

    Abstract translation: 公开了用于纳米压印的分配器。 分配器包括:壳体,其在其下部形成有狭缝; 其端部固定在壳体的中间的膜; 下室,其通过所述膜在所述壳体中分割,并且填充有通过所述狭缝排出的树脂; 以及形成在所述壳体中的所述膜的上侧上并且被填充有流体的上室,所述流体被挤压以使所述膜向树脂突出。

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