公开(公告)号：KR1020170121038A

公开(公告)日：2017-11-01

申请号：KR1020160170837

申请日：2016-12-14

Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 ,  삼성전자주식회사

Inventor： 문형랑 ,  곽병도 ,  김일진 ,  김지호 ,  문성현 ,  신선희 ,  이광환 ,  이진영 ,  조익환 ,  한재현

IPC: C09J7/02 ,  G02B5/30 ,  G02B5/20 ,  C09J133/08 ,  B32B7/12 ,  B32B27/36 ,  C09J133/10 ,  C09J11/06

CPC classification number: C09J7/255 ,  B32B7/12 ,  B32B27/36 ,  C09J7/385 ,  C09J11/06 ,  C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J2201/622 ,  C09J2203/318 ,  G02B5/20 ,  G02B5/3041

Abstract: 수산기함유 (메트)아크릴레이트및 알킬기함유 (메트)아크릴레이트를포함하는단량체혼합물로형성된점착필름이고, 상기점착필름은폴리에틸렌테레프탈레이트필름(두께:50㎛), 상기점착필름(두께:100㎛), 및폴리에틸렌테레프탈레이트필름(두께:100㎛)이순차적으로적층된 3층구조의시편(가로 x 세로:13cm x 3cm)을간격 1cm의틀 사이에상기시편의가로길이가 1/2이되도록폴리에틸렌테레프탈레이트필름(두께:50㎛)의방향으로구부려서넣고하기의순차적인수행인 24시간의 1사이클을 10사이클반복하였을때 기포발생면적이 0%인것인점착필름, 이를포함하는광학부재및 이를포함하는광학표시장치가제공된다.

Abstract translation: （甲基）丙烯酸酯和含烷基的（甲基）和从含有丙烯酸酯的单体混合物形成的压敏粘合剂膜的含羟基的，该压敏粘合剂膜是聚对苯二甲酸乙酯薄膜（厚度：50㎛）时，压敏粘合剂膜（厚度：100㎛） 和聚对苯二甲酸乙酯薄膜（厚度：100㎛）的三层结构的层叠顺序的标本：1厘米间隔之间的（宽x13厘米X3厘米）uiteul试样的宽度，使得聚对苯二甲酸乙酯1/2 邻苯二甲酸装有光学部件，以及含有该粘接膜的相同，其包括（50㎛厚度），在24小时的方向上的弯曲的顺序执行的第一个循环中的气泡生成区，以0％至放hayeoteul重复此循环10次 提供。

公开(公告)号：KR1020170121037A

公开(公告)日：2017-11-01

申请号：KR1020160170836

申请日：2016-12-14

Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 ,  삼성전자주식회사

Inventor： 문성현 ,  곽병도 ,  강지원 ,  김일진 ,  김지호 ,  문형랑 ,  신선희 ,  이광환 ,  이진영 ,  조익환 ,  한재현 ,  황인철

IPC: G09F9/30 ,  H01L51/00 ,  G02F1/1333

Abstract: 디스플레이부, 제1점착필름, 광학필름, 제2점착필름, 윈도우필름이순차적으로적층되고, 상기제2점착필름은수분투과도가 200g/mㆍ24hr 이하이고, 상기제1점착필름은상기제2점착필름대비식 B의복원력이더 작은것인플렉시블디스플레이장치가제공된다.

Abstract translation: 其中第二粘合剂膜的透水性为200g / m 2/24小时或更小，并且第一粘合剂膜包含第一粘合剂膜，第二粘合剂膜， 提供了一种柔性显示装置，其中表达式B的表现力小于粘合剂膜的表现力。

公开(公告)号：KR101673885B1

公开(公告)日：2016-11-08

申请号：KR1020100038338

申请日：2010-04-26

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  한국과학기술원

Inventor： 방원철 ,  이형욱 ,  김상현 ,  이기혁 ,  허성국 ,  한재현

IPC: G01S5/16 ,  G01B11/14 ,  G01B11/02 ,  A63F13/219

CPC classification number: G01S5/163

Abstract: 적외선을이용해서위치및 방향을추정하는시스템및 방법이제공된다. 일측면에따른위치및 방향추정시스템은수광부들각각에서수광하는광 조사부들각각에서조사한조사광의세기를측정하고, 상기측정한조사광의거리에따라달라지는세기와수광지향특성및 발광지향특성을이용해서원격장치의위치와방향을추정한다.

Abstract translation: 提供了使用红外光来估计位置和方向的系统和方法。 该系统可以测量通过每个光接收器的每个光照射器照射的照射光的强度，并且可以基于测量的强度，光接收方向性和发光方向性来估计远程设备的位置和方向。

公开(公告)号：KR101648313B1

公开(公告)日：2016-08-16

申请号：KR1020150145681

申请日：2015-10-19

Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 ,  삼성전자주식회사

Inventor： 문형랑 ,  김지호 ,  김일진 ,  곽병도 ,  김지희 ,  문성현 ,  신선희 ,  이광환 ,  이우진 ,  이은화 ,  조익환 ,  한재현 ,  조중근

IPC: C09J133/06 ,  C09J11/04 ,  C09J7/02

Abstract: 본발명의점착제조성물은수산기를갖는 (메트)아크릴레이트및 공단량체를포함하는단량체혼합물및 유기입자를포함하고, 상기유기입자의평균입경은 10 nm 내지 400 nm이다.

公开(公告)号：KR1020160077565A

公开(公告)日：2016-07-04

申请号：KR1020140187619

申请日：2014-12-23

Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 ,  삼성전자주식회사

Inventor： 이광환 ,  곽병도 ,  김일진 ,  김지호 ,  문형랑 ,  문성현 ,  장선화 ,  한재현

IPC: C09J133/06 ,  C09J11/06 ,  C09J7/00 ,  B82B3/00 ,  G02F1/1335

CPC classification number: C09J11/06 ,  C08K2201/011 ,  C09J4/00 ,  C09J7/00 ,  C09J7/10 ,  C09J7/385 ,  C09J133/06 ,  C09J2203/318 ,  C09J2205/102 ,  C09J2433/00 ,  C09J2483/00 ,  C08F220/18 ,  B82B3/00 ,  C09J2201/622 ,  G02F1/1335

Abstract: 본발명의점착제조성물은수산기를갖는 (메트)아크릴계공중합체및 나노입자를포함하고, 상기나노입자는실리콘계화합물을포함하고, 평균입경은 5 nm 내지 800 nm이다.

Abstract translation: 本发明涉及粘合剂组合物。 粘合剂组合物包含：具有羟基的（甲基）丙烯酸共聚物; 和包含硅氧烷基化合物的纳米颗粒。 纳米颗粒的平均直径为5-800nm。 粘合剂组合物具有优异的粘合强度，并且在宽的温度范围内保持粘弹性，同时具有优异的回收特性。

公开(公告)号：KR1020160076974A

公开(公告)日：2016-07-01

申请号：KR1020150177425

申请日：2015-12-11

Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 ,  삼성전자주식회사

Inventor： 문성현 ,  곽병도 ,  김일진 ,  김지호 ,  문형랑 ,  이광환 ,  조익환 ,  한재현

IPC: C09J133/10 ,  C09J9/00

Abstract: 본발명의점착필름은수산기를갖는 (메트)아크릴레이트및 공단량체를포함하는단량체혼합물;을포함하는점착제조성물로형성되고, 하기식 1에의한리커버리력(%)이 40% 내지 99%이고, 하기측정방법에의한기포발생면적(%)이 0%이다. [식 1] 리커버리력(%)=(1-(X/X))×100 (상기식 1에서, 가로×세로(50 mm × 20 mm)의 PET(폴리에틸렌테레프탈레이트) 필름(두께: 75㎛)의양 말단부를각각제1말단부, 제2말단부라고할 때, 가로×세로(20 mm × 20 mm)의점착필름에의해 PET 필름 2개각각의말단부를서로점착시켜, PET 필름의제1말단부/점착필름(가로 × 세로, 20 mm × 20 mm)/PET 필름의제2말단부의순서로점착시킨시편을제조하고, 상기 PET 필름의양 말단부에각각지그를고정하고, 한쪽 지그는고정시키고, 다른쪽 지그는 300 mm/min의속도로당겨상기점착필름의두께(단위: ㎛)의 1000%의길이(두께의 10배, X)에도달한후 10초동안유지하고, 당긴속도와동일한속도로복원(300 mm/min)하여상기점착필름에 0 kPa의힘이가해질때의점착필름이늘어난길이가 X(단위: ㎛)이다). [기포발생면적측정방법] 점착필름(가로 13 cm × 세로 3 cm, 두께 100 ㎛)의일면에 50 ㎛두께의 PET 및상기점착필름의이면에 100 ㎛두께의 PET가적층된점착필름을 1 cm 간격의평행한틀 사이에상기점착필름의가로길이가 1/2이되도록 50 ㎛ PET 방향으로구부려서넣고온도 70 ℃, 습도 93%에서 24 시간에이징(aging)하고, 광학현미경(Olympus사, EX-51, 30배율)로측정한이미지를 Mountech사의 Mac-view software로분석하여, 상기측정면적에대하여기포의크기가차지하는면적의비율(%)을계산한다.

Abstract translation: 本发明涉及通过粘合剂组合物形成的粘合膜。 粘合剂膜包含（甲基）丙烯酸酯和共聚单体的单体混合物，并且根据本说明书中记载的测定方法，回收率（％）为40-99％，气泡产生面积（％）为0％ 。 恢复率（％）可以通过公式计算（1-（Xf / X0））×100。 Xf和X0的定义与说明书中描述的相同。 本发明的粘合剂组合物在宽的温度范围内保持粘弹性，并且在恶劣条件下具有优异的回收特性，折叠性能和可靠性。

公开(公告)号：KR100555445B1

公开(公告)日：2007-08-16

申请号：KR1019970038706

申请日：1997-08-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 한재현

IPC: H01L27/108

Abstract: 고유전율 재료를 유전체막으로 채용한 커패시터 전극 및 그 전극을 사용한 커패시터의 제조방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 의한 반도체 장치의 커패시터 전극 및 이를 이용한 커패시터의 제조방법은 에칭이 잘되어 스택형으로 형성하기에 용이한 물질, 예컨대 Ru, RuO2, Ti, TiN 및 이를 조합한 금속 중에 하나를 선택하여 형성된 제1 금속층과, 에칭이 잘되지 않지만 산화가 잘되지 않아 누설전류 특성이 우수한 물질, 예컨대 Pt, Ir 및 IrO2 중에서 선택된 하나의 금속을 사용하여 형성한 제2 금속층(112', 212')을 포함하여 하부전극을 형성하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 하부전극을 형성시에 식각 경사도가 발생하여 커패시터 하부전극의 단면적이 줄어드는 것을 방지하고, 커패시터 높이를 높게 형성할 수 있어서 고유전율 재료를 사용하는 반도체 장치의 커패시터에서 커패시턴스를 높일 수 있다.

公开(公告)号：KR100725108B1

公开(公告)日：2007-06-04

申请号：KR1020050097979

申请日：2005-10-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김우석 ,  한재현 ,  홍주표 ,  허노현

IPC: H01L21/02

CPC classification number: C23C16/45508 ,  C23C16/4558

Abstract: 가스 공급 장치 및 이를 갖는 기판 가공 장치는 챔버 내부에 수평으로 배치된 기판의 주위로부터 기판을 향해 공정 가스를 분사하기 위한 노즐을 갖는 제1 가스 링 및 제1 가스 링과 연결되며 공정 가스를 공급하기 위한 공급 라인으로부터 제공되는 공정 가스를 제1 가스 링으로 제공하기 위한 제2 가스 링을 포함한다. 공정 가스는 제2 가스 링에서 버퍼링된 후 제1 가스 링을 통하여 기판 상으로 공급된다. 기판 상에 공정 가스를 균일한 상태로 공급할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020070042268A

公开(公告)日：2007-04-23

申请号：KR1020050097979

申请日：2005-10-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김우석 ,  한재현 ,  홍주표 ,  허노현

IPC: H01L21/02

CPC classification number: C23C16/45508 ,  C23C16/4558

Abstract: 가스 공급 장치 및 이를 갖는 기판 가공 장치는 챔버 내부에 수평으로 배치된 기판의 주위로부터 기판을 향해 공정 가스를 분사하기 위한 노즐을 갖는 제1 가스 링 및 제1 가스 링과 연결되며 공정 가스를 공급하기 위한 공급 라인으로부터 제공되는 공정 가스를 제1 가스 링으로 제공하기 위한 제2 가스 링을 포함한다. 공정 가스는 제2 가스 링에서 버퍼링된 후 제1 가스 링을 통하여 기판 상으로 공급된다. 기판 상에 공정 가스를 균일한 상태로 공급할 수 있다.

公开(公告)号：KR100673003B1

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：KR1020050047870

申请日：2005-06-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장규백 ,  김태경 ,  한재현 ,  정원영 ,  김형규

IPC: C23C14/24

CPC classification number: H01L21/68735 ,  H01L21/68721

Abstract: 본 발명은 증착 장치를 제공한다. 증착 장치 내에는 챔버 내에 놓여진 웨이퍼의 가장자리로 공정가스가 증착되는 것을 방지하는 증착 방지부재가 제공되고, 증착 방지부재는 고정 부재에 의해 공정 챔버 내에 고정된다. 고정 부재는 증착 방지부재를 지지하는 지지 블록과 그 상부에 위치되며 상면이 경사진 안내 블록을 가진다. 고정 부재의 둘레에는 공정 챔버와의 사이에 유체의 배기 통로를 제공하는 고정체가 제공되며, 안내 블록은 고정체와 지지 블록의 상면들간에 큰 높이차로 인해 지지 블록의 상면에서 와류가 발생되는 것을 방지한다.
증착, 와류, 경사, 증착 방지부재, 안내 블록

Abstract translation: 本发明提供一种沉积设备。 在该成膜装置具备的蒸发防止构件，其防止在沉积过程气体到位于腔室中的晶片的边缘，所述沉积防止构件由保持构件，其固定在处理室中。 固定构件具有用于支撑防沉积构件的支撑块和位于支撑块上并且其顶表面倾斜的引导块。 固定构件的周缘上设置有一固定体，以提供所述处理腔室之间的流体的排气通道，所述引导块是由于固定体的上表面和支撑块，该涡电流在支承块的上表面上产生之间的大的高度 来防止。