방사성 의약품용 테크네튬 또는 레늄 착물의 제조방법
    21.
    发明授权
    방사성 의약품용 테크네튬 또는 레늄 착물의 제조방법 失效
    방사성의약품용테크네튬또는레늄착물의제조방

    公开(公告)号:KR100439962B1

    公开(公告)日:2004-07-12

    申请号:KR1020020031548

    申请日:2002-06-05

    CPC classification number: C07F13/005 A61K51/0402 A61K51/0476 A61K51/0489

    Abstract: The present invention relates to a method of preparing technetium or rhenium complex for radiopharmaceuticals, through reaction of pertechnetate or perrhenate with a ligand in the presence of a reducing agent, wherein the reducing agent is a borohydride exchange resin (BER). The borohydride exchange resin of the present invention has advantages of being stable in a wide range of Ph, including acidic or alkaline condition(Ph 2~14) and thus being applicable to biological materials as well as being easily removable through filtration when being administrated. Also since the radiolabelled complex is produced under conditions milder than those required for the conventional reducing agents as well as has high radiochemical purity and high labeling efficiency, the conventional reducing agents can be replaced by the BER of the present invention.

    Abstract translation: 本发明涉及一种通过高锝酸盐或高铼酸盐与配位体在还原剂存在下反应制备放射性药物用锝或铼配合物的方法,其中还原剂是硼氢化物交换树脂(BER)。 本发明的氢硼化物交换树脂具有在包括酸性或碱性条件(Ph 2〜14)在内的宽范围的Ph中稳定的优点,因此适用于生物材料并且在施用时通过过滤易于除去。 另外,由于放射性标记复合物在比常规还原剂所需条件温和的条件下生产,并且具有高放射化学纯度和高标记效率,所以常规还原剂可以用本发明的BER代替。

    방사성 키토산 착물, 방사성 키토산 응집입자 및 방사성키토산 착물 제조용 키트, 그리고 그들의 제조방법 및 용도
    23.
    发明授权
    방사성 키토산 착물, 방사성 키토산 응집입자 및 방사성키토산 착물 제조용 키트, 그리고 그들의 제조방법 및 용도 有权
    放射性CHITOSAN CHELASS,放射性CHITOSAN凝胶制品用于制备放射性CHITOSAN CHELATES,其制备和使用

    公开(公告)号:KR100190957B1

    公开(公告)日:1999-06-15

    申请号:KR1019960005038

    申请日:1996-02-28

    CPC classification number: A61K51/1217 A61K51/06

    Abstract: 본 발명은 방사성 핵종을 천연의 무독성, 생체적합성, 생분해성의 고분자 키토산에 표지시킨 방사성 키토산 착물, 이 방사선 키토산 착물을 입자화시킨 방사성 키토산 응집입자 및 방사성 키토산 착물 제조용 키트에 관한 것이다.
    본 발명은 방사성 핵종 용액과 키토산의 용액을 반응시켜 방사성 키토산 착물 용액을 제조하는 방법, 방사성 키토산 착물 용액에 알칼리를 가하여 침전시켜 방사성 키토산 응집입자를 제조하는 방법 그리고 키토산을 동결건조시켜 방사성 키토산 착물 제조용 키트를 제조하는 방법에 관한 것이다.
    또한 방사성 키토산 착물 및 응집입자는 병소에 직접적으로 국부 주사되어 병소에서 방사선을 방출함으로서 간암, 뇌암, 난소암, 유방암 등의 각종 낭종성 암 또는 관절염 등의 질병을 치료하는 내부 방사선 치료제로서 사용된다.

    방사성 팻치/필름 및 그의 제조방법
    24.
    发明授权
    방사성 팻치/필름 및 그의 제조방법 失效
    放射性贴片/薄膜及其制造工艺

    公开(公告)号:KR100170811B1

    公开(公告)日:1999-03-20

    申请号:KR1019960005322

    申请日:1996-02-29

    CPC classification number: A61K51/1279 A61N5/1029

    Abstract: 본 발명은 방사성 팻치/필름 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 방사성 물질을 팻치/필름 형태로 하여 피부에 접착시켜 직접 피부에 방사선을 조사하게 되어 있는 방사성 팻치/필름은 안정 핵종을 함유하는 다양한 형태의 안정 팻치/필름을 만든 다음 중성자 조사하여 제조하는 것으로서 각종 암 및 피부질환 치료에 효과적이다.

    2-(오르토-카르보란-1-일)메틸-피페리딘 유도체, 이의제조방법 및 이를 포함하는 약학적 조성물
    27.
    发明授权
    2-(오르토-카르보란-1-일)메틸-피페리딘 유도체, 이의제조방법 및 이를 포함하는 약학적 조성물 失效
    2-(邻 - 碳硼烷-1-基)甲基 - 哌啶衍生物,它们的制备方法和含有它们的药物组合物

    公开(公告)号:KR100715358B1

    公开(公告)日:2007-05-08

    申请号:KR1020050075171

    申请日:2005-08-17

    Abstract: 본 발명은 2-위치의 질소 원자에 2-(오르토-카르보란-1-일)메틸피페리딘 유도체 또는 약학적으로 허용가능한 이의 염, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 약학적 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 2-(오르토-카르보란-1-일)메틸피페리딘 유도체는 암세포에 대한 붕소 원자의 높은 선택적 축적을 보이므로, 암 치료를 위한 붕소 중성자 포획 치료 요법제로서 유용하다.

    Abstract translation: 本发明的2-位的氮原子2-涉及包含(在邻 - 羧酸硼烷-1-基)的药物组合物甲基 - 哌啶衍生物或其药学上可接受的盐,它们的制造和这种方法。 本发明的2-(邻 - 碳硼烷-1-基)甲基哌啶衍生物显示硼原子在癌细胞上的高选择性积累,因此可用作用于捕获硼中子用于癌症治疗的治疗剂。

    마이크로파 조사를 이용한 DISIDA 및 그 유도체 또는 메브로페닌의 제조 방법
    28.
    发明授权
    마이크로파 조사를 이용한 DISIDA 및 그 유도체 또는 메브로페닌의 제조 방법 有权
    DISIDA及其衍生物或使用微波辐射生产mbrophenin的方法

    公开(公告)号:KR100695742B1

    公开(公告)日:2007-03-19

    申请号:KR1020040099421

    申请日:2004-11-30

    Abstract: 본 발명은 DISIDA 및 그 유도체 또는 메브로페닌의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 메브로페닌의 제조 방법에 있어서: (1) 2,4,6-트리메틸아닐린을 아세트산에 녹인 후 클로로아세틸클로라이드를 적하하여 준비된 용액에 마이크로파를 조사시켜 2,4,6-트리메틸아세트아닐리드(1)를 합성하는 단계; (2) 화합물(1)을 메탄올 수용액에 녹인 후 브롬용액을 넣어 준비된 용액에 마이크로파를 조사하여 3-브로모-2,4,6-트리메틸아세트아닐리드(2)를 합성하는 단계; 및 (3) 화합물(2)을 에탄올에 녹인 후 이미노다이아세트산염 수용액을 넣고, 수산화나트륨 용액을 넣어 준비된 용액에 마이크로파를 조사하여 3-브로모-2,4,6-트리아세트아날리도이미노다이아세틱에시드(3)를 합성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마이크로파 조사를 이용한 메브로페닌의 제조 방법에 대한 것으로서, 본 발명에 의하면 매우 짧은 반응 시간으로도 높은 수율의 메브로페닌 또는 DISIDA 및 그 유도체를 간단한 조업으로 수득할 수 있으며, 본 발명의 메브로페닌 또는 DISIDA 및 그 중간 생성물들은 마이크로파를 조사하여 합성되기 때문에 환경오염의 부하를 경감시킬 수 있는 이점이 있다.
    메브로페닌, DISIDA, IDA, 간담도계 조영제, 마이크로파

    Abstract translation: 本发明涉及一种DISIDA及其衍生物或甲氧基溴半岛制造方法,在制造和更特别是甲氧基溴半岛的方法:(1)2,4,6-三甲基苯胺溶解于乙基氯乙酰氯 然后将微波照射到所制备的溶液中以合成2,4,6-三甲基乙酰苯胺(1); (2)的化合物包括:3-溴-2,4,6-三甲基乙酰苯胺(2)(1)用在制备的溶液为溴溶解在甲醇水溶液中的溶液照射微波的合成; 和(3)化合物(2)溶解在乙醇到熔炉已经设置金刚石酸水溶液,通过照射微波来制备的溶液进入设置肛门ridoyi美浓3-溴-2,4,6-三唑的氢氧化钠溶液 (3)根据本发明,可以提供一种通过微波辐照生产溴苯的方法,其中溴酚或DISIDA 并且它可以通过简单的操作,甲氧基或溴半岛DISIDA得到其衍生物和本发明的中间体的优点在于,可以降低由于合成通过微波辐射对环境的污染的负荷。

    몰리브덴-99/테크네튬-99m 발생기용 몰리브덴 흡착제 및그의 제조방법
    30.
    发明授权
    몰리브덴-99/테크네튬-99m 발생기용 몰리브덴 흡착제 및그의 제조방법 失效
    用于钼-99 /锝-99m发生器的钼吸附剂及其生产工艺

    公开(公告)号:KR100592020B1

    公开(公告)日:2006-06-21

    申请号:KR1020040065550

    申请日:2004-08-19

    Abstract: 본 발명은 중요한 의학적 동위원소의 하나인 테크네튬-99m(이하,
    99m Tc로 표기합니다)를 생산하는
    99 Mo/
    99m Tc 발생기에서 상용되는 새로운 몰리브덴 흡착제 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 몰리브덴(MoO
    4
    2- )을 흡착하는 흡착제를 실리카(SiO
    2 )와 염화지르코늄(ZrCl
    4 ) 복합물질 또는 티타늄옥사이드(TiO
    2 )와 염화지르코늄(ZrCl
    4 )의 복합물질을 졸-겔법(Sol-Gel Processing)으로 합성한
    99 Mo 흡착제를 제공하며, 본 발명에 따른 흡착제는 몰리브덴을 염화지르코늄 기에 반응-흡착시키므로 기존의 흡착제보다 흡착능력이 탁월한 몰리브덴 흡착제 및 그의 제조방법을 제공한다.
    몰리브덴, 테크네튬, 흡착제

    Abstract translation: 本发明涉及重要的医学同位素之一,锝-99m(以下称为“

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