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公开(公告)号：CN102763041A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201180010292.1
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/704 , G03F7/70383 , G03F7/70391
Abstract: 公开了一种光刻设备，包括光学装置列，配置成将束投影到衬底的目标部分上。聚焦控制器被设置成控制光学装置列相对于参考物体的聚焦位置(906、920、924、930)，其中聚焦控制器包括聚焦测量装置(942)和聚焦致动器，聚焦测量装置配置成确定参考物体(938)上的聚焦品质，聚焦致动器配置成基于已确定的聚焦品质调整光学装置列的聚焦位置。
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