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公开(公告)号：CN102822749A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201180017276.5
申请日：2011-02-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70366 , G03F7/70275 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70491 , G03F7/70883
Abstract: 公开了一种光刻设备，其包括能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列具有：配置成发射所述束的自发射式对比度装置(906)；和配置成将所述束投影到目标部分上的投影系统。所述光刻设备还可以具有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分。所述光刻设备被构造以通过使用隔室(936)减小围绕光学装置列的移动部分的介质的密度变化对所述束的光学效应，所述隔室(936)提供围绕所述移动部分的基本上封闭的环境。
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公开(公告)号：CN102770811A
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN201180010632.0
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70516 , G03F7/70558
Abstract: 本发明涉及一种光刻设备，包括：光学装置列，能够在衬底的目标部分上生成图案。光学装置列可以设置有配置成发射束的自发射式对比度装置以及配置成将束投影到目标部分上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，所述致动器用于相对于所述衬底移动光学装置列或其一部分。设置光学传感器装置，所述光学传感器装置相对于光学装置列是可移动的且具有能够使得所述光学传感器装置(936)移动通过光学装置列中的每个光学装置列的投影区域(940)的移动范围以测量光学装置列中的每个光学装置列的束。
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公开(公告)号：CN105745579A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201480063035.8
申请日：2014-09-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： V·班尼恩 , P·巴特瑞 , R·范格尔库姆 , L·阿门特 , 彼得·德亚格尔 , G·德维里斯 , R·栋克尔 , W·恩格尔伦 , O·弗里基恩斯 , L·格瑞米克 , A·卡塔伦尼克 , E·鲁普斯特拉 , H-K·尼恩惠斯 , A·尼基帕罗夫 , M·瑞肯斯 , F·詹森 , B·克鲁兹卡
CPC classification number: G21K1/067 , G01N2021/95676 , G02B5/1814 , G02B5/1823 , G02B5/1838 , G02B5/1861 , G02B27/0025 , G02B27/0938 , G02B27/10 , G02B27/1086 , G02B27/12 , G02B27/14 , G02B27/142 , G02B27/146 , G02B27/4272 , G03F1/84 , G03F7/70025 , G03F7/70208 , G03F7/70566 , G03F7/70891 , G03F7/70991 , G21K2201/065 , H01S3/0903 , H05H7/04 , G03F7/70008 , G03F7/7005 , G03F7/70091 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/7065
Abstract: 一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。
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公开(公告)号：CN102782581B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201180010568.6
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70891 , G02B7/028 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 本发明涉及光刻设备，该光刻设备具有构造用于保持衬底的衬底台和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列(924、930)。光刻设备具有用于相对于衬底移动光学装置列或其一部分的致动器(928)。光学装置列或其一部分移动通过介质使得在光学装置列或其一部分上引起热负载。光刻设备被构造或操作用于减小热负载对光刻设备的操作的影响。
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公开(公告)号：CN103238113B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201180058558.X
申请日：2011-11-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F7/70216 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/70275 , G03F7/70375 , G03F7/70383 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法，具体地提供一种用于控制无掩模光刻设备的聚焦的系统，其中提供将可编程图案形成装置的图像投影到衬底上的投影系统。第一致动器系统配置成沿垂直于投影系统的光轴的方向移动投影系统的多个透镜中的至少一个。还设置辐射束扩束器，配置成将可编程图案形成装置的图像投影到所述透镜上。此外，提供第二致动器系统，配置成沿平行于投影系统的光轴的方向移动辐射束扩束器，以便控制投影到衬底上的图像的聚焦。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102834777A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201180018434.9
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/704 , G03F7/70391
Abstract: 本发明涉及一种光刻设备，包括构造成保持衬底(928)的衬底台(902)和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列可以包括配置成提供多个辐射束的可编程图案形成装置，和配置成将多个束投影到衬底上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分(924、930)。所述光学装置列可以布置成经由所述投影系统中的多个透镜中的同一透镜将所述多个束中的至少两个束投影到衬底的目标部分上。
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公开(公告)号：CN102782581A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201180010568.6
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70891 , G02B7/028 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 本发明涉及光刻设备，该光刻设备具有构造用于保持衬底的衬底台和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列(924、930)。光刻设备具有用于相对于衬底移动光学装置列或其一部分的致动器(928)。光学装置列或其一部分移动通过介质使得在光学装置列或其一部分上引起热负载。光刻设备被构造或操作用于减小热负载对光刻设备的操作的影响。
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公开(公告)号：CN110083019A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201910106311.9
申请日：2014-09-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： V·班尼恩 , P·巴特瑞 , R·范格尔库姆 , L·阿门特 , 彼得·德亚格尔 , G·德维里斯 , R·栋克尔 , W·恩格尔伦 , O·弗里基恩斯 , L·格瑞米克 , A·卡塔伦尼克 , E·鲁普斯特拉 , H-K·尼恩惠斯 , A·尼基帕罗夫 , M·瑞肯斯 , F·詹森 , B·克鲁兹卡
Abstract: 本申请公开了一种光学元件、辐射系统及光刻系统。该光学元件包括：主体；反射性表面，所述反射性表面设置于所述主体上以用于接收辐射束以便形成束斑区域和反射的辐射束；和移动机构，所述移动机构能够操作以移动所述主体使得所述束斑区域遵循周期性路径在所述反射性表面上移动，并且所述反射的辐射束的方向实质上保持不变；用于更改所述反射性表面的曲率的变形机构，其中所述变形机构被布置成更改所述反射性表面的所述曲率以便至少部分地校正由入射于所述反射性表面上的所述辐射束所导致的所述反射性表面的曲率。
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公开(公告)号：CN105745579B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201480063035.8
申请日：2014-09-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： V·班尼恩 , P·巴特瑞 , R·范格尔库姆 , L·阿门特 , 彼得·德亚格尔 , G·德维里斯 , R·栋克尔 , W·恩格尔伦 , O·弗里基恩斯 , L·格瑞米克 , A·卡塔伦尼克 , E·鲁普斯特拉 , H-K·尼恩惠斯 , A·尼基帕罗夫 , M·瑞肯斯 , F·詹森 , B·克鲁兹卡
Abstract: 一种在光刻系统内使用的传输系统。所述束传输系统包括光学元件，所述光学元件被布置成接收来自辐射源的辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射的部分以形成用于供给到一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。
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公开(公告)号：CN102834777B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201180018434.9
申请日：2011-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/704 , G03F7/70391
Abstract: 本发明涉及一种光刻设备，包括构造成保持衬底(928)的衬底台(902)和能够在衬底的目标部分上生成图案的光学装置列。所述光学装置列可以包括配置成提供多个辐射束的可编程图案形成装置，和配置成将多个束投影到衬底上的投影系统。所述设备可以设置有致动器，用于相对于衬底移动光学装置列或光学装置列的一部分(924、930)。所述光学装置列可以布置成经由所述投影系统中的多个透镜中的同一透镜将所述多个束中的至少两个束投影到衬底的目标部分上。
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