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    Ladungsteilchenstrahlvorrichtung
    21.
    发明专利
    Ladungsteilchenstrahlvorrichtung 未知

    公开(公告)号：DE112013000696T5

    公开(公告)日：2014-10-09

    申请号：DE112013000696

    申请日：2013-02-15

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OMINAMI YUSUKE ,  OHSHIMA TAKASHI ,  ITO HIROYUKI ,  SATO MITSUGU ,  ITO SUKEHIRO

    IPC: H01J37/18 ,  H01J37/16

    Abstract: Es wird eine Ladungsteilchenstrahlvorrichtung (111) vorgestellt, an der leicht eine Membran (101) angebracht und wieder abgenommen werden kann, und bei der eine Probe (6) im Vakuum und unter hohem Druck angeordnet werden kann. Die Ladungsteilchenstrahlvorrichtung umfaßt einen Linsentubus (3) mit einer Ladungsteilchenquelle (110) und einem elektronenoptischen System (1, 2, 7); ein erstes Gehäuse (4), das mit dem Linsentubus (3) verbunden ist; ein zweites Gehäuse (110), das in das erste Gehäuse (4) eingesetzt ist; eine erste Membran (10), die den Raum im Linsentubus (3) von dem Raum im ersten Gehäuse (4) trennt und die der Ladungsteilchenstrahl durchsetzt; eine zweite Membran (101), die die Räume innerhalb und außerhalb eines zurückspringenden Abschnitts (100a) im zweiten Gehäuse (100) voneinander trennt und die der Ladungsteilchenstrahl durchsetzt; und ein Rohr (23), das mit einem dritten Gehäuse (22) verbunden ist, das die Ladungsteilchenquelle (110) enthält. Die erste Membran (10) ist an dem Rohr (23) angebracht, und das Rohr (23) und das dritte Gehäuse (22) können in der Richtung der optischen Achse (30) an den Linsentubus (3) angesetzt und davon abgenommen werden. Der vom ersten und zweiten Gehäuse (4, 100) umgebene Raum (105) ist drucklos, und die im zurückspringenden Abschnitt (100a) angeordnete Probe (6) wird mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt.

    Rasterelektronenmikroskop
    22.
    发明专利
    Rasterelektronenmikroskop 未知

    公开(公告)号：DE112012003413T5

    公开(公告)日：2014-05-08

    申请号：DE112012003413

    申请日：2012-05-28

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OHSHIMA TAKASHI ,  HATANO MICHIO ,  MORISHITA HIDEO ,  ITO SUKEHIRO

    IPC: H01J37/244 ,  H01J37/28

    Abstract: Um ein Rasterelektronenmikroskop niedriger Beschleunigung bereitzustellen, das selbst bei einem niedrigen Sondenstrom zwischen reflektierten Elektronen und Sekundärelektronen unterscheiden und sie detektieren kann, ist dieses Rasterelektronenmikroskop mit einer Elektronenkanone (29), einer Blende (26), einem Probentisch (3), einem elektronenoptischen System (4-1), um einen Elektronenstrahl (31) auf einer Probe (2) zu konvergieren, einer Ablenkeinrichtung (10), einem Sekundärelektronendetektor (8), einem Detektor (9) für reflektierte Elektronen und einer zylindrischen Elektronentransporteinrichtung (5) an einer Position zwischen der Elektronenkanone (29) und der Probe (2) versehen. Der Detektor (9) für reflektierte Elektronen ist auf einer Seite, die von der Elektronenkanone (29) ferner ist als der Sekundärelektronendetektor (8) und die Ablenkeinrichtung (10), mit der Elektronentransporteinrichtung (5) versehen. Die Empfangsfläche (9-1) des Detektors (9) für reflektierte Elektronen ist elektrisch so verdrahtet, dass sie auf dem gleichen Potential liegt wie die Elektronentransporteinrichtung (5).

    Ladungsteilchenstrahlvorrichtung
    23.
    发明专利
    Ladungsteilchenstrahlvorrichtung 未知

    公开(公告)号：DE112011100306T5

    公开(公告)日：2012-10-25

    申请号：DE112011100306

    申请日：2011-01-12

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： SATO MITSUGU ,  SAWAHATA TETSUYA ,  AOKI YASUKO ,  MORISHITA HIDEO ,  HATANO MICHIO ,  OHSHIMA TAKASHI ,  ITO SUKEHIRO

    IPC: H01J37/244 ,  H01J37/22

    Abstract: Eine Ladungsteilchenstrahlvorrichtung zum Erfassen von geladenen Signalteilchen in mehreren Energiebändern und zum Erhalten von hochaufgelösten Abbildungen für jedes der Energiebänder umfaßt eine Quelle (12-1) für geladene Teilchen; eine Blende (16) zum Begrenzen des Durchmessers des Teilchenstrahls (4); eine Optik (14, 17, 19) für den Teilchenstrahl; einen Probenhalter (21); einen Detektor (40) für geladene Teilchen, der geladene Sekundärteilchen und von der Probe rückgestreute geladene Teilchen erfaßt; und eine Signalberechnungseinheit zum Verarbeiten des Ausgangssignals des Detektors für geladene Teilchen. Der Detektor (40) für geladene Teilchen umfaßt einen ersten kleinen Detektor (51) mit einer ersten Erfassungsempfindlichkeit und einen zweiten kleinen Detektor (52) mit einer zweiten Erfassungsempfindlichkeit, wobei für den ersten kleinen Detektor (51) und den zweiten kleinen Detektor (52) der Erfassungsraumwinkel, gesehen von der Steile auf der Probe, auf die der Teilchenstrahl (4) ein gestrahlt wird, jeweils gleich groß ist.

    Elektronenmikroskop
    25.
    发明专利
    Elektronenmikroskop 未知

    公开(公告)号：DE112016006486B4

    公开(公告)日：2022-03-31

    申请号：DE112016006486

    申请日：2016-03-29

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OHSHIMA TAKASHI ,  MINEMURA HIROYUKI ,  ANZAI YUMIKO ,  ENYAMA MOMOYO ,  OSE YOICHI ,  AGEMURA TOSHIHIDE

    IPC: H01J37/073

    Abstract: Elektronenmikroskop, umfassend:eine Photokathode (101) mit negativer Elektronenaffinität bei der Anwendung;ein optisches Anregungssystem (30) zur Anregung der Photokathode; undein Elektronenoptiksystem (32-36) zur Bestrahlung einer Probe (37) mit einem Elektronenstrahl, der aus der Photokathode durch Anregungslicht (12), das durch das optische Anregungssystem geführt worden ist, erzeugt worden ist;wobei das optische Anregungssystem eine Lichtquellenvorrichtung (107) für das Anregungslicht und eine optische Modulationseinrichtung (108), die im optischen Lichtweg des Anregungslichts angeordnet ist, um am Anregungslicht eine räumliche Phasenmodulation vorzunehmen, umfasst.

    MIT EINEM STRAHL GELADENER TEILCHEN ARBEITENDE VORRICHTUNG
    26.
    发明专利
    MIT EINEM STRAHL GELADENER TEILCHEN ARBEITENDE VORRICHTUNG 未知

    公开(公告)号：DE112015004746B4

    公开(公告)日：2021-01-28

    申请号：DE112015004746

    申请日：2015-11-26

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OKUMURA TAIGA ,  OHSHIMA TAKASHI ,  OOMINAMI YUUSUKE ,  SHOUJI MINAMI ,  HISADA AKIKO ,  YONEYAMA AKIO

    IPC: H01J37/20 ,  G01N23/04 ,  H01J37/147 ,  H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28

    Abstract: Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung, welche Folgendes umfasst:eine optische Säule (2) für geladene Teilchen, welche eine in einem Probenträger gehaltene Probe (6) mit einem Strahl primärer geladener Teilchen bestrahlt,eine Probenträger-Dreheinheit, welche in der Lage ist, den Probenträger in einem Zustand zu drehen, in dem ein Winkel außerhalb der Senkrechten zwischen der Oberfläche des Probenträgers und der optischen Achse (200) des Strahls primärer geladener Teilchen gebildet ist, undeine Steuereinheit (38), welche den Drehwinkel der Probenträger-Dreheinheit steuert,wobei der Probenträger (500) so ausgelegt ist, dass er ein Detektierelement aufweist, welches in der Probe gestreute oder von der Probe durchgelassene geladene Teilchen detektiert, undwobei durch durchgelassene geladene Teilchen erzeugte Bilder der Probe entsprechend jedem Winkel durch Bestrahlen der Probe mit dem Strahl primärer geladener Teilchen erhalten werden, während die Probenträger-Dreheinheit um mehrere verschiedene Winkel gedreht wird.

    Elektronenstrahl-Anwendungsgerät
    28.
    发明专利
    Elektronenstrahl-Anwendungsgerät 未知

    公开(公告)号：DE112018007279T5

    公开(公告)日：2020-12-03

    申请号：DE112018007279

    申请日：2018-05-21

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： OHSHIMA TAKASHI ,  MINEMURA HIROYUKI ,  SHIOZAWA MANABU ,  MORISHITA HIDEO

    IPC: H01J1/34 ,  H01J37/073 ,  H01J37/26

    Abstract: In einer photoangeregten Elektronenquelle kann eine Kondensorlinse, die unter der Annahme ausgelegt ist, dass das Anregungslicht ein transparentes Substrat mit vorgegebener Dicke und vorgegebenem Brechungsindex durchsetzt, den Brennpunkt des Anregungslichts bei einem anderen transparenten Substrat nicht gut auf einen Photokathodenfilm fokussieren. Daher wird zwischen der Photokathode und der Kondensorlinse eine optische Platte zur Korrektur der sphärischen Aberration angeordnet, die bei der Wellenlänge des Anregungslichts den gleichen Brechungsindex hat wie das Substrat der Photokathode. Alternativ wird eine optische Einrichtung zur Korrektur der sphärischen Aberration vorgesehen, die so ausgelegt ist, dass sie das zu der Kondensorlinse emittierte Parallellicht bündelt oder fokussiert. Dadurch lassen sich Flimmer des Elektronenstrahls verringern und die Helligkeit der photoangeregten Elektronenquelle erhöhen.

    Elektronenstrahlvorrichtung
    30.
    发明专利
    Elektronenstrahlvorrichtung 未知

    公开(公告)号：DE112016007170T5

    公开(公告)日：2019-05-09

    申请号：DE112016007170

    申请日：2016-10-13

    Applicant: HITACHI HIGH TECH CORP

    Inventor： KASUYA KEIGO ,  ARAI NORIAKI ,  KUSUNOKI TOSHIAKI ,  OHSHIMA TAKASHI ,  HASHIZUME TOMIHIRO ,  SAKAI YUSUKE

    IPC: H01J37/073 ,  H01J1/30 ,  H01J9/02

    Abstract: Es wird eine Elektronenstrahlvorrichtung bereitgestellt, die in Lage ist, auch während der Beobachtung bei niedriger Beschleunigung unter Verwendung von CeBfür die CFE-Elektronenquelle auf stabile Weise eine hohe Ortsauflösung zu erreichen.In einer Elektronenstrahlvorrichtung mit einer CFE-Elektronenquelle 929 ist der Emitter des Elektronenstrahls 931 der CFE-Elektronenquelle Ce-Hexaborid oder ein Hexaborid eines Lanthanoidmetalls, das schwerer ist als Ce. Das Hexaborid emittiert den Elektronenstrahl von der Ebene {310}, und die Anzahl der Atome des Lanthanoidmetalls auf der Ebene {310} ist größer als die Anzahl der Bormoleküle mit sechs Boratomen auf der Ebene {310}.

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