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公开(公告)号:JPWO2018074534A1
公开(公告)日:2019-08-29
申请号:JP2017037766
申请日:2017-10-18
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本発明は、下記式(1)で表される基を有する化合物と、溶媒とを含有するレジスト下層膜形成用組成物である。下記式(1)中、R 1 は、炭素数2〜10の(m+n)価の有機基であって、互いに隣接する2個の炭素原子を有し、上記2個の炭素原子の一方にヒドロキシ基又はアルコキシ基が、他方に水素原子結合している。L 1 は、エチンジイル基又は置換若しくは非置換のエテンジイル基である。R 2 は、水素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。nは、1〜3の整数である。*は、上記化合物における上記式(1)で表される基以外の部分との結合部位を示す。mは、1〜3の整数である。
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公开(公告)号:JP6288090B2
公开(公告)日:2018-03-07
申请号:JP2015528248
申请日:2014-07-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/3065 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/32 , C09K13/00 , G03F7/0043 , G03F7/0757 , G03F7/20 , H01L21/3065 , H01L21/31122
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公开(公告)号:JPWO2016185888A1
公开(公告)日:2018-03-01
申请号:JP2017519099
申请日:2016-04-27
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/304
Abstract: 本発明は、重合体及び極性溶媒を含有する基板パターン倒壊抑制用処理材である。また、本発明は、上記基板パターン倒壊抑制用処理材を、パターンが形成された基板に塗布し、乾燥する工程を含む基板の処理方法である。上記重合体としては、親水性重合体が好ましい。上記重合体は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミド基、アミノ基、スルホ基及びアルデヒド基から選ばれる少なくとも1種の官能基を有することが好ましい。上記重合体は、ビニル系重合体、多糖類、ポリエステル、ポリエーテル及びポリアミドから選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
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公开(公告)号:JP6281490B2
公开(公告)日:2018-02-21
申请号:JP2014525853
申请日:2013-07-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/027 , C07C69/76 , C07C251/68 , C08G8/10 , G03F7/11
CPC classification number: C07C69/76 , C07C69/80 , G03F7/091 , G03F7/094 , H01L21/0271
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公开(公告)号:JP6146305B2
公开(公告)日:2017-06-14
申请号:JP2013538506
申请日:2012-10-02
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/26 , H01L21/027 , G03F7/11
CPC classification number: H01L21/3081 , G03F7/094 , H01L21/02164 , H01L21/0271 , H01L21/033 , H01L21/31116 , H01L21/31138
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