公开(公告)号：WO2013093073A2

公开(公告)日：2013-06-27

申请号：PCT/EP2012/076797

申请日：2012-12-21

Applicant: LEONHARD KURZ STIFTUNG & CO. KG ,  OVD KINEGRAM AG ,  POLYIC GMBH & CO. KG

Inventor： FIX, Walter ,  ULLMANN, Andreas ,  WALTER, Manfred ,  HERBST, Thomas ,  HANSEN, Achim ,  SCHILLING, Andreas ,  BREHM, Ludwig ,  KATSCHOREK, Haymo ,  LAUS, Norbert ,  LANGE, Andreas ,  BORN, Carolin

IPC: G02B1/11 ,  B60S1/02 ,  H05B3/86 ,  H01Q1/12 ,  G06F3/041 ,  G02F1/1333

CPC classification number: H05K1/0274 ,  G02B1/11 ,  G02B1/116 ,  G02B1/118 ,  G06F3/041 ,  H05B3/84 ,  H05B2203/002 ,  H05B2203/013 ,  H05B2203/017 ,  H05K3/4664 ,  H05K2203/095 ,  H05K2203/107

Abstract: Durch die Erfindung wird eine große Anzahl von Möglichkeiten bereitgestellt, wie bei einem Mehrschichtkörper mit elektrisch leitfähigen Elementen, die für das bloße Auge nicht sichtbar sind, verhindert werden kann, dass die elektrisch leitfähigen Elemente übermäßig Licht zurückreflektieren. Hierbei kann eine geeignete Oberflächenrauigkeit für die elektrisch leitfähigen Elemente gewählt werden, oder es kann zumindest eine zusätzliche Schicht (54) auf den elektrisch leitfähigen Elementen (51l) vorgesehen werden.

Abstract translation: 本发明提供了大量的提供可以在具有不肉眼可见的导电元件的层叠体可以防止作为可能性，该导电元件过分地反射回来的光。 在这种情况下，对于导电元件的合适的表面粗糙度可以被选择，或者其可以被设置在导电元件（51升）至少一个附加层（54）。

公开(公告)号：WO2012059208A2

公开(公告)日：2012-05-10

申请号：PCT/EP2011/005489

申请日：2011-10-31

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  STAUB, René ,  SCHILLING, Andreas ,  HANSEN, Achim

Inventor： STAUB, René ,  SCHILLING, Andreas ,  HANSEN, Achim

IPC: B42D15/00 ,  B42D15/10

CPC classification number: B42D15/00 ,  B42D25/00 ,  B42D25/29 ,  B42D25/324 ,  B42D25/328 ,  B42D25/351 ,  B42D25/364 ,  B42D25/41 ,  B42D25/435 ,  B42D2033/04 ,  B42D2035/14 ,  B42D2035/16

Abstract: Es wird ein Sicherheitselement (1) insbesondere Wertdokument und ein Verfahren zur Herstellen desselben beschrieben. Das Sicherheitselement weist einen aus ein oder mehreren Designelementen (22) bestehenden Musterbereich (21) auf, dessen Formgebung eine erste optisch wahrnehmbare Information bereitstellt. Es weist weiterhin einen die ein oder mehrere Designelemente des Musterbereichs zumindest bereichsweise umgebenden Hintergrundbereich (20) auf. Das Sicherheitselement (1) weist eine opake Reflexionsschicht auf, welche nicht im Hintergrundbereich (20) vorgesehen ist und im Musterbereich (21) in ersten Zonen (31), nicht jedoch in zweiten Zonen vorgesehen ist. Die ersten Zonen (31) sind weniger als 300 μm voneinander beabstandet und weisen eine kleinste Abmessung von weniger als 300 μm auf.

Abstract translation: 描述安全元件（1），特别是有价文件及其制造方法。 安全元件具有由一个或多个设计元件（22）组成的图案区域（21），其形状提供第一光学可感知信息。 它还具有至少部分围绕图案区域的一个或多个设计元素的背景区域（20）。 安全元件（1）具有不透明的反射层，其不设置在背景区域（20）中并且设置在第一区域（31）中的图案区域（21）中但不设置在第二区域中。 第一区（31）相隔小于300微米，并具有小于300微米的最小尺寸。

公开(公告)号：WO2009049866A1

公开(公告)日：2009-04-23

申请号：PCT/EP2008/008711

申请日：2008-10-15

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

Inventor： SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

IPC: B42D15/00 ,  B29D11/00

CPC classification number: B29D11/0073 ,  B29D11/00278 ,  B42D25/29 ,  B42D2033/24 ,  G02B3/0056 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0961 ,  Y10T156/1039

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Mehrschichtkörper (5) sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers (5). Der Mehrschichtkörper (5) weist eine transparente erste Schicht (51) auf, in die eine Vielzahl von Zylinderlinsen seiner Länge von mehr als 2 mm und einer Breite von weniger als 400 μm abgeformt sind, die gemäss eines Mikrolinsenrasters angeordnet sind, durch welches ein erstes Koordinatensystem mit einer Koordinatenachse X1, die durch die Brennpunktlinien der Zylinderlinsen bestimmt ist, und einer hierzu rechtwinkeligen Koordinatenachse Y1 aufgespannt ist. In einer unterhalb der ersten Schicht in fester Lage zur ersten Schicht angeordneten zweiten Schicht (52) sind eine Vielzahl von mikroskopischen Strukturen in Form von Mikrobildern ausgebildet, die entlang einer Längsachse gegenüber einer Querachse gemäss einer Transformationsfunktion verzerrt sind, und die gemäss eines Mikrobildrasters angeordnet sind, durch welches ein zweites Koordinatensystem mit einer Koordinatenachse X2 und einer hierzu rechtwinkeligen Koordinatenachse Y2 aufgespannt ist. In einem Bereich des Mehrschichtkörpers, in dem sich die Mikrolinsen des Mikrolinsenrasters und die mikroskopischen Strukturen des Mikrobildrasters überlagern, unterscheiden sich der durch die Beabstandung der Brennpunktlinien der Zylinderlinsen bestimmte Linsenabstand und die durch die Beabstandung der Flächenschwerpunkte der Mikrobilder bestimmte Mikrobildabstand voneinander um nicht mehr als 10 %. Zur Ausbildung des Mehrschichtkörpers (5) wird die zweite Schicht auf eine dritte Schicht appliziert, die erste Schicht oberhalb der dritten Schicht angeordnet und mittels eines auf die Oberseite der ersten Schicht und die Unterseite der dritten Schicht eingreifenden Werkzeugs (41, 42, 43) unter Einsatz von Hitze und Druck die erste, zweite und dritte Schicht zusammen laminiert. Hierbei wird in die Oberseite der ersten Schichten mittels eines Pressbleches, in dem die Negativform des Linsenrasters abgeformt ist, das Linsenraster in die Oberfläche der ersten Schicht abgeformt.

Abstract translation: 本发明涉及一种层叠体（5）和用于制造多层体（5）的方法。 多层体（5）包括在其中超过2毫米，小于400微米的宽度的多个其长度的圆柱形透镜的形状的透明的第一层（51），其根据一个微透镜网格布置，通过该第一 坐标系的坐标轴X1，这是由柱面透镜的焦线确定，并且该矩形坐标轴是拉伸Y1。 在一个在固定位置到第一层中的第一层下方设置的第二层（52），在微图像的形式形成多个微观结构，这是沿纵向相对于根据一个变换函数的横向轴线的轴扭曲，并且其根据一个微图像网格被布置 通过该第二坐标系具有坐标轴X 2和与其垂直的坐标轴被夹紧Y2。 在层叠体，其重叠微透镜网格的微透镜和微图像网格的微观结构的区域中，通过圆柱形透镜特定透镜间距的焦线的间距不同，并且通过从每个其他微图像显微照片距离的质心的间距不超过10确定 ％。 对于层叠体（5）的形成，第二层被施加到第三层设置在所述第三层上方的第一层，和通过在第一层的顶部和所述第三层工具（41，42，43）的下侧上的卡合装置 使用热和压力层合于第一，第二和第三层一起。 在此，在顶部由一个压板，其中，所述透镜阵列的负形状被模制，透镜阵列中的第一层的模制表面的装置中的第一层。

公开(公告)号：WO2006133863A2

公开(公告)日：2006-12-21

申请号：PCT/EP2006/005567

申请日：2006-06-09

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  SCHAEDLER, René

Inventor： SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  SCHAEDLER, René

CPC classification number: G02B5/18 ,  B42D25/29 ,  B42D25/324 ,  B42D25/328 ,  B42D25/351 ,  B42D2035/36 ,  B44F7/00 ,  G02B5/1861 ,  G03H1/0011

Abstract: Es wird ein Sicherheitsdokument mit in einem Fenster oder in einem transparenten Bereich des Sicherheitsdokuments angeordnetem transparenten Sicherheitselement (12) mit einer Strukturschicht beschrieben, bei dem ein erster Bereich (12f) der Strukturschicht eine asymmetrische diffraktive Reliefstruktur aufweist, wobei der erste Bereich (12f) eine in der Vorderansicht und in der Rückansicht des Sicherheitsdokuments unerwartet verschiedene optische Wirkung aufweist.

Abstract translation: 将描述布置在窗口中或在具有的结构层，一个安全文件，该安全文件透明的安全元件（12）的透明区域，其中第一区域（12F），其包括非对称衍射浮雕结构的结构层，其中所述第一区域（12F）上 在正视图和安全文件的后视图具有出乎意料的不同的光学效应。

公开(公告)号：WO2006084685A3

公开(公告)日：2006-08-17

申请号：PCT/EP2006/001126

申请日：2006-02-09

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  STAUB, René ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  SCHILLING, Andreas

Inventor： STAUB, René ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  SCHILLING, Andreas

IPC: B42D15/10

Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers (100) mit einer partiell ausgeformten ersten Schicht (3m) angegeben, wobei vorgesehen ist, daß bei dem Verfahren in einem ersten Bereich (5) einer Replizierschicht (3) des Mehrschichtkörpers (100) eine diffraktive erste Reliefstruktur mit einem hohen Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis der einzelnen Strukturelemente, insbesondere mit einem Tiefen-zu-Breiten-Verhältnis > 0,3 abgeformt wird und die erste Schicht (3m) auf die Replizierschicht (3) in dem ersten Bereich (5) und in einem zweiten Bereich (4, 6), in dem die erste Re lief struktur nicht in der Replizierschicht (3) abgeformt ist, mit konstanter Flächendichte aufgebracht wird, und daß die erste Schicht (3m) durch die erste Reliefstruktur bestimmt teilweise entfernt wird, so daß die erste Schicht (3m) im ersten Bereich (5) oder im zweiten Bereich (4, 6), nicht jedoch im zweiten Bereich (4, 6) bzw. im ersten Bereich (5) teilweise entfernt ist.

公开(公告)号：WO2004113953A2

公开(公告)日：2004-12-29

申请号：PCT/EP2004/006466

申请日：2004-06-16

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  STAUB, René

Inventor： SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  STAUB, René

IPC: G02B

CPC classification number: G02B5/1866 ,  B42D25/324 ,  B42D25/342 ,  G02B5/1819

Abstract: Die Erfindung betrifft ein optisches Sicherheitselement sowie ein System zur Visualisierung von versteckten Informationen mit einem derartigen optischen Sicherheitselement. Das optische Sicherheitselement weist eine Substratschicht auf, in der in einem von eine X- und einer Y-Achse aufgespannten Flächenbereich eine durch Reliefparameter, insbesondere Reliefform, Relieftiefe, Spatialfrequenz und Azimutwinkel, definierte Reliefstruktur zur Erzeugung eines optisch erkennbaren Effektes abgeformt ist. Ein oder mehrere der die Reliefstruktur definierenden Reliefparameter sind in dem Flächenbereich (27) gemäss einer Parameter-Variations- Funktion variiert. Der Flächenbereich (27) ist in ein oder mehrere Musterbereiche (29, 30) und einen Hintergrundbereich (28) geteilt. Ein oder mehrere der die Reliefstruktur definierenden Reliefparameter sind in den ein oder mehreren Musterbereichen (29, 30) gemäss einer gegenüber der Parameter-Variations-Funktion des Hintergrundbereiches (28) phasenverschobenen Parameter-Variations-Funktion variiert. Weiter ist ein Verifikationselement vorgesehen, das ein durch eine periodische Transmissions-Funktion definiertes Verifikationsraster besitzt, dessen Periode der Periode der Parameter-Variations-Funktion entspricht.

Abstract translation: 本发明涉及一种光学安全元件和用于隐藏信息可视化这样的光学安全元件的系统。 光学安全元件具有在由X和由浮雕参数所定义的区域的Y轴表面积限定的平面的基板层，特别是浮雕的形状，浮雕深度，空间频率和方位角，浮雕结构被成形，以产生光学可检测效应。 一个或多个定义所述浮雕图案浮雕参数的在根据参数变化函数的区域（27）而变化。 表面积（27）被分成一个或数个图案区域（29，30）和背景区域（28）。 一个或多个浮雕结构限定浮雕参数是在所述一个或多个图案区域（29，30）根据背景部分（28）的参数变化的特征的相对改变相移参数变化函数。 此外，检验元件提供一种具有由周期性传输功能验证光栅，其周期对应于参数的变化特征的周期定义。

公开(公告)号：WO2004083911A1

公开(公告)日：2004-09-30

申请号：PCT/EP2004/002822

申请日：2004-03-18

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

Inventor： SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

IPC: G02B5/18

CPC classification number: G02B5/1861 ,  B42D25/328 ,  G02B5/1823 ,  G02B5/1852 ,  G02B5/1857 ,  G06K19/16

Abstract: Es werden lichtbeugende Mikrostrukturen durch Überlagerung wenigstens zweier Reliefstrukturen hergestellt, wobei die erste Reliefstruktur mechanisch erzeugt ist, während wenigstens eine zweite Reliefstruktur eine photomechanisch generierte Beugungsstruktur ist. Ein Verfahren zum Herstellen von lichtbeugenden Mikrostrukturen, die additive Überlagerungen aus einer Reliefstruktur und wenigstens einer Beugungsstruktur sind, zeichnet sich durch die folgenden Schritte aus: a) Herstellung einer Schicht (2) aus Photoresist auf einem Substrat (1), deren freie Oberfläche die Reliefstruktur aufweist, b) Erzeugen eines Interferenzmusters mit kohärentem Licht über der Reliefstruktur (5), c) Ausrichten der Reliefstruktur auf das Interferenzmuster, d) Belichten der Reliefstruktur mittels des Interferenzmusters e) Entwickeln des Photoresist, wobei durch die Belichtung verändertes Material des Photoresist entfernt wird und Vertiefungen, z.B. Furchen, der Beugungsstruktur auf der Reliefstruktur entstehen und f) Trocknen des Photoresist.

Abstract translation: 通过叠加至少两个光衍射浮雕结构的微结构，其中，所述第1浮雕结构被机械地产生，而第二浮雕结构是至少一个光机械产生的衍射结构产生的。 一种用于生产光衍射微结构的方法，一个浮雕结构的添加剂叠加和至少一个衍射结构的特征在于以下步骤：a）生产的层（2）由光致抗蚀剂的基板上（1）中，浮雕结构的自由表面 ，b）产生相干光的干涉图案的浮雕结构（5），c）中对准由显影光致抗蚀剂，它是由光致抗蚀剂的曝光改性材料中除去的干扰模式e的装置）照射该浮雕结构上的干涉图案的浮雕结构，D） 部和凹部，例如， 在浮雕结构衍射图案的槽形成和f）干燥所述光致抗蚀剂。

公开(公告)号：WO2004049250A1

公开(公告)日：2004-06-10

申请号：PCT/EP2003/012451

申请日：2003-11-07

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

Inventor： SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

IPC: G06K19/16

CPC classification number: B42D25/465 ,  B42D25/00 ,  B42D25/29 ,  B42D25/305 ,  B42D25/324 ,  B44C3/02 ,  B44F7/00

Abstract: Es wird eine Schichtanordnung, insbesondere für Transfer- oder Laminierfolien, vorgeschlagen, welche wenigstens zwei aufeinanderfolgende Kunstharzschichten aufweist, zwischen denen eine Grenzfläche mit einer einen linsenartigen Effekt erzeugenden, beugungsoptisch wirksamen Struktur (1) (4, 5, 6, 7, 8) vorgesehen ist, wobei eine besondere Ausbildung der beugungsoptisch wirksamen Struktur beansprucht wird.

Abstract translation: 它是一种层安排，特别是用于传输或层压薄膜，提出了一种包括至少两个连续的树脂层，其中一个类透镜的效果，衍射光学有效结构在它们之间形成界面（1）（4，5，6，7，8） ，其中所述光学衍射结构的特定结构要求保护。

公开(公告)号：WO2003084764A3

公开(公告)日：2003-10-16

申请号：PCT/EP2003/003482

申请日：2003-04-03

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  STAUB, René ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

Inventor： STAUB, René ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert

IPC: B42D15/10

Abstract: Ein schwer kopierbares Sicherheitselement (2) umfasst einen Schichtverbund (1), der zwischen zwei Schichten (5, 6) des Schichtverbunds (1) eingebettete, mikroskopisch feine optisch wirksame Strukturen (9) eines Flächenmusters aufweist. In einer von Koordinatenachsen x und y aufgespannten Ebene des Flächenmusters sind in eine Grenzfläche (8) zwischen den Schichten (5; 6) in Flächenteilen eines holographisch nicht kopierbaren Sicherheitsmerkmals die optisch wirksamen Strukturen (9) abgeformt. In wenigstens einem Flächenteil ist die optisch wirksame Struktur (9) eine durch additive Überlagerung einer makroskopischen Überlagerungsfunktion (M) mit einem mikroskopisch feinen Reliefprofil (R) gebildete Beugungsstruktur (S, S*, S**). Sowohl das Reliefprofil (R), die Überlagerungsfunktion (M) als auch die Beugungsstruktur (S, S*, S**) sind Funktionen der Koordinaten x und y. Das Reliefprofil (R) ist eine lichtbeugende oder lichtstreuende optisch wirksame Struktur (9) und behält, der Überlagerungsfunktion (M) folgend, die vorbestimmte Profilhöhe bei. Die Überlagerungsfunktion (M) ist wenigstens stückweise stetig und keine periodische Dreieck-oder Rechteckfunktion. Im Vergleich zum Reliefprofil (R) ändert sich die Überlagerungsfunktion (M) langsam. Bei Kippen und Drehen des Schichtverbunds (1) erblickt der Beobachter auf den beleuchteten Flächenteilen helle, von der Betrachtungsrichtung abhängige, kontinuierlich wandernde Streifen.

公开(公告)号：WO2003059643A1

公开(公告)日：2003-07-24

申请号：PCT/EP2002/012243

申请日：2002-11-02

Applicant: OVD KINEGRAM AG ,  SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  STAUB, René

Inventor： SCHILLING, Andreas ,  TOMPKIN, Wayne, Robert ,  STAUB, René

IPC: B42D15/00

CPC classification number: B42D25/29

Abstract: Ein diffraktives Sicherheitselement (2) ist in Teilflächen eingeteilt, die eine optisch wirksame Struktur (9) an Grenzflächen eingebettet zwischen zwei Schichten eines Schichtverbunds (1) aus Kunststoff aufweist. Wenigstens die zu beleuchtende Basisschicht (4) des Schichtverbunds (1) ist transparent. Die optisch wirksame Struktur (9) besitzt als Grundstruktur ein Beugungsgitter nullter Ordnung mit einer Periodenlänge von höchstens 500 nm. In wenigstens einer der Teilflächen ist ein integrierter optischer Wellenleiter (5) mit einer Schichtdicke (s) aus einem transparenten Dielektrikum zwischen der Basisschicht (4) und einer Kleberschicht (7) des Schichtverbunds (1) und/oder einer Schutzschicht (6) des Schichtverbunds (1) eingebettet, wobei die Profiltiefe der optisch wirksamen Struktur (9) in einem vorbestimmten Verhältnis zur Schichtdicke (s) steht. Das Sicherheitselement (2) erzeugt bei der Beleuchtung mit weissem einfallendem Licht (13) in der nullten Beugungsordnung gebeugtes Licht (14) von hoher Intensität und intensiver Farbe.

Abstract translation: 的衍射安全元件（2）被分成部分区域中，（1）由塑料制成的具有层复合材料的两层之间的界面处嵌入的光学有效结构（9）。 至少所述层复合材料（1）的被照亮的基极层（4）是透明的。 光学活性结构（9）具有作为基本结构，衍射光栅的零级具有周期长度不超过500纳米。在局部区域中的至少一项所述的集成光波导路（5）与所述基体层之间的透明电介质材料层的厚度（S）（4 ）和层复合材料（1）和/或保护层（6）的层复合材料（1）被嵌入，其中，所述光学活性结构（9）的预定的比率，以该层的厚度（S）的轮廓深度是的粘合剂层（7）。 的安全元件（2）照射时产生具有高强度和强烈的颜色的零衍射级衍射光（14）白色入射光（13）。