公开(公告)号：CN103882381A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201310486450.1

申请日：2013-10-17

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 金元容 ,  全镇弘

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/04

CPC classification number: H01L51/001 ,  B05D1/60 ,  B05D3/06 ,  C23C14/04 ,  C23C14/042 ,  C23C14/046 ,  C23C14/048 ,  C23C14/24 ,  H01L51/0013 ,  H01L51/56

Abstract: 提供了一种沉积设备以及将沉积材料沉积在基板上的方法，该沉积设备包括：真空室；基板，设置在真空室中；沉积源，设置在真空室中并且面对基板，用于将沉积材料提供到基板上；激光振荡器，产生第一激光束；光学单元，连接到真空室的第一侧并使第一激光束分束，以产生多束掩模激光束。掩模激光束照射到真空室中，以被设置在基板和沉积源之间。与掩模激光束接触的沉积材料被氧化，而穿过掩模激光束的沉积材料被沉积在基板上。

公开(公告)号：CN102124137B

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN200980132107.9

申请日：2009-06-29

Applicant: 3M创新有限公司

Inventor： 克拉克·I·布莱特 ,  克里斯托弗·S·莱昂斯

IPC: C23C14/12 ,  C23C14/20

CPC classification number: C23C14/12 ,  B05D1/60 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/145 ,  C23C14/02 ,  C23C14/5853

Abstract: 本发明提供了在基底上形成无机或杂化有机/无机阻挡层的方法，其包括使汽化的金属醇化物凝结从而在所述基底的上方形成层，并且将所述凝结的金属醇化物层与水接触以使得所述的层固化。

公开(公告)号：CN103154166A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201180048177.3

申请日：2011-05-16

Applicant: 道康宁公司

Inventor： 凯文·戴尔·刘易斯 ,  W·J·小舒尔兹

IPC: C09D183/04 ,  C09D4/00 ,  D06M15/643 ,  D21H17/13 ,  D21H19/32

CPC classification number: C09D5/00 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  B05D1/26 ,  B05D1/30 ,  B05D1/60 ,  B05D3/107 ,  C08G77/14 ,  C08K5/5419 ,  C09D4/00 ,  C09D183/04 ,  D21H17/13 ,  D21H17/70 ,  D21H19/32 ,  D21H21/16 ,  D21H27/10 ,  D21H27/18 ,  Y02P20/582 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T442/218

Abstract: 本发明公开了一种用于使基材具有疏水性的方法，所述方法包括用酰氧基硅烷处理所述基材。所述处理包括用酰氧基硅烷浸渍所述基材，然后进行固化（使所述酰氧基硅烷水解和缩合）以形成有机硅树脂。所述方法尤其可用于使纸材具有疏水性。

公开(公告)号：CN103031519A

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN201110353708.1

申请日：2011-11-09

Applicant: 财团法人工业技术研究院

Inventor： 赖丰文 ,  王仪龙 ,  张均豪 ,  陈泰宏

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12

CPC classification number: C23C16/4488 ,  B05D1/34 ,  B05D1/60 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45557

Abstract: 本发明公开一种蒸镀装置与有机薄膜的形成方法。该蒸镀装置包括储气室、第一蒸发室、压力计、裂解室以及沉积室。第一蒸发室通过第一管路与储气室连接，其中第一管路具有第一阀门。压力计通过第二管路与储气室连接。裂解室通过第三管路与储气室连接，其中第三管路具有第二阀门。沉积室通过第四管路与裂解室连接。

公开(公告)号：CN102985857A

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN201180034864.X

申请日：2011-07-14

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 北冈贤治 ,  庭野和彦

IPC: G02B5/30 ,  C23C14/04 ,  C23C16/04

CPC classification number: H01P7/00 ,  B05D1/60 ,  B05D3/002 ,  B05D5/12 ,  C23C14/0005 ,  C23C14/04 ,  C23C14/225 ,  C23C16/0254 ,  G02B1/007 ,  H01P11/008 ,  Y10T156/10

Abstract: 提供一种制造生产性优异的超材料的方法。本发明涉及一种超材料的制造方法，所述超材料具备相对于电磁波发生共振的电磁波共振体，所述超材料的制造方法中，包括如下情况：对于具有与所述电磁波共振体的形状对应的形状的支承体蒸镀形成所述电磁波共振体的材料，由此向所述支承体配置电磁波共振体。

公开(公告)号：CN102939405A

公开(公告)日：2013-02-20

申请号：CN201180020287.9

申请日：2011-02-22

Applicant: ON-X生命科技公司

Inventor： M.E.西利 ,  F.D.索瑟德 ,  M.J.梅沃特 ,  J.E.罗宾森 ,  R.W.莱卡姆 ,  J.W.斯塔克 ,  B.A.比科顿 ,  J.C.斯图普卡 ,  D.维德 ,  C.M.沃曾克拉特

IPC: C23C16/442 ,  C23C16/32 ,  B01J8/24 ,  B05C3/02 ,  C23C16/26

CPC classification number: C23C16/442 ,  A61L27/303 ,  B05D1/22 ,  B05D1/60 ,  C23C16/26 ,  C23C16/458

Abstract: 提供一种装置，所述装置用于组装用于在流化床涂覆机内进行涂覆的多个基体以便在所述基体的整个外表面上沉积均匀厚度的涂层。一个实施方式包括借助烃的热解分解用热解碳来涂覆具有凸形和凹形表面的矫形植入物的方法。

公开(公告)号：CN101932753B

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：CN200980104472.9

申请日：2009-04-08

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 山本治彦 ,  国分健二郎

IPC: C23C28/00 ,  C23C8/36 ,  C23C16/06

CPC classification number: G02B1/10 ,  B05D1/002 ,  B05D1/60 ,  B05D3/108 ,  B05D5/083 ,  C23C8/36 ,  C23C14/0078 ,  C23C14/568 ,  C23C14/5853 ,  C23C28/00 ,  C23C28/04 ,  G02B1/105 ,  G02B1/18

Abstract: 一种成膜装置(10)，能提高形成于氧化物膜上的疏水膜机械阻力。所述成膜装置(10)包括：氧化物膜形成单元(14、15、16)，其通过向在真空槽(11)中旋转的基板放出粒子，从而在所述基板上形成被氧化膜，通过向所述被氧化膜照射氧等离子体在所述基板上形成氧化物膜。气相沉积单元(17)将具有水解性的缩聚基与疏水基的硅烷偶联剂气相沉积于所述氧化物膜上。缩聚单元(20)，通过向所述旋转基板上的所述氧化物膜供给水，使所述硅烷偶联剂缩聚。所述缩聚单元在所述气相沉积单元于氧化物膜上气相沉积硅烷偶联剂之前，给氧化物膜供水。

公开(公告)号：CN102695817A

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：CN201080060978.7

申请日：2010-11-10

Applicant: 布莱阿姆青年大学

Inventor： M·R·林福德 ,  D·S·詹森 ,  F·张

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/18 ,  C23C16/52 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/30 ,  B01J20/286 ,  B01J20/3217 ,  B01J20/3221 ,  B01J20/3251 ,  B01J20/3289 ,  B05D1/60 ,  B05D7/56 ,  C23C16/45525 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31551

Abstract: 一种多层系统，其中中间充分键合并交联的层为具有期望的反应部位的终饰层提供附连。

公开(公告)号：CN102630188A

公开(公告)日：2012-08-08

申请号：CN201080041590.2

申请日：2010-09-06

Applicant: 埃西勒国际通用光学公司 ,  国家科研中心

Inventor： C·比韦 ,  F·莫里 ,  V·圣图奇 ,  F·塞诺克 ,  S·万索诺

IPC: B05D3/00 ,  B05D3/06 ,  B05D7/24 ,  C23C16/00 ,  C23C16/452

CPC classification number: B05D3/002 ,  B05D1/60 ,  B05D3/06 ,  B05D3/062 ,  B05D2203/30 ,  B05D2203/35

Abstract: 本发明涉及聚合物膜在基底(6)上的化学气相沉积方法，所述方法的特征在于，它包括下述分别进行的相继的两个步骤：气相的光子活化步骤，其中为主要为气体的组合物中存在的至少一种气态聚合物前体提供光子活化能(42，43)；和气相沉积步骤，其中将来自光子活化步骤的活化的气态聚合物前体沉积于基底(6)上，以便在该基底上形成聚合物膜，气相的总压力在102至105Pa范围内。本发明还涉及实施该方法的装置(1)。

公开(公告)号：CN102575347A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201080044833.8

申请日：2010-09-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小野裕司 ,  林辉幸

IPC: C23C16/455

CPC classification number: C23C14/24 ,  B05D1/60 ,  C23C14/06 ,  C23C14/12 ,  C23C14/14 ,  C23C14/22

Abstract: 提供一种成膜装置，该成膜装置能够进行期望条件下的有机成膜材料和无机成膜材料的共蒸镀。该成膜装置具备：收纳被处理基板(G)的处理室；设置于处理室的外部的产生有机成膜材料的蒸气的蒸气产生部；有机成膜材料供给部(22)，其设置于处理室的内部，将在蒸气产生部产生的有机成膜材料的蒸气喷出；无机成膜材料供给部(24)，其设置于处理室的内部，喷出无机成膜材料的蒸气；和混合室(23)，其将从有机成膜材料供给部(22)喷出的有机成膜材料的蒸气与从无机成膜材料供给部(24)喷出的无机成膜材料的蒸气混合，混合室(23)具备使有机成膜材料和无机成膜材料的混合蒸气通过、向被处理基板(G)供给的开口部(23c)。