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公开(公告)号：CN102326059A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201080008167.2
申请日：2010-02-19
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G01J4/00
CPC classification number: G06F17/50 , G01J4/04 , G03F1/44 , G03F7/70466 , G03F7/70566
Abstract: 本发明涉及诸如晶片的半导体基板的制造，并涉及用于监视在使用用于高数值孔径光刻扫描装置的特别设计的偏振监视调制盘进行投影印刷时入射在光掩模上的偏振的状态的方法。调制盘跨过狭缝测量25个位置并被设计用于大于0.85的数值孔径。监视器提供大的偏振依赖性信号，该信号对偏振更敏感。还提供使用两个调制盘的双曝光方法，其中第一调制盘(44)包含偏振监视器(22，24)、透光区基准区域(42)和低剂量对准标记(40)。第二调制盘(46)包含标准对准标记(38)和标签。对于单曝光方法，使用三PSF低剂量对准标记(40)。调制盘还提供电磁偏置，其中依赖于边缘的蚀刻深度而使每个边缘偏置。
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公开(公告)号：CN101893731A
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN201010180011.4
申请日：2010-05-20
Applicant: 香港科技大学
Inventor： 赵晓锦 , 阿明·贝尔马克 , 弗拉迪米尔·格里戈里耶维奇·奇格里诺夫
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G01J4/04 , G02F1/133753
Abstract: 本发明提出了一种用于同时提取入射光所有斯托克斯参数的微偏振检偏器阵列。该微偏振检偏器阵列至少包含一个超像素，其中该超像素含有三个或者三个以上的子像素，并且每个子像素用来提取入射光中的一种不同的偏振分量。此外，该微偏振检偏器阵列包括一个第一取向层，一个第二取向层和一个置于第一和第二取向层之间的液晶层。其中该液晶层中的液晶分子根据第一和第二取向层取向方向来取向以形成上述超像素。最后，本发明还提供了一种制备上述基于液晶的光控取向微偏振检偏器阵列的方法。
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公开(公告)号：CN100487405C
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN03825859.5
申请日：2003-02-06
Applicant: 埃科斯弗电光工程公司
Inventor： N·西尔
IPC: G01M11/00
CPC classification number: G01J4/04 , G01M11/331 , G01M11/336
Abstract: 一种用于测量例如波导管的器件的偏振模色散(PMD)的设备，包括：宽带光源装置，用于使偏振宽带光穿过器件(14)；干涉仪(20)，用于分离和复合穿过所述器件的光以形成干涉图；偏振分离器(30)，用于接收来自所述干涉仪的所述光，并将该接收的光沿第一和第二正交偏振态分离；检测器(32X，32Y)，用于将所述第一和第二正交偏振态分别转换为相应的第一和第二电信号(PX(τ)，PY(τ))；以及处理器(36)，用于分别计算所述第一和第二电信号的差与和的模量，以产生互相关包络(EC(τ))和自相关包络(EA(τ))，并根据表达式确定偏振模色散，其中，σ2＝∫τ2E2C(τ)dτ/∫E2C(τ)dτ以及σ20＝∫τ2E2A(τ)dτ/∫E2A(τ)dτ，并且τ是干涉仪的两光路间的延迟差。
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公开(公告)号：CN1894568A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200480037088.9
申请日：2004-11-29
Applicant: 康宁股份有限公司
Inventor： R·W·夏普斯
IPC: G01J4/00
CPC classification number: G01N21/958 , G01J4/04 , G01N21/23
Abstract: 本文揭示了一种系统和方法，用于通过测量并分析光学材料(例如，玻璃板)中的双折射(例如，应力导致的双折射，固有双折射)来确定该光学材料的质量。该方法是一种扫描技术，其中将双折射传感器设置成第一光学状态，然后该双折射传感器沿某一方向以恒定的速度在玻璃板上移动，与此同时以高数据速率进行第一功率透射测量。在此次移动结束时，将双折射传感器设置成第二光学状态，然后以相同的速度在玻璃板上往回移动，与此同时进行第二功率透射测量。重复该过程，其重复次数与双折射传感器中的光学状态的数目相同。然后，计算机用功率透射测量的分布图来计算双折射值，以便确定该玻璃板的质量。
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公开(公告)号：CN1677164A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510062742.8
申请日：2005-03-28
Applicant: 朗迅科技公司
Inventor： 克利斯托弗尔·A·弗奇 , 迈克尔·瓦瑟尔耶夫 , 博尔纳德·尤克
CPC classification number: G01J4/04 , G02B5/3066 , G02B27/28
Abstract: 本发明公开一种基本上同时地将在光输入处接收的光分离成在光输出上的三个或更多输出光束的被动光系统。输出光束可以具有与接收光在斯托克斯空间的四面体基集的三个或更多基向量上的光投影的强度成正比的强度。该系统包括多个部分偏振分光器或多个光干涉仪。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1610817A
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN03801794.6
申请日：2003-03-03
Applicant: 株式会社高岳制作所
Inventor： 石原满宏
IPC: G01B11/24
Abstract: 一种偏振方向测定型两维光接收时标测定装置，和使用它的表面形状测量装置，该测定装置用于实现能适合动物身体测量的快速表面形状测量。图8中，测定光的偏振方向与狭缝光的扫描同步地转动，并用两组按交叉Nicols排列的偏振器(5、6)和存储器类型像测定器(7、8)，在两维上记录偏振方向，从而能够只用一次成像，确定狭缝光入射存储器类型像测定器(7、8)相应像素的时标。
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公开(公告)号：CN1536348A
公开(公告)日：2004-10-13
申请号：CN200410002966.5
申请日：1999-04-21
Applicant: 株式会社理光
Inventor： 森田展弘
IPC: G01N21/43
CPC classification number: G01N21/23 , G01J4/04 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G01M11/0285
Abstract: 本发明涉及双折射测定方法及其装置，该装置包括照射光学系、照射侧移位机构、偏振光元件、回转装置、回转角检测装置、受光元件、成像光学系及运算装置。照射光学系位置，以发散光照射被检透镜，使偏振光元件回转，透过偏振光元件的光成像在受光元件上，根据偏振光元件回转角度及受光元件的受光输出，计算被检透镜的双折射。能得到光学畸变影响小的光弹性干涉条纹像，也能很容易地对应被检透镜种类的变更。
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公开(公告)号：CN108088564A
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：CN201711350438.2
申请日：2017-12-15
Applicant: 哈尔滨工业大学
CPC classification number: G01J4/04 , G01J4/00 , G01J2004/005 , G01N21/21
Abstract: 本发明提出一种快照式光场-偏振成像仪及成像方法，其结构为：沿光线方向依次设置的物镜、视场光阑、准直镜、微透镜阵列一、波片阵列、偏振片阵列、微透镜阵列二以及光电探测器及信号处理部件；目标物的光线经过物镜汇聚到视场光阑上，经过准直镜准直达到微透镜阵列一；再经过波片阵列和偏振片阵列并在微透镜阵列一的后焦面上生成一系列子图像；所述子图像经过微透镜阵列二成像到光电探测器及信号处理部件上。在成像方法上，在不同波长的子区域内分别做目标物的图像以及深度重建，并计算其偏振；本发明可以在探测器一次积分时间内获取目标物的图像、偏振以及深度四维信息；同时，通过平均所有波段的目标物深度，可以大幅提高目标物深度的精度。
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公开(公告)号：CN107024278A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710287025.8
申请日：2017-04-27
Applicant: 北京航空航天大学
IPC: G01J4/04
CPC classification number: G01J4/04
Abstract: 本发明公开了一种在线消除光弹调制微小光旋角检测中偏振器件安装误差的装置及方法，利用设计的光路结构及偏振检测输出特性精确优化偏振器件的光轴位置，该方法涉及激光器、起偏器、光弹调制器、待测样品、四分之一波片和检偏器等光学器件以及光电探测器、锁相放大器和信号采集与处理系统等测量仪器。首先根据起偏器与检偏器透光轴正交消光的特性，确定检偏器的初始偏振轴位置；然后根据系统输出信号的误差特性，精确优化检偏器、光弹调制器的光轴位置，最终确定光弹调制器与起偏器及检偏器的相对角度。利用本方法，可在线高精度消除因器件安装偏差引入待测信号中的偏振及相位误差，提高检测系统信噪比，实现高精度微小光旋角的偏振检测。
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