三维形状测量装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103245302A

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:CN201210487146.4

    申请日:2012-11-26

    Inventor: 石原满宏

    Abstract: 根据一个实施例,一种三维形状测量装置至少包括:提供有多个共焦孔的孔板,所述多个共焦孔被二维设置为具有预定设置周期;以及孔板位移部,其使孔板在垂直于光轴方向的预定方向上以恒定速度产生位移。此外,孔板提供有盖构件,该盖构件与孔板整体地移动并包括透明体,该透明体允许来自光源的光束通过其中并照射到多个共焦孔,并且保护多个共焦孔避免灰尘。此外,考虑到包括盖构件的透明体的整个光学系统的光学特性来设计成像光学系统,每一反射光束通过该成像光学系统引导到光检测器。

    焦点位置改变设备及使用其的共焦光学设备

    公开(公告)号:CN103309030A

    公开(公告)日:2013-09-18

    申请号:CN201210488295.2

    申请日:2012-11-26

    Inventor: 石原满宏

    CPC classification number: G02B7/16 G02B21/0024 G02B21/248

    Abstract: 根据一个实施例,一种焦点位置改变设备设置在具有光源和物镜的共焦光学设备的光路上并配置为改变所述物镜在所述物镜的光轴方向上的焦点位置,所述焦点位置改变设备至少包括多个光路改变块和旋转板。所述多个光路改变块中的每一个彼此的折射率和厚度的至少之一不同。在旋转板上,所述多个光路改变块沿所述旋转板的旋转方向布置以与所述物镜的光轴交叉。并且抗反射层形成于所述旋转板的在所述光源一侧的表面上的预定区域中。

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