反射式电光装置和电子设备

    公开(公告)号:CN1231803C

    公开(公告)日:2005-12-14

    申请号:CN03100710.4

    申请日:2003-01-21

    Inventor: 二村徹

    Abstract: 提供借助预先使凹凸形成层的下层侧的状态均一化,在利用光刻技术形成凹凸形成层时,凹凸形状上不会产生不均一的反射式电光装置和电子设备。在反射式电光装置的TFT阵列基板(10)中,用来把凹凸图形赋予在光反射膜(8a)上的凹凸形成层(13a),采用对感光性树脂(13)进行半曝光、显影和加热的办法形成。由于在凹凸形成层(13a)的下层侧,高低差、台阶已借助高低差消除膜(3f)被消除,故可以适当地对感光性树脂(13)进行曝光。另外,由于高低差已消除,感光性树脂(13)的厚度不均一度小,故凹凸形状的不均一度也较小。

    半透射型显示器件的制造方法和半透射型显示器件

    公开(公告)号:CN1229677C

    公开(公告)日:2005-11-30

    申请号:CN03155084.3

    申请日:2003-08-27

    CPC classification number: G02F1/133555 G02F2201/48

    Abstract: 本发明的半透射型显示器件的制造方法包括:在透明基板上的透射显示区20形成遮光膜14的工序;在形成了遮光膜14的透明基板1上形成感光性有机膜7的工序;对感光性有机膜7进行曝光和显影,形成贯穿透射显示区20的感光性有机膜7的通孔7a的工序;在通孔7a形成后去除掉从通孔7a露出的遮光膜14的工序;以及在感光性有机膜7的上方形成反射膜9,从而形成反射区的工序。据此,在用于形成有机平坦化膜的曝光处理时,利用透过了TFT阵列基板的光的平台处的反射光,可防止在有机平坦化膜的膜厚方面产生可看到的不均匀性。

    液晶显示装置的制造方法、制造装置、液晶显示装置及电子机器

    公开(公告)号:CN1693958A

    公开(公告)日:2005-11-09

    申请号:CN200510068520.7

    申请日:2005-04-29

    Inventor: 后藤任

    CPC classification number: G02F1/133711 G02F1/133784 G02F2201/48

    Abstract: 本发明提供一种改变基板上的每个规定区域上的取向膜材料的涂敷量、形成均匀取向膜的液晶显示装置的制造方法以及制造装置。将通过根据来自控制装置(14)的信号由驱动装置(16)驱动的传送带BC运送的基板、例如形成了段电极的基板在洗净装置(4)中洗净。接着,在通过传送带BC运送的基板上,在喷吐装置(6)中在每个规定区域中涂敷不同量的取向膜材料。接着,在干燥装置(8)中,进行涂敷于基板上的取向膜材料的暂时干燥,在烘焙装置(10)中烘焙基板、形成取向膜。然后,在研磨装置(12)中,在取向膜上实施研磨处理。

    半透射型显示器件的制造方法和半透射型显示器件

    公开(公告)号:CN1512239A

    公开(公告)日:2004-07-14

    申请号:CN03155084.3

    申请日:2003-08-27

    CPC classification number: G02F1/133555 G02F2201/48

    Abstract: 本发明的半透射型显示器件的制造方法包括:在透明基板上的透射显示区20形成遮光膜14的工序;在形成了遮光膜14的透明基板1上形成感光性有机膜7的工序;对感光性有机膜7进行曝光和显影,形成贯穿透射显示区20的感光性有机膜7的通孔7a的工序;在通孔7a形成后去除掉从通孔7a露出的遮光膜14的工序;以及在感光性有机膜7的上方形成反射膜9,从而形成反射区的工序。据此,在用于形成有机平坦化膜的曝光处理时,利用透过了TFT阵列基板的光的平台处的反射光,可防止在有机平坦化膜的膜厚方面产生可看到的不均匀性。

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