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公开(公告)号：CN103543602A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201310495547.9
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号：CN102566263A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201210061782.0
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号：CN1987645B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200610064156.1
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号：CN102044683A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010527869.3
申请日：2010-10-21
Applicant: 通用汽车环球科技运作公司
CPC classification number: G03F7/2014 , G03F7/201 , G03F7/203 , G03F7/70291 , H01M8/0221 , H01M8/0239 , H01M8/0284 , H01M8/0286
Abstract: 提供了用于微桁架泡沫材料加工的动态遮蔽方法和一种用于加工辐射固化结构的系统。该系统包括辐射敏感材料，被设置为在暴露于辐射中时进行激发、聚合、交联和离解中的至少一种。至少一个辐射源被设置用于向辐射敏感材料投射辐射束。智能玻璃设备被设置在辐射敏感材料和至少一个辐射源之间。智能玻璃设备包括至少一个可切换层，至少一个可切换层可以选择性地从激活状态到无效状态进行设置。智能玻璃设备被设置用于在激活状态和无效状态中的一种状态时将辐射敏感材料暴露于所需的暴露模式中。还提供了一种用于加工辐射固化结构的方法。
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公开(公告)号：CN1987645A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200610064156.1
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1391137A
公开(公告)日：2003-01-15
申请号：CN02121797.1
申请日：2002-03-28
Applicant: 奥托马泰克
CPC classification number: G03F7/2032 , G03F7/2008 , G03F7/201 , G03F7/2014 , H05K3/0082
Abstract: 一种使印刷电路板(20)的至少一面(18)曝光的装置，该装置包括：一光学系统，具有至少一个光源和对光束进行处理以在表面(18)上产生均匀和准直光带(26)的装置，所述光带(26)的长度(L26)不小于所述表面(18)的宽度(l18)；位移装置，用于在所述光带(26)和所述表面(18)之间沿着基本横切于所述光带(26)的长度方向(XIXI’)的所述面(18)的长度方向(YIYI’)产生相对位移；和匹配装置，用于使所述光带(26)和所述待曝光表面(18)之间的相对位移速度与光带(26)的照度和待曝光表面(18)的感光度相匹配。
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公开(公告)号：CN109581820A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811105201.2
申请日：2018-09-21
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/70008 , G03F7/70058 , G03F7/70091 , G03F7/70191
Abstract: 本发明提供一种曝光装置。在具有放电灯的曝光装置中，在不损害分辨率的前提下，通过期望的光谱分布的光，对掩膜、光调制元件阵列等进行照明。在具有设置了放电灯(20D)和椭圆镜(20M)的光源部(20)以及照明光学系统(11)的曝光装置(1)中，照明光学系统(11)由光学滤波器(13A～13C)、会聚透镜(14)、杆状透镜(15)、以及中继光学系统(16)构成，并且光学滤波器(13A～13C)、会聚透镜(14)、杆状透镜(15)、以及中继光学系统(16)是从光源部侧起依次配置的。
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公开(公告)号：CN105209976B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201480027536.0
申请日：2014-06-16
Applicant: 株式会社V技术
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/7015 , G03F7/201 , G03F7/70275
Abstract: 本发明涉及通过利用微透镜阵列将掩模上的图案成像在基板上而曝光基板的曝光装置等，并使射出曝光光的照明单元小型化。微透镜阵列(30)具有包含朝向与移动方向(A)相交的方向的排列且以二维方式配置的多个微透镜(31)，照明单元具有：排列有多个激光二极管的LD阵列条；以及照明光学系统，其将从构成该LD阵列条的多个激光二极管射出的多个发出光转换成缝形状的曝光光束，并利用该曝光光束的曝光光(170)对排成一列的多个微透镜上进行照明，关于与移动方向相交的方向，该曝光光束以跨越在该方向上排列的多个微透镜的方式扩展，并且关于移动方向，该曝光光束被限制为不会波及排列于在该移动方向上相邻的列上的微透镜的宽度。
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公开(公告)号：CN107430346A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680004544.2
申请日：2016-10-26
Applicant: 埃斯科绘图成像有限责任公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/203 , G03F7/2032
Abstract: 一种用以用来自主面（顶部）的预定辐射密度和来自背面（底部）的预定辐射密度来曝光光敏印刷板的方法和装置。该方法包括以在背曝光之后的时间延迟来执行主曝光。优化在背曝光于主曝光之间的时间延迟以在处理之后在光敏印刷板上产生更小的稳定的单个点元素以及印刷在印刷基板上的更小的单个元素点尺寸。
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公开(公告)号：CN104620177B
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：CN201380044559.8
申请日：2013-07-19
Applicant: 麦克德米德印刷方案股份有限公司
Inventor： K·P·鲍德温
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/201
Abstract: 提供一种修整在制版过程中产生于光敏印刷坯料内的多个凸纹印刷网点的形状的方法。光可固化层曝光于使用UV LED灯组件的阵列的光化辐射下，UV LED灯组件的应用产生具有从由印刷网点的顶面的所希望的平面性、凸纹印刷网点所希望的肩斜角以及凸纹印刷网点所希望的边缘锐度所组成的组中选择的至少一种几何特征的凸纹印刷网点。
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