公开(公告)号：CN104246615A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201380014218.6

申请日：2013-03-29

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 田卷纯一

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/09 ,  H01L21/027 ,  H05K3/00

CPC classification number: G03F7/70208 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70291

Abstract: 曝光装置具有：光调制元件阵列，其二维地排列有能够根据姿势变化来切换光的反射方向的多个光调制元件；照明系统，其使第1光、第2光分别沿着第1方向、第2方向入射到光调制元件阵列，其中，第1光具有相干性，第2光具有相干性且相对于第1光具有相位差；成像光学系统，其使光调制元件阵列所反射的第1光和第2光成像于图案形成面；以及曝光控制部，其根据图案数据控制多个光调制元件各自的姿势，多个光调制元件各自的姿势能够选取在第1位置和第2位置，第1位置使第1光向沿着成像光学系统的光轴的方向反射，第2位置使第2光向沿着成像光学系统的光轴的方向反射，曝光控制部根据图案使多个光调制元件选择性地定位于第1位置和第2位置中的任何一方。

公开(公告)号：CN109581820B

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN201811105201.2

申请日：2018-09-21

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 田卷纯一 ,  松崎宏行

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光装置。在具有放电灯的曝光装置中，在不损害分辨率的前提下，通过期望的光谱分布的光，对掩膜、光调制元件阵列等进行照明。在具有设置了放电灯(20D)和椭圆镜(20M)的光源部(20)以及照明光学系统(11)的曝光装置(1)中，照明光学系统(11)由光学滤波器(13A～13C)、会聚透镜(14)、杆状透镜(15)、以及中继光学系统(16)构成，并且光学滤波器(13A～13C)、会聚透镜(14)、杆状透镜(15)、以及中继光学系统(16)是从光源部侧起依次配置的。

公开(公告)号：CN109581820A

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201811105201.2

申请日：2018-09-21

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 田卷纯一 ,  松崎宏行

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70191

Abstract: 本发明提供一种曝光装置。在具有放电灯的曝光装置中，在不损害分辨率的前提下，通过期望的光谱分布的光，对掩膜、光调制元件阵列等进行照明。在具有设置了放电灯(20D)和椭圆镜(20M)的光源部(20)以及照明光学系统(11)的曝光装置(1)中，照明光学系统(11)由光学滤波器(13A～13C)、会聚透镜(14)、杆状透镜(15)、以及中继光学系统(16)构成，并且光学滤波器(13A～13C)、会聚透镜(14)、杆状透镜(15)、以及中继光学系统(16)是从光源部侧起依次配置的。