公开(公告)号：CN102741709A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201180007870.6

申请日：2011-03-18

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 金子泰久

IPC: G01T7/00 ,  A61B6/06 ,  G21K1/02

CPC classification number: G21K1/06 ,  A61B6/4092 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/484 ,  C25D3/00 ,  G21K1/02 ,  G21K1/025 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/067 ,  G21K2207/005

Abstract: 本发明公开了一种用于放射线成像的格栅和制造该格栅的方法。导电基板(18)和蚀刻基板(20)相互结合。蚀刻掩模(25)使用光刻技术形成在蚀刻基板(20)上，沟槽(20a)和X射线透射部分(14b)通过干蚀刻使用博施法形成。沟槽(20a)通过电镀方法使用导电基板(18)作为电极填充有Au(27)。因此，X射线吸收部分(14a)形成。

公开(公告)号：CN102460237A

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：CN201080026946.5

申请日：2010-06-09

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： G·福格特米尔 ,  K·J·恩格尔 ,  T·克勒 ,  E·勒斯尔 ,  J-P·施洛姆卡

IPC: G02B5/18 ,  G21K1/06

CPC classification number: G02B5/1857 ,  A61B6/484 ,  G21K2201/06 ,  G21K2207/005

Abstract: 本发明涉及使通过扫描对象的相干辐射的相位信息可视化的相衬成像。聚焦光栅被使用，其减少了与光轴成特定角度的投影中梯形轮廓的创建。结合专用刻蚀过程使用激光支持的方法来创建这种聚焦光栅结构。

公开(公告)号：CN102197303A

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN200980142837.7

申请日：2009-10-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 长井健太郎 ,  田透 ,  大内千种 ,  伊藤英之助

IPC: G01N23/04 ,  A61B6/00

CPC classification number: G06T7/0002 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/484 ,  G01J9/02 ,  G01N23/04 ,  G01N23/20075 ,  G01N2223/401 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/067

Abstract: 公开了能够至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。X射线成像装置包括相位光栅(130)、吸收光栅(150)、检测器(170)和算术单元(180)。算术单元(180)执行通过对于由检测器获取的波纹图案的强度分布的傅立叶变换来获取空间频率谱的傅立叶变换处理。算术单元还执行使与载波频率对应的谱与由傅立叶变换处理获取的空间频率谱分离并然后使用逆傅立叶变换来获取微分相位图像的相位恢复处理。

公开(公告)号：CN1959541B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200610153964.5

申请日：2006-09-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·V·拉克希默瓦 ,  V·Y·巴尼恩 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  K·N·科舍勒夫 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  A·S·科瓦勒夫 ,  D·V·洛帕夫

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70933 ,  G21K2201/06

Abstract: 用于清洁光刻装置的元件的方法，例如清洁诸如收集反射镜的光学元件的方法，包括提供含有氮的气体；从至少部分气体产生氮基团，由此形成含有基团的气体；以及向所述装置的一个或多个元件提供至少部分含有基团的气体。光刻装置包括辐射源和光学元件，以及布置成产生射频放电的放电发生器。

公开(公告)号：CN102971801B

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201180021391.X

申请日：2011-04-26

Applicant: 原子能与替代能源委员会

Inventor： 奥利维耶·塔谢 ,  奥利维耶·斯帕拉

IPC: G21K1/02 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/02 ,  G21K1/025 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明涉及一种用于X射线束的准直设备、用于通过X射线束的散射来分析样品(105)的光学设备以及用于X射线束的准直仪。该准直设备包括意图在真空或受控气氛下的外壳(110)，该外壳(110)具有用于射束的入口(120)和出口(121)及由具有衍射周期性结构的材料制成的至少一个板(104)，所述板(104)具有两个主面(104a，104b)和在所述面之间的至少一个加宽的孔(104c)。

公开(公告)号：CN102460237B

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN201080026946.5

申请日：2010-06-09

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： G·福格特米尔 ,  K·J·恩格尔 ,  T·克勒 ,  E·勒斯尔 ,  J-P·施洛姆卡

IPC: G02B5/18 ,  G21K1/06

CPC classification number: G02B5/1857 ,  A61B6/484 ,  G21K2201/06 ,  G21K2207/005

Abstract: 本发明涉及使通过扫描对象的相干辐射的相位信息可视化的相衬成像。聚焦光栅被使用，其减少了与光轴成特定角度的投影中梯形轮廓的创建。结合专用刻蚀过程使用激光支持的方法来创建这种聚焦光栅结构。

公开(公告)号：CN103876761A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201410089754.9

申请日：2009-10-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 长井健太郎 ,  田透 ,  大内千种 ,  伊藤英之助

IPC: A61B6/00 ,  G01N23/04

CPC classification number: G06T7/0002 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/484 ,  G01J9/02 ,  G01N23/04 ,  G01N23/20075 ,  G01N2223/401 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/067

Abstract: 公开了能够至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。X射线成像装置包括相位光栅（130）、吸收光栅（150）、检测器（170）和算术单元（180）。算术单元（180）执行通过对于由检测器获取的波纹图案的强度分布的傅立叶变换来获取空间频率谱的傅立叶变换处理。算术单元还执行使与载波频率对应的谱与由傅立叶变换处理获取的空间频率谱分离并然后使用逆傅立叶变换来获取微分相位图像的相位恢复处理。

公开(公告)号：CN103052876A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201180037916.9

申请日：2011-08-01

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 向出大平

IPC: G01N23/04 ,  G21K1/00

CPC classification number: G01N23/20 ,  G01N23/04 ,  G01N23/083 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/067 ,  G21K2207/005

Abstract: 一种用于导出X射线吸收和相位信息的装置包括：用于在空间上分割X射线的分割元件；用于检测透过被检体的X射线的强度的检测器，X射线的强度根据X射线相位以及位置变化而改变；以及用于计算X射线透射率图像和作为相位信息的X射线微分相位衬度或相移衬度图像的计算单元。X射线通过具有不等的狭缝宽度的光栅而被分成具有不同宽度的两个或更多个X射线，并且，被发射到检测器单元上。而且，计算单元基于该两个或更多个X射线之间的在检测器单元中的X射线强度变化和X射线相位变化之间的相关关系方面的差异计算X射线吸收和相位信息。

公开(公告)号：CN102971801A

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：CN201180021391.X

申请日：2011-04-26

Applicant: 原子能与替代能源委员会

Inventor： 奥利维耶·塔谢 ,  奥利维耶·斯帕拉

IPC: G21K1/02 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/02 ,  G21K1/025 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明涉及一种用于X射线束的准直设备、用于通过X射线束的散射来分析样品(105)的光学设备以及用于X射线束的准直仪。该准直设备包括意图在真空或受控气氛下的外壳(110)，该外壳(110)具有用于射束的入口(120)和出口(121)及由具有衍射周期性结构的材料制成的至少一个板(104)，所述板(104)具有两个主面(104a，104b)和在所述面之间的至少一个加宽的孔(104c)。

公开(公告)号：CN102821693A

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：CN201180017407.X

申请日：2011-03-29

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 多田拓司

IPC: A61B6/00 ,  A61B6/06

CPC classification number: A61B6/06 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/484 ,  G21K2201/06 ,  G21K2207/005

Abstract: 本发明公开了一种放射线检测装置、放射线照相设备和放射线系统。放射线照相系统包括X射线源、第一透射型光栅、第二透射型光栅、扫描机构、平板检测器以及运算处理部分。第一透射型光栅通过在第一方向上连接多个第一光栅件构成，第二透射型光栅通过在第一方向上连接多个第二光栅件构成。在X射线源的焦点作为视点进行到平板检测器的投影中，至少一个像素置于平板检测器的两个相邻第一光栅件的连接点被投影到上面的每一个像素与两个相邻第二光栅件的连接部被投影到上面的每一个像素之间。