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公开(公告)号：CN108292102A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680064056.0
申请日：2016-10-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·奥斯特霍夫 , 保罗·詹森 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
CPC classification number: G03F7/70983 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F1/62 , G03F1/64 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G21K2201/067
Abstract: 一种用于制造用于EUV光刻的隔膜组件(80)的方法，所述方法包括：设置叠层(40)，所述叠层包括介于支撑衬底(41)与附接衬底(51)之间的隔膜层(45)，其中所述支撑衬底包括内部区和第一边界区；加工所述叠层，包括选择性地移除所述支撑衬底的所述内部区，以形成隔膜组件，所述隔膜组件包括：隔膜(45)，所述隔膜由至少所述隔膜层形成；和支撑件(81)，所述支承件保持所述隔膜，所述支撑件至少部分地由所述支撑衬底的所述第一边界区形成。所述附接衬底可被结合至所述叠层的其余部分。
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公开(公告)号：CN103443863B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201280015247.X
申请日：2012-03-21
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70075 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G21K2201/067
Abstract: 一种EUV反射镜布置(100)，具有彼此并排布置并且共同形成所述反射镜布置的反射镜表面的多个反射镜元件(110、111、112)。每个反射镜元件具有基板(120)和多层布置(130)，所述多层布置被施加到所述基板上，并关于来自极紫外范围(EUV)的辐射具有反射效果，所述多层布置包括多个层对(135)，该层对具有由高折射率层材料和低折射率层材料组成的交替层。所述多层布置具有活性层(140)，该活性层布置在辐射进入表面和基板之间，并由压电活性层材料组成，可通过电场的作用来改变所述活性层的层厚度(z)；对于每个活性层，提供电极布置，用于产生作用于所述活性层的电场。
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公开(公告)号：CN103876761B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201410089754.9
申请日：2009-10-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G06T7/0002 , A61B6/4291 , A61B6/484 , G01J9/02 , G01N23/04 , G01N23/20075 , G01N2223/401 , G21K1/06 , G21K2201/06 , G21K2201/067
Abstract: 公开了能够至少通过单个成像操作获取被检体的微分相位图像或相位图像的X射线成像装置和X射线成像方法。X射线成像装置包括相位光栅（130）、吸收光栅（150）、检测器（170）和算术单元（180）。算术单元（180）执行通过对于由检测器获取的波纹图案的强度分布的傅立叶变换来获取空间频率谱的傅立叶变换处理。算术单元还执行使与载波频率对应的谱与由傅立叶变换处理获取的空间频率谱分离并然后使用逆傅立叶变换来获取微分相位图像的相位恢复处理。
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公开(公告)号：CN105139913A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201510568450.5
申请日：2015-09-08
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
CPC classification number: G21K1/06 , G02B5/1838 , G21K2201/067
Abstract: 本发明公开了一种光栅和辐射成像装置，其中该光栅包括：若干个叠摞的栅格单元，若干个栅格单元叠摞形成栅格；所述栅格单元包括具有两个相互平行平面的第一薄片和第二薄片；所述第一薄片与所述第二薄片沿第一薄片长度方向叠摞；所述第一薄片为不易透过射线的薄片。本发明采用不同规格的薄片叠摞形成光栅间隙均匀的光栅，光栅厚度不受限制，可以用于高能射线场合。
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公开(公告)号：CN102327119B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201110145877.6
申请日：2011-06-01
Applicant: 西门子公司
Inventor： 菲利普.伯恩哈特
IPC: A61B6/00
CPC classification number: G21K1/06 , A61B6/4035 , A61B6/4441 , A61B6/544 , B82Y10/00 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/067
Abstract: 对于具有高的射线强度的准单色X射线，设置用于产生用于照射对象的准单色X射线的X射线装置，该X射线装置具有用于发送多色X射线的点状的射线源和用于衍射多色X射线的衍射装置，该衍射装置具有由具有平的表面的结晶材料构成的超镜，在该超镜中，结晶材料具有晶格的晶格层面距离的至少一个、特别是连续的变化，其中这样布置射线源和衍射装置，使得从多色X射线通过在超镜上的部分反射产生准单色X射线。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103827701A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201280047176.1
申请日：2012-09-18
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/702 , B82Y10/00 , C23C16/308 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
Abstract: 本发明涉及一种用在例如EUV光刻设备或EUV掩模度量系统中的反射镜(13)，包括：基板(15)和反射EUV辐射(6)的涂层(16)，所述反射涂层具有由氮氧化物构成，尤其由SiNXOY构成的覆盖层(18)，其中，氮氧化物NXOY中的氮比例x在0.4和1.4之间。本发明还涉及一种包括至少一个这种EUV反射镜(13)的EUV光刻设备以及一种操作这种EUV光刻设备的方法。
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公开(公告)号：CN103348415A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201280007951.0
申请日：2012-02-02
Applicant: 皇家飞利浦有限公司
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G21K1/067 , A61B6/0407 , A61B6/4035 , A61B6/4078 , A61B6/4291 , A61B6/4441 , A61B6/484 , A61B6/508 , G21K1/06 , G21K2201/067 , G21K2207/005
Abstract: 本发明涉及X射线差分相衬成像。为了增强通过相衬成像采集的信息，用于X射线差分相衬成像的分析光栅（34）被提供有吸收结构（48）。后者包括第一多个（50）第一区域（52）和第二多个（54）第二区域（56），所述第一区域（52）具有第一X射线衰减，所述第二区域（56）具有第二X射线衰减。所述第二X射线衰减小于所述第一X射线衰减，并且以交替的方式周期性地布置所述第一区域和第二区域。第三多个（58）第三区域（60）被提供有第三X射线衰减，其在从所述第二X射线衰减到所述第一X射线衰减的范围之内，其中，每第二个所述第一区域或每第二个所述第二区域被一个所述第三区域取代。
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公开(公告)号：CN103337274A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201310190387.7
申请日：2009-10-20
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
Abstract: 一种用于紫外线灯的反射器，该紫外线灯可在基材处理设备中使用。该反射器包含在该紫外线灯长度上延伸的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含多个通孔以将冷却剂气体导向该紫外线灯。在此亦描述使用具有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。
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公开(公告)号：CN102197302B
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN200980142363.6
申请日：2009-10-28
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G01N23/04
CPC classification number: G06T7/0002 , A61B6/4291 , A61B6/484 , G01J9/02 , G01N23/04 , G01N23/20075 , G01N2223/401 , G21K1/06 , G21K2201/06 , G21K2201/067
Abstract: 一种在采用穿过被检物体的放射线的干涉条纹的强度信息的放射线成像装置中使用的分析方法包括以下步骤：从干涉条纹的强度信息产生卷绕到2π的范围中的被检物体的第一相位信息；从干涉条纹的强度信息产生关于被检物体的吸收强度梯度的信息；基于关于吸收强度梯度的信息中的梯度的绝对值产生加权函数；和通过使用加权函数展开第一相位信息，产生第二相位信息。
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公开(公告)号：CN102918603A
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201180026105.9
申请日：2011-05-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G21K1/06
CPC classification number: G21K1/06 , G21K2201/067 , H01J11/44 , H01J35/065
Abstract: 提供一种X射线波导，其呈现较小的传播损耗并具有使其相位受控的波导模式。该X射线波导包括：芯(404)，用于引导在使材料的折射率实部小于等于1的波长带中的X射线；以及包层(402,403)，用于将X射线约束在芯中，其中：X射线是通过在芯与包层之间的界面处的全反射而被约束在芯中的；在芯中周期性地布置具有不同折射率实部的多种材料(405,406)；以及X射线波导的波导模式使得在垂直于芯中的X射线的波引导方向的方向上X射线的电场强度分布或磁场强度分布的波腹或波节的数量与周期结构的周期数量相一致。
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