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公开(公告)号：CN119803868A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202510026128.3
申请日：2025-01-08
Applicant: 中国汽车工程研究院股份有限公司 , 中汽院智能网联科技有限公司
IPC: G01M11/02 , G01M17/007 , G01J1/10 , G01J1/42
Abstract: 本说明书实施例公开了一种自适应远光灯的眩光协同测试方法、装置及电子设备。该方法包括通过先获取目标车辆在场地测试中的测试数据，并基于测试数据中的总线数据对目标车辆进行暗室灯光测试，得到各目标时刻对应的光形数据，再根据测试数据中的惯导数据确定各光形数据对应的目标照度范围，最后通过各两两配对的目标照度范围和理论眩光受影响范围的比对结果确定自适应远光灯的眩光测试结果。通过将场地测试中获取的测试数据通过数据回灌至暗室灯光测试场景中，进行自适应远光灯的眩光协同测试，保证了既能模拟真实道路驾驶条件环境，又能在暗室测试环境中准确高效的确定各目标时刻的目标照度范围，提升了自适应远光灯眩光测试的准确度和效率。
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公开(公告)号：CN119803688A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411966128.3
申请日：2024-12-30
Applicant: 华南师范大学
Abstract: 本发明涉及一种基于量子弱值放大的光学相位检测系统，包括依次处于同一光路中的前选择光偏振单元、相位补偿器、样品耦合单元、后选择光偏振单元、光谱仪，相位补偿器通过与其电连接的伺服电机控制引入相位量，处理器通过控制伺服电机调节相位补偿器的引入相位量。该系统计算样品光在弱值放大线性区的相位与相位补偿器的相位和来计算待测样品的光学相位，提高了测量的抗噪能力，有效避免样品光受人为干扰导致的测量结果不准确的问题；通过平均波长变化趋势、光强度变化趋势和平均波长‑相位差数据集可快速调节到弱值放大线性区，解决现有基于弱值放大技术测量样品光学相位时需要花费大量时间与精力去寻找合适的测量点的问题。
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公开(公告)号：CN119803662A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411895612.1
申请日：2024-12-22
Applicant: 浙江普施康生物科技有限公司
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明涉及光学调试装置，具体是PMT调试装置和方法，调试装置包括光源板，光源具有在所述光源板上；还包括：支架设置允许容纳PMT的第一通道，以及容纳移动件的第二通道；所述支架的临着所述PMT的侧部的内部设置光学通道；移动件设置在所述第二通道内，弹性件用于推动移动件，使所述移动件挤压设置在第一通道内的PMT；第一遮光件设置在所述光源板和支架之间，所述光源发出的测试光穿过所述第一遮光件和所述光学通道，被设置在第一通道内的PMT接收；所述支架、光源板和移动件设置在第一遮光罩内。本发明具有结构简单、便携等优点，应用在PMT制造中。
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公开(公告)号：CN114636471B
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202210337424.1
申请日：2022-03-31
Applicant: 友达光电股份有限公司
Abstract: 一种感光装置，包括基板、多条传输线、多条信号线、第一感光单元以及第二感光单元。传输线沿着第一方向延伸。信号线沿着第二方向延伸。第二方向交错于第一方向。第一感光单元以及第二感光单元连接传输线以及信号线。第一感光单元以及第二感光单元各自包括控制电路以及电性连接控制电路的感光元件。第二感光单元的感光元件位于第一感光单元的感光元件的第一方向。第一感光单元的感光元件重叠于连接第二感光单元的对应的信号线中的至少一条。
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公开(公告)号：CN119782848A
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202510272087.6
申请日：2025-03-10
Applicant: 延边大学
Inventor： 崔浩
Abstract: 本发明涉及半导体器件测试领域，尤其涉及一种用于LED器件寿命检测的数值拟合优化方法，该方法包括：采集LED器件的光通量时序数据；对光通量时序数据进行光通量变化分析，得到窗口调节因子并通过窗口调节因子进行动态窗口划分；通过对任二动态窗口进行距离优化因子分析，得到距离优化因子，并通过距离优化因子对动态窗口之间的#imgabs0#距离度量进行优化，得到优化距离；通过优化距离进行近邻匹配，得到近邻匹配结果；通过近邻匹配结果与光通量时序数据进行弧跨越数序列评估，得到弧跨越数序列；根据弧跨越数序列进行自适应分段结果并进行分段拟合；根据分段拟合结果进行寿命检测分析，得到LED器件的寿命检测结果，从而提高LED器件寿命检测精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119764149A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202411899354.4
申请日：2019-08-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 提供了一种用于在检查系统中监测束(322)的系统和方法。该系统包括：被配置为收集形成在表面(340)上的束的束斑的图像序列的图像传感器(360)，图像序列中的每个图像已经在图像传感器的不同曝光时间被收集；以及被配置为组合图像序列以得出束的束轮廓的控制器(380)。
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公开(公告)号：CN119756788A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202411664789.0
申请日：2024-11-20
Applicant: 江苏格微晶智能科技有限公司
Abstract: 本发明公开了曝光机光源检测技术领域的一种曝光机光源照射强度检测装置，包括工作台、封闭机构、夹持机构、散热机构、检测机构和控制装置，所述封闭机构位于所述工作台的顶部左侧，所述夹持机构位于所述工作台的顶部，且位于所述封闭机构的内腔，所述散热机构镶嵌在所述封闭机构的内腔左侧壁，所述检测机构通过螺栓固定连接在所述工作台的顶部右侧，该曝光机光源照射强度检测装置，结构设计合理，能够在不同光线的环境下对曝光机的光源进行检测，能够得到更多的检测数据，检测的数据更加的精准，能够自动对曝光机光源进行移动调节检测，无需人工来回进行移动调节，更加省时省力，能够提高光源的检测效率。
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公开(公告)号：CN115347079B
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202210999304.8
申请日：2022-08-19
Applicant: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
IPC: H10F71/00 , H01L21/304 , H01L21/306 , H10F77/1223 , H10F30/225 , G01J1/42
Abstract: 本发明属于光电探测器芯片技术领域，具体涉及一种低后脉冲的硅SPAD探测器的制造方法；该方法包括：提供清洁P型外延硅片，生长氧化硅介质层；制备截止环；制备保护环；P形杂质注入和N形杂质注入形成雪崩区；制备N+接触区；氧化硅介质层上形成上电极；将玻璃载体片键合到P型外延硅片正面；采用机械研磨、自停止腐蚀的方法腐蚀部分P型衬底；采用湿法腐蚀方法去除外延层中的过渡区；制备P+接触区；在P+接触区下方形成下电极；解开正面的玻璃载体片；本发明去除多余衬底和过渡区，具有低后脉冲特点，实用性高。
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公开(公告)号：CN114430875B
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202080061680.1
申请日：2020-08-20
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： 彼得·马克西米兰·戈茨 , 塞巴斯蒂安·托马斯·鲍尔思科米特 , 帕特里克·塞巴斯蒂安·于贝尔 , 罗纳德·弗兰西斯克斯·赫尔曼·休格斯 , J·A·波尔 , E·J·C·博斯 , A·J·A·布朗兹 , V·普洛斯因特索夫 , 保罗·威廉·斯科尔特斯-范埃克 , 鲍拉斯·安东尼斯·安德里亚斯·特尤尼森 , M·U·阿杰盖恩卡尔
IPC: H01S3/00 , H01S3/0804 , G01B11/27 , G01J1/04 , G01J1/42 , G01M11/00 , G03F7/20 , G02B1/00 , G02B6/02 , G02B6/42 , G02F1/365
Abstract: 公开了一种用于控制包括光子晶体光纤(PCF)的宽带光源的输出模式的模式控制系统和方法。模式控制系统包括：至少一个检测单元，被配置为测量从宽带光源发射的辐射的一个或多个参数以生成测量数据；和处理单元，被配置为通过所述测量数据评估从宽带光源发射的所述辐射的模式纯度。基于所述评估，所述模式控制系统被配置为生成用于优化所述宽带光源的一个或多个泵浦耦合条件的控制信号。所述泵浦耦合条件与泵浦激光束相对于所述光子晶体光纤的光纤芯部的所述耦合相关。
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公开(公告)号：CN119738036A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202510009961.7
申请日：2025-01-03
Applicant: 浦江三思光电技术有限公司 , 上海三思电子工程有限公司 , 上海三思科技发展有限公司 , 嘉善三思光电技术有限公司 , 浙江浦照光电技术有限公司
Abstract: 本申请提供一种灯具发光状态检测方法、系统、介质、程序及终端，本发明通过自动化的操作避免了人工操作时的耗时和误触，提升了生产效率和准确率，并且，根据预设的待检测灯具每个发光单元的光谱特性将所述RGB加权图像转化成HSV图像，使生成的明度图像能够突出灯具的实际发光区域，弱化环境光和非发光区域的干扰，根据光谱特性动态调整RGB各通道对亮度的贡献，从而提高了测试精度。
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