Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition that may form a cured film with high flatness and is suitably used to form a liquid crystal display element and a protective film for solid state image sensors excellent in developability and heat-resistance, to provide a composition having excellent storage stability, to provide a method of forming a protective film using the composition, and to provide a protective film formed from the following composition. SOLUTION: The resin composition for forming a radiation sensitive protective film comprises [A] (a1) an unsaturated carboxylic acid and/or unsaturated carboxylic acid anhydride, (a2) an epoxy group-containing unsaturated compound, and (a3) a copolymer consisting of another unsaturated compound, [B] a monofunctional polymerizable unsaturated compound having carboxyl groups with molecular weight of ≥180, [C] a multifunctional polymerizable unsaturated compound, and [D] a photoinitiator. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
Abstract translation:提供一种分散组合物,其具有高折射率,并且具有优异的涂布后的膜表面的表面状态,使用其的可固化组合物,透明膜,微透镜和固态成像装置。 含有一次粒径为1nm〜100nm(A)的金属氧化物粒子,由下式(1)(B)表示的酸值小于120mgKOH / g的高分子化合物的分散组合物, ,和溶剂(C)。 在式(1)中,R 1表示(m + n)价连接基团,R 2表示单键或二价连接基团。 A 1表示具有至少一个选自酸基,脲基,氨基甲酸酯基,具有配位氧原子的基团,具有碱性氮原子的基团,酚基, 烷基,芳基,具有亚烷基氧基的基团,酰亚胺基,烷氧基羰基,烷基氨基羰基,羧酸酯基,磺酰胺基,杂环基,烷氧基甲硅烷基,环氧基,异氰酸酯 基团和羟基。 n A 1和n R 2可以相同或不同。 m表示8以下的正数,n表示1〜9,m + n表示3〜10 .P 1表示聚合物链。 m P 1可以相同或不同。
Abstract:
본 발명은 산가가 높은 화합물을 포함하는 것에도 상관없이 ITO와의 접속 신뢰성이 높고, 또한 미세 패터닝도 가능한 도전 패턴을 얻는 데에 바람직한 도전 페이스트 및 도전 패턴의 제조 방법을 얻는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 무기 재료로 이루어지는 심재 표면을 안티몬 함유 화합물로 피복해서 이루어지는 복합 입자(A), 산가가 30∼250㎎KOH/g의 범위인 화합물(B) 및 도전성 필러(C)를 포함하는 것을 특징으로 하는 도전 페이스트를 제공한다.
Abstract:
우수한 광반응 효율과 내용제성과 높은 밀착성을 구비한 경화막을 형성하는 경화막 형성 조성물을 제공하고, 광배향용의 배향재 및 그 배향재를 사용하여 형성된 위상차재를 제공한다. 경화막 형성 조성물은, (A) 광배향성기와, 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 어느 하나의 치환기를 가지는 화합물과, (B) 하이드록시기, 카르복실기 및 아미노기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 치환기를 가지는 친수성 폴리머와, (C) (A)성분 및 (B)성분과 반응하고, 또한 (A)성분의 승화온도보다 저온에서 반응하는 가교제를 함유하고, 단, (B)성분이 아크릴 중합체인 경우는 추가로 (E)밀착향상성분을 함유한다. (C)성분의 가교제는, (A)성분보다 친수성으로 할 수 있다. 이 경화막 형성 조성물을 이용하여 경화막을 형성하고, 광배향 기술을 이용하여 배향재(10)를 형성한다. 배향재(10) 상에 중합성 액정을 도포하고, 경화시켜 위상차재를 얻는다.
Abstract:
A hard coat coating composition for a metal base material, includes a coated film forming component including a urethane(meth)acrylate (A) having a carboxyl group and having a solid fraction acid value being value of 0.5 to 2.0 mgKOH/g, a urethane(meth)acrylate (B) not having a carboxyl group, a thermoplastic resin (C) having a carboxyl group and having a solid fraction acid value of 1.0 to 30 mgKOH/g, and a silane coupling agent (D).