抗反射硬掩模组合物及其使用方法

    公开(公告)号:CN101185030A

    公开(公告)日:2008-05-21

    申请号:CN200680018573.0

    申请日:2006-03-07

    CPC classification number: G03F7/091 G03F7/095

    Abstract: 提供了用于平版印刷工艺中的具有抗反射性能的硬掩模组合物,使用该组合物的方法,和通过该方法制造的半导体装置。本发明的抗反射硬掩模组合物包含:a)聚合物组分,其包含第一单体单元和第二单体单元,其中所述第一单体单元和所述第二单体单元均包含芳基,且其中所述第一单体单元和所述第二单体单元中的至少一种包含酚基;b)交联组分;和c)酸性催化剂。

    湿蚀刻溶液
    319.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101131546A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200710142032.5

    申请日:2007-08-20

    CPC classification number: C03C15/00 C09K13/08 H01L21/31111

    Abstract: 一种湿蚀刻溶液,包括氟化氢、无机酸、非离子型表面活性剂和水,其中所述氟化氢的量为所述蚀刻溶液重量的约0.1%~约3%,所述无机酸的量为所述蚀刻溶液重量的约10%~约40%并且所述无机酸是硝酸、硫酸和/或盐酸中的一种或多种,所述非离子型表面活性剂的量为所述蚀刻溶液重量的约0.0001%~约5%并且所述非离子型表面活性剂包括烷基酚聚氧乙烯醚和/或十二烷基硫酸铵中的一种或多种。

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