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公开(公告)号：JPS6071158A
公开(公告)日：1985-04-23
申请号：JP17652684
申请日：1984-08-24
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： JIERAARU ROMUBARU
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B13/02
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32.发明专利
公开(公告)号：JPS59195620A
公开(公告)日：1984-11-06
申请号：JP6601084
申请日：1984-04-04
Applicant: Essilor Int
Inventor： BERUNAADO ROSUPAISU
CPC classification number: G02C1/04 , G02C5/00 , G02C5/02 , G02C2200/08
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公开(公告)号：JPS5926221A
公开(公告)日：1984-02-10
申请号：JP12928183
申请日：1983-07-15
Applicant: Essilor Int
Inventor： JIYAN BUDOU
IPC: B29C61/00 , B29C39/00 , B29C39/02 , B29C39/26 , B29C39/40 , B29C43/02 , B29C43/36 , B29C45/00 , B29C45/26 , B29C45/56 , B29D11/00 , B29L11/00
CPC classification number: B29C43/361 , B29C33/20 , B29C43/021 , B29C45/0025 , B29C45/2669 , B29C45/561 , B29C2043/3283 , B29C2043/3618 , B29C2045/5625 , B29C2045/5635 , B29D11/00413 , B29L2011/0016 , B29L2011/0058 , Y10S425/808
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34.发明专利Apparatus for producing optional product, for example, modified solution of saturated absorbent for laser 失效用于生产可选产品的装置，例如用于激光的饱和吸收剂的改性溶液
公开(公告)号：JPS58192542A
公开(公告)日：1983-11-10
申请号：JP7163283
申请日：1983-04-22
Applicant: Essilor Int
Inventor： RIYUTSUKU TANIYON , JIYORUJIYU WAI
CPC classification number: H01S3/022 , G01N21/85 , H01S3/113 , Y10T137/2509 , Y10T137/85954 , Y10T137/86389
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公开(公告)号：JPS5889235A
公开(公告)日：1983-05-27
申请号：JP19878982
申请日：1982-11-12
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： RIYUTSUKU TANIYON
IPC: A61B3/02
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPS56168624A
公开(公告)日：1981-12-24
申请号：JP6111181
申请日：1981-04-22
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： SERUJIYU RUGANDORU
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公开(公告)号：JPS5684920A
公开(公告)日：1981-07-10
申请号：JP15753980
申请日：1980-11-08
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： MOORISU GABU
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公开(公告)号：JPS5665114A
公开(公告)日：1981-06-02
申请号：JP14505980
申请日：1980-10-16
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： BERUNAARU ROSUPISU
IPC: G02C1/04
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公开(公告)号：JPS5550338A
公开(公告)日：1980-04-12
申请号：JP12782079
申请日：1979-10-03
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： RIYUTSUKU TANIYON
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