-
公开(公告)号：JPS5672840A
公开(公告)日：1981-06-17
申请号：JP11532480
申请日：1980-08-21
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： RIYUTSUKU TANIYON
-
2.发明专利Apparatus for producing optional product, for example, modified solution of saturated absorbent for laser 失效用于生产可选产品的装置，例如用于激光的饱和吸收剂的改性溶液
公开(公告)号：JPS58192542A
公开(公告)日：1983-11-10
申请号：JP7163283
申请日：1983-04-22
Applicant: Essilor Int
Inventor： RIYUTSUKU TANIYON , JIYORUJIYU WAI
CPC classification number: H01S3/022 , G01N21/85 , H01S3/113 , Y10T137/2509 , Y10T137/85954 , Y10T137/86389
-
公开(公告)号：JPS5889235A
公开(公告)日：1983-05-27
申请号：JP19878982
申请日：1982-11-12
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： RIYUTSUKU TANIYON
IPC: A61B3/02
-
公开(公告)号：JPS5550338A
公开(公告)日：1980-04-12
申请号：JP12782079
申请日：1979-10-03
Applicant: ESSILOR INT
Inventor： RIYUTSUKU TANIYON
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.019 seconds)
