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公开(公告)号：TWI429002B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW097106463
申请日：2008-02-25
Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 , RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
Inventor： 艾倫 卡爾森 , CARLSON, ALAN , 李段 , LE, TUAN D. , 艾傑 潘 , PAI, AJAY , 安東尼 菲利普 , PHILIP, ANTONY RAVI
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G06T7/0006 , G01N21/9501 , G01N21/9503 , G01N2021/8841 , G01R31/2831 , G01R31/303 , G06T2207/30148 , H01L21/67253
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公开(公告)号：TW201308461A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101111400
申请日：2012-03-30
Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 , RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
Inventor： 宋昕 , SONG, XIN , 拉布瓦 里歐納 , LABUA, LEONARD , 普里辛斯基 麥可 , PLISINSKI, MICHAEL
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01L21/67288
Abstract: 本發明揭示一種製造具有一相對較高之產率的半導體裝置之方法。在未圖案化及圖案化基板上識別之缺陷係經準確地定位且相對於彼此對準。可基於通常在一或多個晶圓圖中表達的適當對準之缺陷作出更明智之工藝控制決策。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种制造具有一相对较高之产率的半导体设备之方法。在未图案化及图案化基板上识别之缺陷系经准确地定位且相对于彼此对准。可基于通常在一或多个晶圆图中表达的适当对准之缺陷作出更明智之工艺控制决策。
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公开(公告)号：TW200839916A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：TW096133919
申请日：2007-09-11
Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
Inventor： 孫剛 SUN, GANG
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/21 , G01N21/93 , G01N21/95607 , G01N2021/8887
Abstract: 本文揭示一種用於檢測基板之不同缺陷的系統及方法。偏振濾光片被使用來增加與偏振相關之缺陷如失焦及曝光缺陷之對比,而維持對於與偏振無關之缺陷如凹洞、孔隙、碎屑、裂痕及微粒之相同的靈敏度。
Abstract in simplified Chinese: 本文揭示一种用于检测基板之不同缺陷的系统及方法。偏振滤光片被使用来增加与偏振相关之缺陷如失焦及曝光缺陷之对比,而维持对于与偏振无关之缺陷如凹洞、孔隙、碎屑、裂痕及微粒之相同的灵敏度。
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34.发明专利藉含有聚焦光束散射之多重測定技術檢測樣品特性之方法 MULTIPLE MEASUREMENT TECHNIQUES INCLUDING FOCUSED BEAM SCATTEROMETRY FOR CHARACTERIZATION OF SAMPLES 审中-公开藉含有聚焦光束散射之多重测定技术检测样品特性之方法 MULTIPLE MEASUREMENT TECHNIQUES INCLUDING FOCUSED BEAM SCATTEROMETRY FOR CHARACTERIZATION OF SAMPLES
公开(公告)号：TW200821571A
公开(公告)日：2008-05-16
申请号：TW096127393
申请日：2007-07-27
Applicant: 魯德府科技公司 RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
IPC: G01N
CPC classification number: G01N21/211 , G01B11/24 , G01N21/47 , G01N21/9501 , G01N2021/213 , G01N2021/214 , G01N2021/8438
Abstract: 本發明揭露一種用以監控薄膜製程之系統。此技術包括測定入射光之繞射,同時根據至少一個理想或標準構體,將該測定結果與預測模態作比較。上述繞射入射光之模態及/量度(measurement)可用一或多個額外測定系統之輸出調整。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭露一种用以监控薄膜制程之系统。此技术包括测定入射光之绕射,同时根据至少一个理想或标准构体,将该测定结果与预测模态作比较。上述绕射入射光之模态及/量度(measurement)可用一或多个额外测定系统之输出调整。
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公开(公告)号：TW200802666A
公开(公告)日：2008-01-01
申请号：TW096111909
申请日：2007-04-03
Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
Inventor： 寇瑞 瓦特金斯 WATKINS, CORY
IPC: H01L
CPC classification number: G06T7/0004 , G06T7/41 , G06T2207/10028 , G06T2207/30148
Abstract: 一種用來捕捉一晶圓邊緣的斜面的影像之成像感測器(imagingsensor)於本文中被揭露。該成像感測器與一晶圓的邊緣對準用以將被該成像感測器的視野的深度所圍繞的區域最大化。一或多個感測器可被用來捕捉該晶圓邊緣的影像。
Abstract in simplified Chinese: 一种用来捕捉一晶圆边缘的斜面的影像之成像传感器(imagingsensor)于本文中被揭露。该成像传感器与一晶圆的边缘对准用以将被该成像传感器的视野的深度所围绕的区域最大化。一或多个传感器可被用来捕捉该晶圆边缘的影像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201903926A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107119848
申请日：2018-06-08
Applicant: 美商魯道夫科技股份有限公司 , RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
Inventor： 雪佛 約翰 , SCHAEFER, JOHN , 沃吉斯 克里斯多夫 , VOGES, CHRISTOPHER J. , 史密斯 尼可拉斯 , SMITH, NICHOLAS , 崔普陶 傑夫 , TREPTAU, JEFF
Abstract: 一種檢測系統，包含：雷射；倍率改變器；及第一相機。雷射將線投影到要檢測的晶圓上。倍率改變器，包含複數個不同倍率的可選透鏡。第一相機，用於對投影到所述晶圓上的線成像並輸出指示所述晶圓的特徵的高度的三維線資料。倍率改變器的每個透鏡提供所述第一相機相對於所述晶圓的相同標稱焦平面位置。
Abstract in simplified Chinese: 一种检测系统，包含：激光；倍率改变器；及第一相机。激光将线投影到要检测的晶圆上。倍率改变器，包含复数个不同倍率的可选透镜。第一相机，用于对投影到所述晶圆上的线成像并输出指示所述晶圆的特征的高度的三维线数据。倍率改变器的每个透镜提供所述第一相机相对于所述晶圆的相同标称焦平面位置。
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公开(公告)号：TWI597491B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW102135080
申请日：2013-09-27
Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 , RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
CPC classification number: G01N21/8806 , G01B11/02 , G01B11/06 , G01N21/9501 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G01N2201/02 , G01N2201/062 , G01N2201/10
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公开(公告)号：TWI580948B
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW101138266
申请日：2012-10-17
Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 , RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
Inventor： 畢夏普 羅伯特 , BISHOP, ROBERT , 品奇 提摩西 , PINKNEY, TIMOTHY
IPC: G01N21/88 , G01N21/956 , G02B27/40
CPC classification number: H04N5/2356 , G01N21/6456 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/6463 , G01N2021/95638 , G01N2201/0612 , G01N2201/062 , G01N2201/10 , G03B13/36 , H04N5/332 , H04N5/37206 , H04N5/378 , H04N7/18
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公开(公告)号：TWI564556B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW100123354
申请日：2011-07-01
Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 , RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
Inventor： 周威 , ZHOU, WEI , 格蘭特 麥奇 , GRANT, MITCH
IPC: G01N21/956
CPC classification number: G06T7/0004 , G02B21/006
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公开(公告)号：TWI548869B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW101102839
申请日：2012-01-30
Applicant: 魯道夫科技股份有限公司 , RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
Inventor： 米亨戴爾 曼珠沙 , MEHENDALE, MANJUSHA , 柯特爾洋斯基 麥可J , KOTELYANSKII, MICHAEL J. , 摩肯漢 布利亞 , MUKUNDHAN, PRIYA , 柯根 麥可 , COLGAN, MICHAEL , 周偉 , ZHOU, WEI
IPC: G01N21/17
CPC classification number: G01J1/0448 , G01N21/1702 , G01N21/1717 , G01N21/47 , G01N21/55 , G01N21/636 , G01N21/9501
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