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    回路基板、回路基板の製造方法及び電子装置
    31.
    发明专利
    回路基板、回路基板の製造方法及び電子装置 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2017183146A1

    公开(公告)日：2018-11-22

    申请号：JP2016062589

    申请日：2016-04-21

    Applicant: 富士通株式会社

    Inventor： 古山 昌治 ,  水谷 大輔 ,  赤星 知幸 ,  小出 正輝 ,  渡邊 真名武 ,  山脇 清吾 ,  福井 慧

    IPC: H01L23/12 ,  H05K3/46

    CPC classification number: H05K3/46

    Abstract: キャパシタを内蔵する回路基板の、加熱による信頼性及び性能の低下を抑える。 回路基板(1)は、絶縁層(20)内に設けられたキャパシタ(10)を有する。キャパシタ(10)は、誘電体層(11)と、誘電体層(11)の一方の面に設けられ開口部(12a)を有する電極層(12)と、誘電体層(11)の他方の面に設けられ開口部(12a)と対応する位置に凹部(13a)を有する電極層(13)とを含む。回路基板(1)には、誘電体層(11)、開口部(12a)及び凹部(13a)を貫通し、電極層(13)の凹部(13a)に接し、平面視で電極層(12)の開口部(12a)よりも小さい導体ビア(31)が設けられる。

    回路基板、回路基板の製造方法及び電子装置
    32.
    发明专利
    回路基板、回路基板の製造方法及び電子装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018148167A

    公开(公告)日：2018-09-20

    申请号：JP2017044816

    申请日：2017-03-09

    Applicant: 富士通株式会社

    Inventor： 赤星 知幸 ,  水谷 大輔

    IPC: H01G4/12 ,  H01G4/33 ,  H01L23/12 ,  H05K1/02 ,  H05K3/46

    Abstract: 【課題】回路基板に内蔵されるキャパシタのその誘電体層上に設けられる導体層の開口部における気泡の残存を抑える。 【解決手段】回路基板1は、キャパシタ10と、キャパシタ10上に設けられた接着層20aと、接着層20a上に設けられた絶縁層30aとを含む。キャパシタ10は、誘電体層11と、誘電体層11の一方の面11aに設けられ開口部12aaを備える電極層12aと、誘電体層11の他方の面11bに設けられた電極層12bとを有する。絶縁層30aは、キャパシタ10の電極層12aが備える開口部12aaと対応する部位に突起部30aaを有する。突起部30aaによって接着層20aが開口部12aa内に充填され、開口部12aa内の気泡の残存が抑えられる。 【選択図】図2

    回路基板、電子機器、及び回路基板の製造方法
    36.
    发明专利
    回路基板、電子機器、及び回路基板の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017107934A

    公开(公告)日：2017-06-15

    申请号：JP2015239369

    申请日：2015-12-08

    Applicant: 富士通株式会社

    Inventor： 岩井 俊樹 ,  水谷 大輔

    IPC: H05K3/46 ,  H01L23/12 ,  H01L23/15

    Abstract: 【課題】 ガラス基材へのクラックの発生を抑制した回路基板を実現する技術を提供することを課題とする。 【解決手段】 一括積層プレスされた複数のガラス基材と、前記複数のガラス基材の間に配置される樹脂層と、前記ガラス基材を厚さ方向に貫通する貫通ビアと、を有し、前記貫通ビアは、メッキ層で形成される第1導体部と、導電性ペーストで形成される第2導体部とを有し、前記第1導体部と前記第2導体部は少なくとも前記貫通ビアの高さ方向に2層となる。 【選択図】図1

    測定装置、測定方法及び測定プログラム
    39.
    发明专利
    測定装置、測定方法及び測定プログラム 审中-公开
    测量设备，测量方法和测量程序

    公开(公告)号：JP2016133363A

    公开(公告)日：2016-07-25

    申请号：JP2015007346

    申请日：2015-01-19

    Applicant: 富士通株式会社

    Inventor： 倉科 守 ,  水谷 大輔

    IPC: G01B11/24

    Abstract: 【課題】測定対象の反り等の形状に関する適正な情報を得る。 【解決手段】測定装置10は、測定対象1に対向配置されるグレーティング2に対し、その垂直面2aの一方側から角度α 1 で波長λ 1 の第1光4aを照射する第1光源4と、他方側から角度α 2 で、波長λ 1 とは異なる波長λ 2 の第2光5aを照射する第2光源5とを含む。測定装置10は更に、グレーティング2の測定対象1側と反対の側に配置され、測定対象1に対向配置されるグレーティング2に対して第1光4aと第2光5aとが共に照射される時に生成される干渉縞を撮像する撮像部3を含む。測定装置10を用い、第1光4aと第2光5aのいずれか一方で生じ得る影の影響を抑えた干渉縞の像を得て、その像を基に、測定対象1の反り等の形状に関する適正な情報を得る。 【選択図】図5

    Abstract translation: 要解决的问题：获得关于测量对象的诸如翘曲的形状的适当信息。解决方案：测量装置10包括：第一光源4，用于照射设置在与测量对象1相对的第一光的光栅2 4a，其距离光栅2的垂直平面2a的一侧为角度α; 以及第二光源5，用于从另一侧以角度α照射波长λ不同于波长λ的第二光5a。 测量装置10还包括图像捕获单元3，用于捕获当面向测量对象1设置的光栅2被照射第一光源4a和第二光源5a并且设置在第一光源5a的一侧时产生的干涉条纹的图像 光栅2与测量对象1侧相对。 使用测量装置10，获得其中抑制由第一光4a或第二光5a所引起的影响的影响的干涉条纹的图像，并且获得关于形状的适当信息，例如翘曲 测量对象1是基于图像获得的

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